株式会社 アルバック

証券コード: 6728 / 対象年度: 2019 / 提出日: 2019-09-27
業種 電気機器

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このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

真空技術を基盤とした真空総合メーカー。真空装置・機器を提供する「真空機器事業」と、材料や表面分析装置を提供する「真空応用事業」の2つの主要事業を展開。半導体、FPD、電子部品、自動車関連など、幅広い産業分野に製品を提供しており、真空技術の多角的な活用によるシナジー効果を強みとしています。

主な事業領域

真空技術を基盤とした真空装置・機器の提供、および真空技術の周辺技術を基盤とした材料や表面分析装置等の提供。

主な製品・サービス

  • スパッタリング装置
  • CVD装置
  • エッチング装置
  • 真空蒸着装置
  • 真空熱処理炉
  • 真空ポンプ
  • 各種真空計
  • スパッタリングターゲット材料
  • 蒸着材料
  • 表面分析装置

ビジネスモデル

真空装置・機器の提供および、真空技術の周辺技術を活用した材料や分析装置の提供により、多岐にわたる産業分野へ製品を提供し、収益を得る。

セグメント・事業構成

真空機器事業(FPD・PV製造装置、半導体・電子部品製造装置、コンポーネント、一般産業用装置)、真空応用事業(材料、その他)

戦略・方向性

顧客満足の増進、生産技術の革新、独創的な商品開発、自由闊達な組織、企業価値の向上。また、人財の育成、技術革新に伴う市場への対応、生産性の向上を推進。

強みとして読み取れる点

  • 真空技術および周辺技術の総合利用によるシナジー効果
  • 幅広い事業領域(装置、材料、成膜加工、分析、サービス)の展開

課題として読み取れる点

  • 半導体・電子部品製造装置の需要の鈍化による影響
  • 世界的な技術革新に伴う市場の変化への迅速な順応

確認ポイント

  • 半導体・電子部品市場の動向
  • FPD・PV市場の動向
  • 新技術・新市場への対応に向けた戦略的マーケティングの強化

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、セグメント、経営戦略、主要製品が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

FPD、半導体、電子部品市場の変動(顧客投資縮小や財務悪化)、研究開発の遅延による新製品投入の遅れ、為替変動による価格競争力の低下、品質問題による追加原価発生や信頼低下、第三者からの特許侵害訴訟、財務制限条項への抵触による資金調成への支障、および輸出入・環境規制等の法令遵守に関するリスクがある。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を核とした多角的な事業展開と、次世代半導体・ディスプレイ技術への対応に向けた積極的なR&D投資が強み。市場変動リスクは存在するものの、高度な専門性とグローバルな体制で持続的成長を目指す。

成長方針

真空技術の高度化(情報、省エネ、創エネ)への対応、グローバルな戦略的マーケティング強化、パートナーシップ拡大、生産性向上に向けたIT活用とサプライチェーン強化。

資本政策

研究開発投資、設備投資、および事業運営に必要な運転資金を、営業活動によるキャッシュ・フローおよび金融機関からの借入金等で調達。安定した財務基盤に基づく投資継続。

リスク対応方針

市場変動(FPD、半導体等)、研究開発遅延、為替変動、品質管理、知的財産権保護、資金調達の安定性、法令遵守への多角的なリスク特定と対応体制の構築。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

アルバックは、高度な真空技術を核とした装置・材料の統合提供により強固な競争力を有する。半導体や有機ELといった成長分野において、次世代プロセスに対応するための研究開発と設備投資を積極的に継続しており、中長期的な技術優位性を確保する戦略をとっている。

設備投資の方向性

半導体・電子部品向け装置の評価用および研究開発用機械装置への積極的な投資。また、真空応用事業における先端材料や分析機器関連の設備拡充。

研究開発・商品開発

次世代技術(高度情報化、省エネ・創エネ)に向けた重点的なR&D投資を継続。特にFPD/半導体向けの新機能ユニット、新材料開発、および高精度な計測・評価用装置の更新・新設に注力。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置
  • 真空技術
  • 次世代メモリ(NAND/DRAM)
  • 有機ELディスプレイ
  • 高度分析機器

関連キーワード

  • スパッタリング
  • CVD
  • エッチング
  • クライオポンプ
  • ナノテクノロジー
  • 表面分析

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2018-07-01 〜 2019-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2019-09-27

財務情報

業績

売上高

2,207.21億円
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営業利益

238.28億円
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経常利益

255.75億円
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税引前利益

271.48億円
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親会社帰属利益

186.65億円
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財政状態・流動性

総資産

2,823.02億円
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1,575.88億円
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1,455.22億円
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現金及び現金同等物

558.59億円
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キャッシュフロー

3区分

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+182.82億円
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財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
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確認事項

開示上の確認事項

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2018-07-01 〜 2019-06-30
表示状況
表示可能
選定状況
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有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約1415文字

3【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社43社、関連会社9社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、真空蒸着装置、太陽電池製造装置、巻取式蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置他 コンポーネント 真空ポンプ(ドライポンプ、油回転ポンプ、メカニカルブースタポンプ、油拡散ポンプ、スパッタイオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ)、各種真空計、ヘリウムリークディテクタ、各種ガス分析計、分光エリプソメータ、各種電源、成膜コントローラ、各種真空バルブ、各種真空部品(導入端子、真空覗き窓、真空用マニピュレータ他)、真空搬送ロボット・真空搬送プラットフォーム他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、真空蒸留装置、ヘリウムリークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、表面処理、超微粒子(ナノメタルインク)他 その他 オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 CVD装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約2043文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続してきましたが、足元では需要の鈍化等により新規設備投資延期の動きが出ております。しかしながら、中長期的にはスマート社会の進展に向けた投資が活発化するものとみられます。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として継続しました。また、スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。 現在、IoT・5G・AIなどに代表されるスマート社会の実現という大きな技術革新の波がきています。当社グループが取り扱う事業領域においては、新しい半導体・電子部品の需要が高まる徴候がすでに認められており、これらの需要は今後より一層高くなるものと認識しております。このようなスマート社会の実現を支える技術革新は、いずれも真空薄膜技術を活用するものと期待されることから、当社グループの事業は大きくこの技術革新に貢献できるものと考えております。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約2043文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続してきましたが、足元では需要の鈍化等により新規設備投資延期の動きが出ております。しかしながら、中長期的にはスマート社会の進展に向けた投資が活発化するものとみられます。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として継続しました。また、スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。 現在、IoT・5G・AIなどに代表されるスマート社会の実現という大きな技術革新の波がきています。当社グループが取り扱う事業領域においては、新しい半導体・電子部品の需要が高まる徴候がすでに認められており、これらの需要は今後より一層高くなるものと認識しております。このようなスマート社会の実現を支える技術革新は、いずれも真空薄膜技術を活用するものと期待されることから、当社グループの事業は大きくこの技術革新に貢献できるものと考えております。…

経営成績・財政状態の概況

抜粋表示 / 原文長 約3407文字

3【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1)経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度におけるわが国経済は、輸出や生産の一部に弱さもみられるものの設備投資が増加するなど、緩やかに回復してきました。米国では、個人消費や設備投資の増加などにより景気の回復が続いてきました。欧州では、消費が緩やかに増加するなど、景気は緩やかに回復してきました。中国では、各種政策効果もあり景気の持ち直しの動きが続いてきましたが、このところ消費、輸出の伸びが低下するなど緩やかに減速してきました。 当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続してきましたが、足元では需要の鈍化等により新規設備投資延期の動きが出ております。しかしながら、中長期的にはスマート社会の進展に向けた投資が活発化するものとみられます。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として継続しました。また、スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,185億47百万円(前年同期比244億33百万円(10.1%)減)、売上高は2,207億21百万円(同285億50百万円(11.5%)減)となりました。また、損益面では、営業利益は238億28百万円(同115億23百万円(32.6%)減)、経常利益は255億75百万円(同113億32百万円(30.7%)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は186億65百万円(同172億39百万円(48.0%)減)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」 真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 (FPD及びPV製造装置) FPD製造装置は、中国を中心としたテレビ向け大型液晶製造装置やスマートフォン向け有機EL製造装置などの受注を計上しましたが、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。 (半導体及び電子部品製造装置) 半導体関連は、NANDフラッシュメモリやDRAM、次世代不揮発性メモリ向けスパッタリング装置や自然酸化膜除去装置などが、足元のメモリ関連投資の減速を受け、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。…

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約1107文字

3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報 前連結会計年度(自 2017年7月1日 至 2018年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 216,652 32,619 249,271 249,271 セグメント間の内部売上高又は 振替高 2,822 1,786 4,607 △ 4,607 219,474 34,405 253,878 △ 4,607 249,271 セグメント利益 32,411 2,957 35,368 △ 17 35,351 セグメント資産 237,918 37,112 275,030 22,388 297,418 その他の項目 減価償却費 5,165 1,378 6,543 △ 2 6,541 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 11,195 1,731 12,925 12,925 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 当連結会計年度(自 2018年7月1日 至 2019年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 187,698 33,023 220,721 220,721 セグメント間の内部売上高又は 振替高 3,445 1,718 5,163 △ 5,163 191,143 34,740 225,884 △ 5,163 220,721 セグメント利益 20,819 2,986 23,805 24 23,828 セグメント資産 232,409 39,420 271,830 10,472 282,302 その他の項目 減価償却費 5,575 1,373 6,948 △ 11 6,938 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 10,370 2,380 12,750 12,750 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。

主要な顧客・販売先

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2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 (百万円) 割合 (%) 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 86,751 46.2 半導体及び電子部品製造装置 43,327 23.1 コンポーネント 34,229 18.2 一般産業用装置 23,391 12.5 187,698 100.0 真空応用事業 材料 14,372 43.5 その他 18,651 56.5 33,023 100.0 3.上記の金額には、消費税等は含んでおりません。 (2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」提出日現在において当社グループが判断したものであります。 ①重要な会計方針及び見積り 当社グループの連結財務諸表は、我が国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づき作成されております。この連結財務諸表作成にあたって採用された重要な会計方針及び見積りについては、「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1) 連結財務諸表 注記事項 (連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項)」に記載のとおりであります。 なお、連結財務諸表の作成にあたっては、資産・負債及び収益・費用の報告金額及び開示情報に影響を与える見積り及び予測が必要となります。当社グループは、過去の実績や状況などを勘案し合理的な判断のもと継続的に見積り及び予測を行っておりますが、実際の結果は、見積り特有の不確実性により、これらの見積りと異なる場合があります。 ②当連結会計年度の経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容 a.経営成績等 当社グループの当連結会計年度の経営成績については、売上高は、2,207億21百万円(前連結会計年度比11.5%減)となりました。主力のFPD・PV製造装置においては、大型TV向けLCD装置の商談が一巡し当社客先のOLED投資も来年度を見込むことから前年度を下回る水準となりました。半導体・電子部品製造装置においては過年度にメモリ各社が活発な投資を行いましたが供給過剰となり価格が下落、各社が投資を延期したため、半導体製造装置の売上高が減少しました。 営業利益率は10.8%(前連結会計年度比3.4ポイント減)となり、前年度を下回りました。これは主に、利益率の高い半導体・電子部品製造装置の売上高が減少したこと、貸倒引当金繰入額や研究開発費の増加などにより販売費及び一般管理費が増加したことが要因です。 なお、研究開発費の売上高に対する比率は前連結会計年度から0.8ポイント増加し4.…

リスクに関する有報本文

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事業等のリスクの原文を表示

事業等のリスク

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2【事業等のリスク】 当社グループの業績、財務状況等に影響を及ぼす可能性のある主なリスク要因は、以下のとおりです。なお、本文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」の提出日現在において当社グループで判断したものであります。 ①FPD、半導体及び電子部品の市場変動による影響 当社グループは、特にFPD、半導体及び電子部品などの製造工程で使われる真空装置の分野において、独自技術の開発を行って市場投入することにより、同分野におけるシェアを獲得して成長してまいりました。その反面、当社グループの取引先であるFPDメーカー、半導体及び電子部品メーカーの設備投資の大幅な縮小が発生した場合や取引先である顧客の財務状況が悪化した場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ②研究開発による影響 当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてきました。しかしながら、開発の著しい遅延が余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ③外国為替変動による影響 当社グループの海外売上高比率は高いため、原則として円建取引をしております。しかしながら、当該円建取引では、円高時において価格競争力の面で海外メーカーと比較して不利となることがあります。また、例外的に外貨建取引を行った場合においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ④品質に関する影響 当社グループは、ISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、高レベルのサービスを提供し続けてきました。しかしながら、常に先端技術を利用した製品を提供していることから、開発的要素も多く、予期せぬ不良が発生し、多額の追加原価の発生や信頼低下による売上高減少を招いた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ⑤知的財産権に関する影響 当社グループは、各種真空装置に関する多数の特許を保有し、積極的に新規権利獲得にも努めています。同時に、当社グループの製品に関する第三者の特許調査も行っております。しかしながら、第三者から不測の特許侵害訴訟が提起された場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ⑥資金調達に関する影響 当社グループの借入金にかかる金融機関との契約には、財務制限条項が付されているものがあります。当該財務制限条項に抵触し資金調達に支障が生じた場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

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5【研究開発活動】 当社グループは、真空技術を応用した次世代・最先端の分野における研究開発活動を経営の重要な柱に位置付けており、当連結会計年度における研究開発活動は、当社を中心として以下のとおり実施いたしております。 国内外の各開発拠点において競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。 今後成長が見込まれる「情報の高度化」分野、「省エネ・創エネ」分野においては、重要領域を定め重点的な開発投資を行うことで、スピードを重視した開発を進めております。 当連結会計年度における研究開発費の総額は 9,209 百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。 (真空機器事業) 当社の事業の柱であるフラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体、高機能電子デバイス用装置などの電子デバイスの各分野に開発投資を行い、新製品や新技術を創出、受注にも貢献しております。 また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行っております。 当セグメントに係る研究開発費は 8,784 百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。 (1)FPD製造装置 液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ及びフレキシブルディスプレイなどの分野における次世代技術への開発投資を行っております。 高精細化してゆく液晶ディスプレイや有機ELディスプレイに対して、製品歩留まりを改善するための技術開発(スパッタリング装置等における低発塵新搬送機構、マスク合わせ精度向上)や成膜性能を向上する新ユニット開発、新材料開発等、総合的な成膜技術向上を進めております。厳しさを増す市場要求水準に合った評価のために各種測定設備等の更新・新設を行い、開発をスピードアップさせております。 また、今後採用の拡大が予想される酸化物半導体薄膜トランジスタ向けの新ターゲット材料開発を行うとともに、スパッタリング成膜プロセス開発も進めております。 (2)半導体及び電子部品製造装置 微細化、高積層化の進むDRAMおよび3次元NANDフラッシュメモリ工程用装置の性能向上を進めております。 また、今後大きく市場拡大が見込まれる次世代不揮発性メモリ分野において、市場要求に対応した材料・プロセス・装置を開発するとともに、最先端ロジック分野においてもプロセス・装置開発を行い、市場に投入しております。 電子部品製造装置においては、スマート社会化に向けた通信・オプト(光学膜)・MEMS・パワー半導体・電子実装の製造に適した装置・プロセスを開発し、販売を行っております。 (3)コンポーネント 真空ポンプや真空計測機器を始め、真空成膜に用いる電源新機種の開発を進めており、各種コンポーネントのラインナップを充実させております。…

設備投資等の概要

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2【主要な設備の状況】 (1)提出会社 (2019年6月30日現在) 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 土地 (面積千㎡) リース資産 その他 合計 本社・茅ヶ崎工場 (神奈川県茅ヶ崎市) 真空機器 事業 全社管理業務 研究開発業務 FPD及びPV製造装置 電子部品製造装置 一般産業用装置 コンポーネント 上記に関わる設備 8,741 5,990 603 (51) 70 410 15,814 993 富士裾野工場 (静岡県裾野市) 半導体製造装置に関わる設備 研究開発に関わる設備 1,366 5,359 3,028 (106) 59 97 9,909 171 千葉富里工場 (千葉県富里市) 研究開発に関わる設備 1,377 202 363 (25) 68 2,009 32 未来技術研究所 (茨城県つくば市) 154 91 81 (3) 333 千葉富里工場 (千葉県富里市) 真空応用 事業 ターゲット製造 設備 649 269 258 (18) 1,184 22 千葉山武工場 (千葉県山武市) 303 129 86 (31) 527 21 (2)国内子会社 (2019年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機械装置及び運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 アルバック東北株式会社 本社工場 (青森県八戸市) 真空機器事業 建物及び付帯設備他 712 176 ( - ) 59 78 1,025 296 アルバックテクノ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 メンテナンス等サービス設備 1,711 216 1,008 (20) 109 40 3,084 350 アルバック九州株式会社 本社工場 (鹿児島県霧島市) 真空機器事業 工場棟及び配管・動力等生産設備 882 72 (0) 152 16 1,124 291 アルバック機工株式会社 本社工場 (宮崎県西都市) 真空機器事業 小型真空ポンプ等生産設備 561 168 51 (50) 103 26 910 129 アルバック・クライオ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 クライオポンプ等生産設備 138 318 ( - ) 56 520 95 アルバック成膜株式会社 本社工場 (埼玉県秩父市) 真空応用事業 真空薄膜製品の生産設備 1,189 527 844 (56) 86 53 2,700 202 (3)在外子会社 (2019年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機…

その他の有報本文

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補足セクションの有報本文を表示

配当政策

抽出本文 / 原文長 約387文字

3【配当政策】 当社は、株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。 設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、当社はさらなる研究開発投資や財務基盤の強化に必要な内部留保の充実を図っていく所存です。株主の皆様への利益配当については、こうした財務基盤の状況や各年度の連結業績及び配当性向等を総合的に勘案し、実施してまいります。 当社は、期末配当による年1回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。 当期の配当につきましては上記の方針に基づき、1株につき105円と決定いたしました。 (注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。 決議年月日 株式の種類 配当金の総額(百万円) 1株当たり配当額(円) 2019年9月27日 定時株主総会 普通株式 5,182 105

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約585文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 (2019年6月30日現在) セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 4,909 真空応用事業 786 全社(共通) 729 合計 6,424 (注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。 2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 (2019年6月30日現在) 従業員数(名) 平均年齢(歳) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 1,335 42.3 15.6 8,173,032 セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 1,169 真空応用事業 67 全社(共通) 99 合計 1,335 (注)1.従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。 2.平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 3.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況 当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 有価証券報告書(通常方式)_20190927153218

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約8507文字

(1)【コーポレート・ガバナンスの概要】 ①コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方 当社は、「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学に貢献することを目指す」との経営基本理念のもと、企業価値を中長期的に向上させるため、コーポレート・ガバナンスの充実に努めております。このような観点から、当社は、株主のみならず、取引関係者、地域社会、従業員その他当社事業活動に関連する様々なステークホルダーの利益を尊重するとともに、企業倫理及び法令順守を徹底させつつ競争力のある効率的な経営を行うことを重視しております。 ②企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由 当社は、経営体制として、監査役会設置会社を採用しており、特に重要な機関として、取締役会、常勤役員会、監査役会、指名報酬等委員会等を設置しております。 まず、経営上重要な事項についての意思決定を行う機関として、取締役会を設置し、毎月1回の定時開催に加え、機動性確保の観点から必要に応じて臨時開催を行っております。取締役会は9名で構成されており、うち4名を社外取締役としています。社外取締役のうち3名を独立社外取締役として指定しております。このような体制により、経営上重要な事項についての迅速で効率的な判断とともに、公正中立で透明性の高い審議の実現及び業務執行の監督を実現しております。 次に、執行役員制度を導入し、各執行役員が取締役会からの委任に基づき、各担当業務について一定の責任と権限を付与される形で業務執行に従事しております。また、社内取締役及び執行役員の計15名より構成される常勤役員会を設置しています。常勤役員会は、毎月1回の定時開催を行うとともに必要に応じて臨時開催を行っております。このような体制により、各業務執行役員の責任と権限の明確化のもと、変化の激しい事業環境に適応したより柔軟で迅速な業務執行を実現しております。 更に、経営判断及び業務執行の監査・監督機関として監査役会を設置しております。監査役会は、4名から構成されており、うち2名を社外監査役とし、2名とも独立社外監査役として指定しております。また、監査役と独立性を保障された監査室や会計監査人との緊密な連携、取締役会や常勤役員会をはじめとする重要な会議への監査役の出席と意見陳述、代表取締役との定例会議等により、監査・監督機能の実効性を確保しています。このような体制により、各監査役が十分な情報を取得しつつ、厳正かつ公正中立で透明性が確保された監査・監督機能の発揮を実現しております。 加えて、取締役及び執行役員の指名、報酬等、特に客観的な判断が要求される重要事項についての議論を行う指名報酬等委員会を設置しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約47文字

4【経営上の重要な契約等】 当連結会計年度において、経営上の重要な契約等は行われておりません。

大株主の状況

抜粋表示 / 原文長 約3058文字

(6)【大株主の状況】 (2019年6月30日現在) 氏名又は名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口、信託口5、信託口9、信託口7、信託口1、信託口2、信託口6、信託口4) 東京都中央区晴海1-8-11 6,706 13.59 日本生命保険相互会社 大阪府大阪市中央区今橋3-5-12 3,242 6.57 TAIYO FUND, L.P. (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 2,546 5.16 JP MORGAN CHASE BANK 385151 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) 25 BANK STREET, CANARY WHARF, LONDON, E14 5JP, UNITED KINGDOM (東京都港区港南2-15-1 品川インターシティA棟) 2,380 4.82 株式会社みずほ銀行 東京都千代田区大手町1-5-5 1,916 3.88 株式会社三井住友銀行 東京都千代田区丸の内1-1-2 1,864 3.78 TAIYO HANEI FUND, L.P. (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 1,639 3.32 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 東京都港区浜松町2-11-3 1,452 2.94 SMBC日興証券株式会社 東京都千代田区丸の内3-3-1 1,232 2.50 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505227 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) P.O.BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02101 U.S.A. (東京都港区港南2-15-1 品川インターシティA棟) 1,039 2.11 24,015 48.66 (注) 1.2019年4月18日付でタイヨウ・ファンド・マネッジメント・カンパニー・エルエルシー及びその共同保有者により 公衆の縦覧に供された大量保有報告書(変更報告書)にて 、主要株主の異動を確認したため、2019年4月22日付で臨時報告書(主要株主の異動)を提出しております。 2.…

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100H1CM 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2019
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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