事業の内容
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３【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社34社、関連会社９社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理（自然酸化膜除去等）装置、超高真空装置他 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、真空蒸着装置、巻取式真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 コンポーネント 真空ポンプ（ドライポンプ、メカニカルブースタポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、油拡散ポンプ）、真空計、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、蒸着用蒸発源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、極低温機器、各種真空部品他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、リークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属（Ta、Nb、W、Mo）他 その他 Ｘ線光電子分光分析装置、走査型オージェ電子分光分析装置、飛行時間型二次イオン質量分析装置、四重極型二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（セグメント情報等）」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 ＣＶＤ装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。 真空蒸着装置 真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。…
経営方針・経営戦略・対処すべき課題
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１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1）会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針に基づき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化（モジュール化、ユニット化）を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2）経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調が続いたものの、不安定な金融市場や通商政策の動向、地政学リスクの高まりなどにより、景気の先行きに対する不透明感が高まりました。 当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界においては、生成AIの急速な普及を背景として、先端ロジック、広帯域幅メモリ（HBM）及び先端パッケージングなどに向けた投資が市場を牽引しました。また、経済安全保障やサプライチェーン強靭化の観点から、世界各地で半導体工場の新増設が進展しました。エレクトロニクス業界においては、パワーデバイス向け設備投資に調整が見られたものの、AI・データセンター向け需要の拡大などを受け、社会のデジタル化を背景とした各種電子デバイスの技術革新や増産投資は堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、IT製品への有機EL採用拡大に伴うパネル大型化投資が継続しております。加えてレアアース磁石分野において、サプライチェーンの多角化に向けた投資が本格化しております。 (3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題 当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。…
対処すべき課題
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１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1）会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針に基づき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化（モジュール化、ユニット化）を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2）経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調が続いたものの、不安定な金融市場や通商政策の動向、地政学リスクの高まりなどにより、景気の先行きに対する不透明感が高まりました。 当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界においては、生成AIの急速な普及を背景として、先端ロジック、広帯域幅メモリ（HBM）及び先端パッケージングなどに向けた投資が市場を牽引しました。また、経済安全保障やサプライチェーン強靭化の観点から、世界各地で半導体工場の新増設が進展しました。エレクトロニクス業界においては、パワーデバイス向け設備投資に調整が見られたものの、AI・データセンター向け需要の拡大などを受け、社会のデジタル化を背景とした各種電子デバイスの技術革新や増産投資は堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、IT製品への有機EL採用拡大に伴うパネル大型化投資が継続しております。加えてレアアース磁石分野において、サプライチェーンの多角化に向けた投資が本格化しております。 (3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題 当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。…
経営成績・財政状態の概況
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４【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1）経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下「経営成績等」という。）の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度における世界経済は、緩やかな回復基調が続いたものの、不安定な金融市場や通商政策の動向、地政学リスクの高まりなどにより、景気の先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界においては、生成AIの急速な普及を背景として、先端ロジック、広帯域幅メモリ（HBM）及び先端パッケージングなどに向けた投資が市場を牽引しました。また、経済安全保障やサプライチェーン強靭化の観点から、世界各地で半導体工場の新増設が進展しました。エレクトロニクス業界においては、パワーデバイス向け設備投資に調整が見られたものの、AI・データセンター向け需要の拡大などを受け、社会のデジタル化を背景とした各種電子デバイスの技術革新や増産投資は堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、IT製品への有機EL採用拡大に伴うパネル大型化投資が継続しております。加えてレアアース磁石分野において、サプライチェーンの多角化に向けた投資が本格化しております。 このような状況において、当連結会計年度につきましては、受注高は3,242億28百万円(前年同期比986億61百万円(43.7％)増)、売上高は2,691億30百万円(同179億46百万円(7.1％)増)となりました。また、損益面では、営業利益は195億98百万円(同69億25百万円(26.1％)減)、経常利益は199億８百万円(同86億96百万円(30.4％)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は170億92百万円(同４億４百万円(2.4％)増)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」 真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 （半導体及び電子部品製造装置） ロジック、メモリ、先端パッケージング分野が好調に推移し、受注高は前年同期を上回りました。一方で、日本及び中国のパワーデバイス投資の調整により、売上高は前年同期を下回りました。 （ディスプレイ・エネルギー関連製造装置） 有機ELパネルの大型化に向けた設備投資や改造案件が寄与し、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 （コンポーネント） 半導体、電子部品及び民生機器関連向けに、真空ポンプ、計測機器、電源機器などが堅調に推移しました。 なお、従来コンポーネントに含まれていたリークテスト装置については、当期から一般産業用装置に区分を変更しています。…
セグメント関連
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３．報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報並びに収益の分解情報 前連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日） （単位：百万円） 報告セグメント 調整額 (注)１ 連結財務諸表 計上額 (注)２ 真空機器事業 真空応用事業 売上高 一時点で移転される財又はサービス 78,465 41,628 120,093 120,093 一定の期間にわたり移転される財又はサービス 120,584 10,506 131,091 131,091 顧客との契約から生じる収益 199,050 52,134 251,184 251,184 外部顧客への売上高 199,050 52,134 251,184 251,184 セグメント間の内部売上高又は 振替高 634 3,185 3,820 △ 3,820 199,684 55,319 255,003 △ 3,820 251,184 セグメント利益 21,877 4,533 26,410 113 26,523 セグメント資産 309,190 64,946 374,136 927 375,062 その他の項目 減価償却費 8,637 2,179 10,816 △ 12 10,805 有形固定資産及び無形固定資産の 増加額 13,192 2,523 15,715 15,715 （注）１．調整額は、以下のとおりであります。 (1）売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2）セグメント資産の調整額は、長期投資資産（投資有価証券）等であります。 ２．セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 ３．顧客との契約から生じる収益以外の収益の額については重要性がないことから、顧客との契約から生じる収益と区分して表示しておりません 。…
主要な顧客・販売先
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２．主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 （百万円） 割合 （％） 真空機器事業 半導体及び電子部品製造装置 88,328 42.0 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 63,711 30.2 コンポーネント 36,542 17.3 一般産業用装置 22,179 10.5 210,759 100.0 真空応用事業 材料 27,892 47.8 その他 30,478 52.2 58,370 100.0 (2）経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容 当連結会計年度における当社グループの経営成績は、売上高は2,691億30百万円（前年同期比7.1％増）となりました。半導体及び電子部品製造装置において、ロジック・メモリ・先端パッケージング分野が好調に推移したことやディスプレイ分野において有機ELの面積拡大化による設備投資や改造案件が寄与したことに加え、レアアース磁石分野において、サプライチェーンの多角化に向けた設備投資が本格化したことが主な要因となります。 営業利益率は7.3％（前年同期比3.3ポイント減）となりました。これはEV関連の一過性費用等の計上やディスプレイ関連ビジネスの売上増加等による製品ミックスの変化が主な要因となります。 なお、研究開発費の総額は146億11百万円となり、前年同期から６億20百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は前年同期比で0.2ポイント減少し5.4％となりましたが、将来のさらなる成長に向けて、半導体電子を中心に研究開発力強化のための投資を継続してまいります。 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「１ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等（3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは持続的な成長の実現を目指し、2026年６月期を初年度とする６年間の中長期経営計画「バリューアッププラン」を推進しております。経営資源を最適化し、半導体電子中心の事業ポートフォリオへの転換を加速させるとともに、高成長・高収益体質への変革を通じて、企業価値の向上を目指しております。 中長期経営計画の数値目標としては、2031年６月期の売上高3,600億円、営業利益790億円、営業利益率22%、ROE16%としております。…