株式会社 アルバック

証券コード: 6728 / 対象年度: 2020 / 提出日: 2020-09-29
業種 電気機器

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このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

真空技術を基盤とした真空総合メーカー。真空装置・機器やサービスを提供する「真空機器事業」と、材料や表面分析装置などを提供する「真空応用事業」の2つの事業を展開。半導体、電子部品、FPD、太陽電池などの製造装置や、成膜材料、分析装置などを提供し、エレクトロニクス分野を中心に幅広い産業分野へ製品を提供している。

主な事業領域

真空技術を基盤とした真空機器事業(装置・機器・サービス)と、真空技術の周辺技術を基盤とした真空応用事業(材料・分析装置等)を展開。

主な製品・サービス

  • スパッタリング装置
  • CVD装置
  • エッチング装置
  • 真空蒸着装置
  • 真空熱処理炉
  • 真空ポンプ
  • 各種真空計
  • スパッタリングターゲット材料
  • 蒸着材料
  • 表面分析装置
  • マスクブランクス

ビジネスモデル

真空装置・機器の提供および、真空技術に関連する材料や分析装置の提供により、製造装置や成膜技術に関連する製品・サービスを提供。

セグメント・事業構成

真空機器事業(装置、機器、サービス)と真空応用事業(材料、分析装置等)の2つのセグメントに区分される。

戦略・方向性

中期経営計画「Breakthrough 2022」に基づき、半導体・電子部品分野での投資拡大、生産技術の革新(標準化・モジュール化)、および強みである真空薄膜形成技術の活用によるシナジー創出とグローバル展開を推進。

強みとして読み取れる点

  • 真空技術の基盤となる高度な技術力
  • 装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートまでを網羅する幅広い事業領域
  • 真空薄膜形成技術による微細化・高性能化への貢献

課題として読み取れる点

  • コロナ禍や地政学リスクによる世界経済の不透明さ
  • 特定分野(FPD等)における投資の調整局面
  • 固定費削減の十分な吸収による利益率の維持

確認ポイント

  • 半導体・電子部品分野における投資拡大の進捗
  • 中期経営計画「Breakthrough 2022」の目標達成に向けた進捗
  • 中国市場における展開の強化

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、セグメント、経営戦略、主要製品、市場環境が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

主要なリスク:FPD・半導体等の市場変動による経営への影響(対応策:製品の多様化と選択・集中)、研究開発の遅延による新製品投入の遅れ(対応策:進捗管理の徹底)、グローバル競争における価格・性能面での劣後、人材確保の困難、法規制(輸出入、環境等)への抵触、品質不備によるコスト増や信頼低下、資金調達の制約(財務制限条項への対応)、情報セキュリティ、知的財産権侵害、安全管理、為替変動、および感染症や自然災害等の不可抗力要因。これらに対し、コンプライアンス委員会、品質保証体制、ヘッジ取引、ISO14001認証、手元流動性の確保などの対策を講じています。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を核とした多角的な事業展開。中期経営計画「Breakthrough 2022」を通じて、半導体・電子部品分野への集中投資と生産性向上による利益重視の経営へ転換を図る。強固な研究開発体制と安定した財務基盤を背景に、成長領域での競争力強化を目指す。

成長方針

「Breakthrough 2022」に基づき、半導体・電子部品分野での開発投資拡大(ロジック微細化、メモリ新工程参入)、生産技術の革新(モジュール化、設計バリューエンジニアリング)、およびグローバルな連携強化による高収益体制の構築。

資本政策

事業成長に向けた研究開発投資、設備投資の拡大。資金調達は営業キャッシュフローおよび金融機関からの借入により対応し、リファイナンスリスク低減のため返済額の平準化を実施。十分な手元流動性資金とコミットメントラインによる安定的な経営体制を維持。

リスク対応方針

市場変動への対応として半導体・電子部品分野での安定基盤構築。開発遅延防止のための進捗管理とモニタリング。競合への対抗としての技術ロードマップ共有。人材確保に向けた「人財」育成と健康経営の推進。コンプライアンス体制の強化、品質向上(バリューエンジニアリング等)、およびサイバーセキュリティ対策の徹底。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

アルバックは、真空技術を核とした高度な成膜技術において強固な地位を築いており、特に半導体および次世代ディスプレイ分野での需要拡大に向けた研究開発に積極的に取り組んでいる。中期経営計画「Breakthrough 2022」を通じて、成長領域への投資集中と生産性の向上による利益率改善を目指しており、高度な技術革新が求められる市場環境において競争力を維持・強化する姿勢が明確である。

設備投資の方向性

半導体および電子部品向けの装置開発・評価用機械の導入、ならびにマスクブランクス製造用設備の拡充に向けた投資を継続。

研究開発・商品開発

真空技術を核とした高度な成膜技術の開発に注力。特にDRAM/NANDフラッシュメモリの微細化・高積層化への対応、OLED向けの高精度・低発塵技術、次世代半導体(パワー半導体等)に向けた材料・プロセス開発を強化。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置の高度化
  • 次世代ディスプレイ(OLED)向け技術開発
  • 真空薄膜形成技術の革新
  • 先端材料の開発
  • 生産工程の自動化・モジュール化

関連キーワード

  • スパッタリング
  • CVD
  • エッチング
  • 真空蒸着
  • クライオポンプ
  • ナノテクノロジー
  • MEMS
  • パワー半導体

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2019-07-01 〜 2020-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2020-09-29

財務情報

業績

売上高

1,854.02億円
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営業利益

159.58億円
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経常利益

180.52億円
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税引前利益

211.22億円
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親会社帰属利益

107.69億円
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財政状態・流動性

総資産

2,823.5億円
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1,610.93億円
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株主資本

1,510.07億円
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現金及び現金同等物

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キャッシュフロー

3区分

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+187.38億円
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+74.55億円
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財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
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確認事項

開示上の確認事項

この表示に確認事項はありません。

文書情報を確認
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2019-07-01 〜 2020-06-30
表示状況
表示可能
選定状況
表示可能
raw presentation state
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raw selection status
ready

有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約1401文字

3【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社43社、関連会社9社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、真空蒸着装置、太陽電池製造装置、巻取式蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置他 コンポーネント 真空ポンプ(ドライポンプ、油回転ポンプ、メカニカルブースタポンプ、油拡散ポンプ、スパッタイオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ)、触針式プロファイラ、各種真空計、ヘリウムリークディテクタ、各種ガス分析計、分光エリプソメータ、各種電源、成膜コントローラ、各種真空バルブ、真空搬送ロボット・真空搬送プラットフォーム、各種真空部品他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、真空蒸留装置、ヘリウムリークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、表面処理、超微粒子(ナノメタルインク)他 その他 オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 CVD装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約2409文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当連結会計年度における世界経済は、米中貿易摩擦などの影響を受けつつも堅調に推移してきましたが、新型コロナウイルスの世界的流行に伴い、世界規模で経済活動が大幅な制限を受けたことにより、景気は急速に減退しました。今後、世界各国の経済活動の段階的再開や各種の経済対策により景気が持ち直しに向かうことが期待されますが、依然先行きは不透明な状況です。 当社グループを取り巻くエレクトロニクス業界においては、ファウンドリーやロジックメーカーの最先端プロセスへの設備投資は堅調に推移しました。メモリメーカーの設備投資については、新規投資は調整局面にありましたが、データセンター向けサーバー需要などの高まりもあり、投資再開の動きがみられます。また、電子デバイス分野においては、IoTやAIなどスマート社会の進展に伴う需要の増加に加え、5G対応などのための小型化・高性能化・低消費電力化などの技術革新に向けた電子デバイスメーカーの投資活発化が期待されております。特に、エレクトロニクス分野の国産化を進める中国での半導体・電子デバイス関連の投資が足元で活発化してきており、スマート社会実現に向けた技術革新が加速しております。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、大型TV用液晶ディスプレイ(LCD)向け大型投資が一段落しており、有機ELディスプレイ(OLED)投資は大型基板の量産開発への取組みがみられるものの一時的な調整局面にあります。 なお、新型コロナウイルスの世界規模での感染拡大による各国の移動制限や事業活動の制限などにより、世界各地で事業を展開している当社グループの事業にも一部影響が出ておりますが、各国の要請も踏まえた感染拡大防止対策を講じながら、可能な限り事業活動への影響を最小限にとどめるよう努めてまいりました。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約2409文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当連結会計年度における世界経済は、米中貿易摩擦などの影響を受けつつも堅調に推移してきましたが、新型コロナウイルスの世界的流行に伴い、世界規模で経済活動が大幅な制限を受けたことにより、景気は急速に減退しました。今後、世界各国の経済活動の段階的再開や各種の経済対策により景気が持ち直しに向かうことが期待されますが、依然先行きは不透明な状況です。 当社グループを取り巻くエレクトロニクス業界においては、ファウンドリーやロジックメーカーの最先端プロセスへの設備投資は堅調に推移しました。メモリメーカーの設備投資については、新規投資は調整局面にありましたが、データセンター向けサーバー需要などの高まりもあり、投資再開の動きがみられます。また、電子デバイス分野においては、IoTやAIなどスマート社会の進展に伴う需要の増加に加え、5G対応などのための小型化・高性能化・低消費電力化などの技術革新に向けた電子デバイスメーカーの投資活発化が期待されております。特に、エレクトロニクス分野の国産化を進める中国での半導体・電子デバイス関連の投資が足元で活発化してきており、スマート社会実現に向けた技術革新が加速しております。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、大型TV用液晶ディスプレイ(LCD)向け大型投資が一段落しており、有機ELディスプレイ(OLED)投資は大型基板の量産開発への取組みがみられるものの一時的な調整局面にあります。 なお、新型コロナウイルスの世界規模での感染拡大による各国の移動制限や事業活動の制限などにより、世界各地で事業を展開している当社グループの事業にも一部影響が出ておりますが、各国の要請も踏まえた感染拡大防止対策を講じながら、可能な限り事業活動への影響を最小限にとどめるよう努めてまいりました。…

経営成績・財政状態の概況

抜粋表示 / 原文長 約3556文字

3【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1)経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度における世界経済は、米中貿易摩擦などの影響を受けつつも堅調に推移してきましたが、新型コロナウイルスの世界的流行に伴い、世界規模で経済活動が大幅な制限を受けたことにより、景気は急速に減退しました。今後、世界各国の経済活動の段階的再開や各種の経済対策により景気が持ち直しに向かうことが期待されますが、依然先行きは不透明な状況です 。 当社グループを取り巻くエレクトロニクス業界においては、ファウンドリーやロジックメーカーの最先端プロセスへの設備投資は堅調に推移しました。メモリメーカーの設備投資については、新規投資は調整局面にありましたが、データセンター向けサーバー需要などの高まりもあり、投資再開の動きがみられます。また、電子デバイス分野においては、IoTやAIなどスマート社会の進展に伴う需要の増加に加え、5G対応などのための小型化・高性能化・低消費電力化などの技術革新に向けた電子デバイスメーカーの投資活発化が期待されております。特に、エレクトロニクス分野の国産化を進める中国での半導体・電子デバイス関連の投資が足元で活発化してきており、スマート社会実現に向けた技術革新が加速しております。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、大型TV用液晶ディスプレイ(LCD)向け大型投資が一段落しており、有機ELディスプレイ(OLED)投資は大型基板の量産開発への取組みがみられるものの一時的な調整局面にあります 。 なお、新型コロナウイルスの世界規模での感染拡大による各国の移動制限や事業活動の制限などにより、世界各地で事業を展開している当社グループの事業にも一部影響が出ておりますが、各国の要請も踏まえた感染拡大防止対策を講じながら、可能な限り事業活動への影響を最小限にとどめるよう努めてまいりました。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は1,565億71百万円(前年同期比619億76百万円(28.4%)減)、売上高は1,854億2百万円(同353億19百万円(16.0%)減)となりました。また、損益面では、営業利益は159億58百万円(同78億70百万円(33.0%)減)、経常利益は180億52百万円(同75億23百万円(29.4%)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は107億69百万円(同78億96百万円(42.3%)減)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」 真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。…

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約1103文字

3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報 前連結会計年度(自 2018年7月1日 至 2019年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 187,698 33,023 220,721 220,721 セグメント間の内部売上高又は 振替高 3,445 1,718 5,163 △ 5,163 191,143 34,740 225,884 △ 5,163 220,721 セグメント利益 20,819 2,986 23,805 24 23,828 セグメント資産 232,409 39,420 271,830 10,472 282,302 その他の項目 減価償却費 5,575 1,373 6,948 △ 11 6,938 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 10,370 2,380 12,750 12,750 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 当連結会計年度(自 2019年7月1日 至 2020年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 154,773 30,629 185,402 185,402 セグメント間の内部売上高又は 振替高 3,453 1,208 4,661 △ 4,661 158,226 31,836 190,062 △ 4,661 185,402 セグメント利益 13,681 1,666 15,346 612 15,958 セグメント資産 232,501 41,363 273,865 8,485 282,350 その他の項目 減価償却費 6,299 1,561 7,860 △ 11 7,849 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 6,296 3,259 9,555 9,555 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。

主要な顧客・販売先

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2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 (百万円) 割合 (%) 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 62,104 40.1 半導体及び電子部品製造装置 45,137 29.2 コンポーネント 29,132 18.8 一般産業用装置 18,399 11.9 154,773 100.0 真空応用事業 材料 13,488 44.0 その他 17,141 56.0 30,629 100.0 3.上記の金額には、消費税等は含んでおりません。 (2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容 当連結会計年度における当社グループの経営成績については、売上高は1,854億2百万円(前年同期比16.0%減)となりました。FPD及びPV製造装置においては、大型TV用LCD製造装置、スマートフォン用OLED製造装置ともに受注高が減少したことに伴い、売上高が前年同期を下回る水準となりました。受注高減少の要因としては、大型TV用LCD向け投資が一巡したこと、スマートフォン用OLED投資については一時的な調整局面に入ったことによります。半導体及び電子部品製造装置においては、電子部品関連が堅調に推移したことや、メモリ関連投資の回復基調が見えてきたこと、ロジック向け分野への参入も寄与し、売上高が前年同期に比べて増加しました。 営業利益率は8.6%(前年同期比2.2ポイント減)となり、前年同期を下回りました。これは主に、売上高減少を固定費削減によって吸収しきれなかったことが要因です。 なお、研究開発費の総額は83億53百万円となり、前年同期から8億56百万円減少しました。研究開発費の売上高に対する比率は、売上高の減少により、前年同期から0.3ポイント増加し4.5%となりました。新型コロナウイルスの影響による移動制限等により、前年同期に比べて減少となりましたが、将来の成長に向けた投資を引き続き強化しております。 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、当連結会計年度までの中期経営計画期間において、売上高、営業利益、営業利益率を中期経営計画上の財務モデルにおける指標として使用しております。…

リスクに関する有報本文

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事業等のリスク

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2【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①FPD、半導体及び電子部品の市場変動による影響 当社グループは、特にFPD、半導体及び電子部品等の製造工程で使われる真空装置の分野において、独自技術の開発を行って市場投入することによりこの分野におけるシェアを獲得し、成長してまいりました。その反面、当社グループの顧客であるFPDメーカー、半導体及び電子部品メーカーの市況変化による設備投資の大幅な縮小が発生した場合や顧客の財務状況が悪化した場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、2021年6月期から始まる新たな中期経営計画において、「成長に向けた開発投資(選択と集中)」、「体質転換による利益重視の経営」の2つの基本方針を定めております。この方針のもと、市場変動の中でも生産性向上による利益率の改善を果たすとともに、成長領域における開発に集中していくことで、持続的成長を実現してまいります。また、当社の多様な製品は幅広い分野で使用されており、とりわけ半導体や電子部品の分野において収益の安定基盤を築くことにより、市場変動への対応力を高めております。 ②研究開発による影響 当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてまいりました。しかしながら、開発の著しい遅延を余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 成長のために必要な開発について、投資の選択と集中によりスピードアップを図るとともに、定期的なモニタリングを実施して著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 ③グローバルな競争環境の影響 当社グループは、グローバルに事業を展開し、世界各国・各地域の顧客に向けて製品を提供しておりますが、競合となる装置メーカーもグローバルに展開しており、新規参入もある競争環境です。この環境下で、製品の性能のみならず価格面での競争も激化しており、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、顧客と技術・製品ロードマップを共有し、最先端技術の製品を適時に投入することで、競争力維持に努めております。 ④人材の確保に関する影響 当社グループがグローバルな事業環境の中で成長を続けるために、人材の確保は必須の条件となります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

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5【研究開発活動】 当社グループは、真空技術を応用した次世代・最先端の分野における研究開発活動を経営の重要な柱に位置付けており、当連結会計年度における研究開発活動は、当社を中心として以下のとおり実施いたしております。 国内外の各開発拠点において競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。今後成長が見込まれるスマート社会の実現には、高度な電子デバイスが必要不可欠ですが、これらのデバイスを製造するための核心技術に当社の真空薄膜形成技術が貢献しております。当社は、主力製品である半導体用スパッタリング装置、FPD用スパッタリング装置及び真空蒸着装置に加え、さまざまな電子デバイス向けの成膜技術、材料の開発を重点的に行っております。また、お客様のご要望(VOC)や市場動向を収集し、タイムリーでスピード感のある開発を進めております。 当連結会計年度における研究開発費の総額は 8,353 百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。 (真空機器事業) 当社の事業の柱であるフラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体、高機能電子デバイス製造装置などの電子デバイスの各分野に開発投資を行い、新商品や新技術を創出、受注にも貢献しております。 また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行っております。 当セグメントに係る研究開発費は 7,916 百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。 (1)半導体及び電子部品製造装置 半導体製造装置においては、微細化、高積層化の進むDRAM及び3次元NANDフラッシュメモリ工程用装置の性能向上を進めておりま す。 また、 今後大きく市場拡大が見込まれる新型不揮発性メモリ分野において、市場要求に対応した装置・プロセス・材料を開発するとともに、最先端ロジック分野においても装置・プロセス開発を行い、市場に投入しておりま す。 電子 部品製造装置においては、急速に発展しているスマート社会化に向けた通信デバイス・オプト(光学膜)・電子部品(MEMS等)・パワー半導体・電子実装の製造に適した装置・プロセスを開発し、販売を行っておりま す。 (2)FPD製造装置 液 晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ及びフレキシブルディスプレイなどの分野における次世代技術への開発投資を行っておりま す。 今後、高精細化プロセスが必要な有機ELディスプレイに対して、製品歩留まりを改善するための技術開発(スパッタリング装置等における低発塵新搬送機構、マスク合わせ精度向上)や成膜性能を向上する新ユニットの開発、新材料開発など、総合的な成膜技術向上を進めております。…

設備投資等の概要

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2【主要な設備の状況】 (1)提出会社 (2020年6月30日現在) 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 土地 (面積千㎡) リース資産 その他 合計 本社・茅ヶ崎工場 (神奈川県茅ヶ崎市) 真空機器 事業 全社管理業務 研究開発業務 FPD及びPV製造装置 電子部品製造装置 一般産業用装置 コンポーネント 上記に関わる設備 8,156 7,110 603 (51) 41 337 16,246 984 富士裾野工場 (静岡県裾野市) 半導体製造装置に関わる設備 研究開発に関わる設備 1,220 5,522 3,028 (106) 10 61 9,840 168 千葉富里工場 (千葉県富里市) 研究開発に関わる設備 1,258 409 363 (25) 37 2,066 24 千葉富里工場 (千葉県富里市) 真空応用 事業 ターゲット製造 設備 582 66 258 (18) 914 40 千葉山武工場 (千葉県山武市) 263 95 86 (31) 449 19 (2)国内子会社 (2020年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機械装置及び運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 アルバック東北株式会社 本社工場 (青森県八戸市) 真空機器事業 建物及び付帯設備他 814 156 ( - ) 53 60 1,083 310 アルバックテクノ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 メンテナンス等サービス設備 1,597 151 1,008 (20) 77 44 2,877 368 アルバック九州株式会社 本社工場 (鹿児島県霧島市) 真空機器事業 工場棟及び配管・動力等生産設備 822 82 (0) 320 12 1,237 291 アルバック機工株式会社 本社工場 (宮崎県西都市) 真空機器事業 小型真空ポンプ等生産設備 523 140 51 (50) 129 19 863 131 アルバック・クライオ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 クライオポンプ等生産設備 131 311 ( - ) 62 510 94 アルバック成膜株式会社 本社工場 (埼玉県秩父市) 真空応用事業 真空薄膜製品生産設備 1,260 432 844 (56) 72 55 2,663 200 (3)在外子会社 (2020年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機械装 置及び 運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 ULVAC…

その他の有報本文

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補足セクションの有報本文を表示

配当政策

抽出本文 / 原文長 約408文字

3【配当政策】 当社は、株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。 設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、当社は成長領域への十分な研究開発投資資金を確保し安定的財務基盤を構築するために必要な内部留保の充実を図っていく所存です。株主の皆様への利益配当については、こうした資金需要等や各年度のキャッシュ・フロー、業績及び配当性向等を総合的に勘案し、実施してまいります。 当社は、期末配当による年1回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。 当期の配当につきましては上記の方針に基づき、1株につき80円と決定いたしました。 (注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。 決議年月日 株式の種類 配当金の総額(百万円) 1株当たり配当額(円) 2020年9月29日 定時株主総会 普通株式 3,948 80

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約585文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 (2020年6月30日現在) セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 4,888 真空応用事業 820 全社(共通) 662 合計 6,370 (注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。 2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 (2020年6月30日現在) 従業員数(名) 平均年齢(歳) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 1,333 42.8 16.5 7,642,724 セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 1,170 真空応用事業 76 全社(共通) 87 合計 1,333 (注)1.従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。 2.平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 3.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況 当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 有価証券報告書(通常方式)_20200929145625

コーポレート・ガバナンス

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(1)【コーポレート・ガバナンスの概要】 ①コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方 当社は、「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」との経営基本理念のもと、企業価値を中長期的に向上させるため、コーポレート・ガバナンスの充実に努めております。このような観点から、当社は、株主のみならず、取引関係者、地域社会、従業員その他当社事業活動に関連する様々なステークホルダーの利益を尊重するとともに、企業倫理及び法令遵守を徹底させつつ競争力のある効率的な経営を行うことを重視しております。 ②企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由 当社は、経営体制として、監査役会設置会社を採用しており、特に重要な機関として、取締役会、常勤役員会、監査役会、指名報酬等委員会などを設置しております。 まず、経営上重要な事項についての意思決定を行う機関として、取締役会を設置し、毎月1回の定時開催に加え、機動性確保の観点から必要に応じて臨時開催を行っております。取締役会は8名で構成されており、うち4名を社外取締役としています。社外取締役のうち3名を独立社外取締役として指定しております。このような体制により、経営上重要な事項についての迅速で効率的な判断とともに、公正中立で透明性の高い審議の実現及び業務執行の監督を実現しております。 次に、執行役員制度を導入し、各執行役員が取締役会からの委任に基づき、各担当業務について一定の責任と権限を付与される形で業務執行に従事しております。また、社内取締役及び執行役員の計16名より構成される常勤役員会を設置しています。常勤役員会は、毎月1回の定時開催を行うとともに必要に応じて臨時開催を行っております。このような体制により、各業務執行役員の責任と権限の明確化のもと、変化の激しい事業環境に適応したより柔軟で迅速な業務執行を実現しております。 更に、経営判断及び業務執行の監査・監督機関として監査役会を設置しております。監査役会は、4名から構成されており、うち2名を社外監査役とし、2名とも独立社外監査役として指定しております。また、監査役と独立性を保障された監査室や会計監査人との緊密な連携、取締役会や常勤役員会をはじめとする重要な会議への監査役の出席と意見陳述、代表取締役との定例会議などにより、監査・監督機能の実効性を確保しています。このような体制により、各監査役が十分な情報を取得しつつ、厳正かつ公正中立で透明性が確保された監査・監督機能の発揮を実現しております。 加えて、取締役及び執行役員の指名、報酬等、特に客観的な判断が要求される重要事項についての議論を行う指名報酬等委員会を設置しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約47文字

4【経営上の重要な契約等】 当連結会計年度において、経営上の重要な契約等は行われておりません。

大株主の状況

抜粋表示 / 原文長 約3472文字

(6)【大株主の状況】 (2020年6月30日現在) 氏名又は名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口、信託口5、信託口7、信託口9、信託口1、信託口2、信託口4、信託口6) 東京都中央区晴海1-8-11 5,714 11.58 日本生命保険相互会社 東京都千代田区丸の内1-6-6 日本生命証券管理部内 3,242 6.57 TAIYO FUND, L.P. (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 2,831 5.74 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 東京都港区浜松町2-11-3 2,419 4.90 TAIYO HANEI FUND, L.P. (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 1,616 3.28 3D OPPORTUNITY MASTER FUND (常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部) PO BOX 309,UGLAND HOUSE, GRAND CAYMAN, KY1 1104, CAYMAN ISLANDS (東京都中央区日本橋3-11-1) 1,427 2.89 株式会社みずほ銀行 東京都千代田区大手町1-5-5 1,278 2.59 株式会社三井住友銀行 東京都千代田区丸の内1-1-2 1,243 2.52 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505103 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) P.O.BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02101 U.S.A. (東京都港区港南2-15-1 品川インターシティA棟) 1,173 2.38 NORTHERN TRUST CO. (AVFC) RE HSD00 (常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部) 50 BANK STREET CANARY WHARF LONDON E 14 5NT, UK (東京都中央区日本橋3-11-1) 1,093 2.21 22,037 44.65 (注) 1.…

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100JRQB 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2020
使用モデル
gemma4:12b

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