事業の内容
抜粋表示
/ 原文長 約1338文字
3【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社36社、関連会社8社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 FPD製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置他 コンポーネント 真空ポンプ(ドライポンプ、油回転ポンプ、メカニカルブースタポンプ、油拡散ポンプ、イオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ)、真空計、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、各種真空部品他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、真空蒸留装置、ヘリウムリークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、表面処理、超微粒子(ナノメタルインク)他 その他 オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等(1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 CVD装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。 真空蒸着装置 真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。…
経営方針・経営戦略・対処すべき課題
抜粋表示
/ 原文長 約3993文字
1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2)経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、地政学リスクの高まり等に伴う各種材料や部品の価格上昇やサプライチェーンの混乱、そして世界的な金融引き締めに伴う景気後退懸念の高まり等から、その先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、スマートフォンやパソコン等の需要減速に伴う短期的な半導体メーカーの設備投資の鈍化が認められるものの、中長期的には、生成AIへの期待等も相俟った半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学リスク対応等の観点からの世界各地での半導体工場新増設計画も進められています。また、エレクトロニクス業界では、グリーンエネルギー政策等に基づくEV導入促進政策の進展等に伴ったパワーデバイス投資、スマート社会化構想等に基づくデジタル化の促進やメタバースの実現等に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産のための投資、中国におけるエレクトロニクス国産化政策に基づく投資等が継続的に拡大しています。そして、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、タブレットやパソコン用のITパネルが液晶から有機ELへの転換期にあり、大型基板の有機EL投資が今後増加することが期待されています。また、産業用電池業界においても、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上の実現に向けた量産投資が本格化しはじめています。…
対処すべき課題
抜粋表示
/ 原文長 約3993文字
1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2)経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、地政学リスクの高まり等に伴う各種材料や部品の価格上昇やサプライチェーンの混乱、そして世界的な金融引き締めに伴う景気後退懸念の高まり等から、その先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、スマートフォンやパソコン等の需要減速に伴う短期的な半導体メーカーの設備投資の鈍化が認められるものの、中長期的には、生成AIへの期待等も相俟った半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学リスク対応等の観点からの世界各地での半導体工場新増設計画も進められています。また、エレクトロニクス業界では、グリーンエネルギー政策等に基づくEV導入促進政策の進展等に伴ったパワーデバイス投資、スマート社会化構想等に基づくデジタル化の促進やメタバースの実現等に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産のための投資、中国におけるエレクトロニクス国産化政策に基づく投資等が継続的に拡大しています。そして、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、タブレットやパソコン用のITパネルが液晶から有機ELへの転換期にあり、大型基板の有機EL投資が今後増加することが期待されています。また、産業用電池業界においても、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上の実現に向けた量産投資が本格化しはじめています。…
経営成績・財政状態の概況
抜粋表示
/ 原文長 約3160文字
4【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1)経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、地政学リスクの高まり等に伴う各種材料や部品の価格上昇やサプライチェーンの混乱、そして世界的な金融引き締めに伴う景気後退懸念の高まり等から、その先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、スマートフォンやパソコン等の需要減速に伴う短期的な半導体メーカーの設備投資の鈍化が認められるものの、中長期的には、生成AIへの期待等も相俟った半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学リスク対応等の観点からの世界各地での半導体工場新増設計画も進められています。また、エレクトロニクス業界では、グリーンエネルギー政策等に基づくEV導入促進政策の進展等に伴ったパワーデバイス投資、スマート社会化構想等に基づくデジタル化の促進やメタバースの実現等に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産のための投資、中国におけるエレクトロニクス国産化政策に基づく投資等が継続的に拡大しています。そして、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、タブレットやパソコン用のITパネルが液晶から有機ELへの転換期にあり、大型基板の有機EL投資が今後増加することが期待されています。また、産業用電池業界においても、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上の実現に向けた量産投資が本格化しはじめています。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,472億21百万円(前年同期比228億74百万円(8.5%)減)、売上高は2,275億28百万円(同137億32百万円(5.7%)減)となりました。また、損益面では、営業利益は199億46百万円(同101億15百万円(33.6%)減)、経常利益は228億80百万円(同93億19百万円(28.9%)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は141億69百万円(同60億42百万円(29.9%)減)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」 真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 (FPD製造装置) 前年度にITパネル用液晶投資が活発化しましたが、その反動減の影響により、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。…
セグメント関連
抜粋表示
/ 原文長 約1533文字
3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報並びに収益の分解情報 前連結会計年度(自 2021年7月1日 至 2022年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 一時点で移転される財又はサービス 71,836 32,638 104,474 104,474 一定の期間にわたり移転される財又はサービス 128,262 8,524 136,787 136,787 顧客との契約から生じる収益 200,098 41,162 241,260 241,260 外部顧客への売上高 200,098 41,162 241,260 241,260 セグメント間の内部売上高又は 振替高 3,934 2,137 6,070 △ 6,070 204,032 43,299 247,331 △ 6,070 241,260 セグメント利益 27,129 2,930 30,060 30,061 セグメント資産 298,347 53,475 351,822 2,482 354,304 その他の項目 減価償却費 6,556 2,042 8,598 △ 11 8,587 有形固定資産及び無形固定資産の 増加額 9,696 1,351 11,047 11,047 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 3.顧客との契約から生じる収益以外の収益の額については重要性がないことから、顧客との契約から生じる収益と区分して表示しておりません 。…
主要な顧客・販売先
抜粋表示
/ 原文長 約2973文字
2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 (百万円) 割合 (%) 真空機器事業 FPD製造装置 52,759 28.6 半導体及び電子部品製造装置 77,693 42.0 コンポーネント 32,381 17.5 一般産業用装置 21,927 11.9 184,760 100.0 真空応用事業 材料 19,701 46.1 その他 23,067 53.9 42,768 100.0 (2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容 当連結会計年度における当社グループの経営成績は、売上高は2,275億28百万円(前年同期比5.7%減)となりました。半導体及び電子部品製造装置において、ロジック向けの投資の寄与に加えてパワーデバイス・オプトデバイス、中国のエレクトロニクス国産化に向けた投資等が活発化しているものの、半導体製造装置の一部ではスマートフォンやパソコンなどの需要減速や半導体メモリの在庫調整に伴い足元の半導体メーカーの設備投資が鈍化していることや、FPD製造装置において前年度活発化したITパネル用液晶投資の反動減が影響したことが主な要因となります。 営業利益率は8.8%(前年同期比3.7ポイント減)となり前年同期から悪化しました。これはFPD製造装置における売上高の減少に加え、先行投資となる半導体関連等の研究開発費増加が主な要因となります。 なお、研究開発費の総額は137億66百万円となり、前年同期から34億25百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は前年同期から1.8ポイント増加し6.1%となりました。研究開発力強化は、中期経営計画における主な取組みのひとつであり、将来の成長に向けた投資を引き続き強化しております。 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等(3)優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは2024年6月期を初年度とする3年間の中期経営計画を策定致しましたが、この中期経営計画において、「真空技術による社会的価値創造」及び「利益・資本効率重視の経営」の2つの基本方針を掲げております。この方針のもと、売上高、売上総利益率、営業利益率、営業キャッシュ・フロー、ROE(自己資本利益率)を中期経営計画上の財務モデルにおける指標としております。…