株式会社 アルバック

証券コード: 6728 / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-09-26
業種 電気機器
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

AI・自動処理による整理を含むため、誤りや不完全な表現が含まれる場合があります。 重要な情報はEvidenceやEDINET等の一次資料をご確認ください。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

真空技術を基盤とした総合メーカー。半導体、電子部品、ディスプレイ、エネルギー関連の製造装置や、材料、表面分析装置などの周辺技術を提供。高度な真空技術を駆使し、スマートフォンや自動車など現代社会に不可欠な製品の製造プロセスを支える幅広いソリューションを展開している。

主な事業領域

真空技術を基盤とした「真空機器事業」と、関連する材料や分析装置を提供する「真空応用事業」の2つの主要セグメントで構成される真空総合メーカー。半導体・電子部品向け装置から一般産業用まで幅広く対応。

主な製品・サービス

  • スパッタリング装置
  • CVD装置
  • エッチング装置
  • 真空蒸着装置
  • 真空ポンプ
  • 真空計
  • 成膜用電源
  • 真空熱処理炉
  • スパッタリングターゲット材料
  • 表面分析装置

ビジネスモデル

真空技術を基盤とした機器、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートの幅広い事業領域でシナジーを発揮し、製品販売およびサービス提供により収益を得る。

セグメント・事業構成

「真空機器事業」と「真空応用事業」の2つのセグメント。両者は同一の経営・報告区分として運用されている。

戦略・方向性

新中長期経営計画「バリューアッププラン」に基づき、半導体電子中心の事業ポートフォリオへの見直しを加速し、M&Aや技術革新を通じた高成長・高収益性の実現を目指す。特に半導体製造装置および電子部品製造装置の受注拡大と、分析機器とのシナジー創出に注力。

強みとして読み取れる点

  • 真空技術および周辺技術の総合利用による強固なシナジー
  • 高度な専門性を持つ幅広い製品ラインナップ(機器・材料・分析)
  • 先端ロジック・メモリ分野やパッケージングにおける高い技術力

課題として読み取れる点

  • パワーデバイス投資の減速による影響
  • EVバッテリー関連の投資遅延
  • 研究開発費の増加に伴うコスト管理

確認ポイント

  • 半導体電子中心の事業ポートフォリオ転換の進捗
  • M&Aを通じた成長戦略の実行状況
  • 新中長期経営計画「バリューアッププラン」の目標達成に向けた取り組み

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・提供された本文に、事業内容、セグメント構成、経営戦略(バリューアッププラン)、主要な市場動向まで詳細に含まれており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

市場変動(半導体・FPD分野の需要、地政学的リスク)、研究開発の遅れによる新製品投入の遅れ、グローバルな競争環境における価格・性能競争、人財確保の困難、サプライチェーンの寸断(部品不足、コスト高騰、災害等)、法令・規制への抵触(輸出入規制、コンプライアンス等)、品質管理上の不備、資金調達の制約、情報セキュリティの脅威、知的財産権侵害訴訟、安全管理および環境規制への対応。これらに対し、同社は研究開発投資による差別化、コンプライアンス委員会やリスクマネジメント委員会の設置、ISO9001に基づく品質保証体制、為替予約によるヘッジ、手元流動性の確保とコミットメントラインの設定、情報セキュリティ対策、安全管理システムの運用等で対応している。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 5 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を核とした高度な製造装置・材料を提供。新中長期経営計画「バリューアッププラン」を通じて、半導体・電子分野へのリソース集中、生産革新による効率化、事業間シナジーの創出により、高成長・高収益体制への転換を目指す。

成長方針

「バリューアッププラン」に基づき、半導体・電子部品製造装置への集中(2031年までに各分野で受注1,000億円以上)、事業間シナジーを活用した分析検査装置等の新ビジネス創出、M&Aによる拡大、およびモジュール設計導入による生産リードタイムの短縮。

資本政策

業績連動型配当(配当性向35%以上)の実施、資本効率の向上、および研究開発・設備投資に向けた十分な手元流動性の確保とコミットメントラインによる資金調達体制の整備。

リスク対応方針

市場変動への耐性強化(ポートフォリオ多様化)、R&D投資の選択と集中、サプライチェーンの強靭化、高度な情報セキュリティ対策、およびTCFD提言に準拠した気候変動対応(2050年ネットゼロ目標)によるリスク低減。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は真空技術を核とした高度な製造装置および材料の開発において強固な地位を築いており、新中長期経営計画「バリューアッププラン」を通じて半導体・電子分野への投資集中を加速させている。特に次世代パワー半導体や先端パッケージングといった成長領域へのR&D投資が積極的であり、モジュール設計による生産効率化と高度な技術革新の両立を目指す戦略的な姿勢が明確である。

設備投資の方向性

半導体および電子部品製造装置の評価・研究開発用機械への投資を継続。また、マスクブランクス製造設備など、成長分野における生産能力強化に向けた設備投資を重点的に実施。

研究開発・商品開発

真空技術を核としたイノベーション創出のため、ロジック・メモリ向け先端プロセスやパワー半導体、次世代パッケージング等の高成長領域へ集中。産学連携を通じた高度な知見の獲得と、装置・材料・ソフトのシナジーによる差別化を推進。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置の高度化
  • 次世代パワー半導体対応技術
  • 先端パッケージング工程
  • 真空技術を基盤とした材料開発
  • モジュール設計による生産効率向上
  • 量産ライン向け分析検査装置への展開

関連キーワード

  • 真空技術
  • スパッタリング
  • CVD
  • エッチング
  • 高度な半導体プロセス
  • モジュール設計
  • 先端材料開発

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2024-07-01 〜 2025-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2025-09-26

財務情報

業績

売上高

2,511.84億円
根拠・定義
正式ラベル
売上高
section key
performance
metric_key
revenue
meaning_id
revenue.net_sales
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#534
source concept
NetSales
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

営業利益

265.23億円
根拠・定義
正式ラベル
営業利益又は営業損失
section key
performance
metric_key
operating_profit
meaning_id
profit.operating
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#546
source concept
OperatingIncome
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

経常利益

286.05億円
根拠・定義
正式ラベル
経常利益又は経常損失
section key
performance
metric_key
ordinary_profit
meaning_id
profit.ordinary_jgaap
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#570
source concept
OrdinaryIncome
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

税引前利益

273.46億円
根拠・定義
正式ラベル
税引前利益又は税引前損失
section key
performance
metric_key
profit_before_tax
meaning_id
profit.before_tax
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#584
source concept
IncomeBeforeIncomeTaxes
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

親会社帰属利益

166.87億円
根拠・定義
正式ラベル
親会社の所有者に帰属する当期利益(損失)
section key
performance
metric_key
net_income
meaning_id
profit.owners_parent
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#596
source concept
ProfitLossAttributableToOwnersOfParent
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

財政状態・流動性

総資産

3,750.62億円
根拠・定義
正式ラベル
資産合計
section key
balance_and_liquidity
metric_key
total_assets
meaning_id
assets.total
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#466
source concept
Assets
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-191fc368dde32b1e

純資産

2,310.8億円
根拠・定義
正式ラベル
純資産合計
section key
balance_and_liquidity
metric_key
net_assets
meaning_id
equity.net_assets_jgaap
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#530
source concept
NetAssets
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-191fc368dde32b1e

株主資本

2,095.14億円
根拠・定義
正式ラベル
株主資本
section key
balance_and_liquidity
metric_key
equity
meaning_id
equity.shareholders_equity
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#518
source concept
ShareholdersEquity
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-191fc368dde32b1e

現金及び現金同等物

926.09億円
根拠・定義
正式ラベル
現金及び現金同等物
section key
balance_and_liquidity
metric_key
cash
meaning_id
cash.cash_and_cash_equivalents
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#841
source concept
CashAndCashEquivalents
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-191fc368dde32b1e

キャッシュフロー

3区分

営業CF

+348.11億円
根拠・定義
正式ラベル
営業活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
operating_cf
meaning_id
cash_flow.operating
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#801
source concept
NetCashProvidedByUsedInOperatingActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

投資CF

-108億円
根拠・定義
正式ラベル
投資活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
investing_cf
meaning_id
cash_flow.investing
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#817
source concept
NetCashProvidedByUsedInInvestmentActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

財務CF

-142.15億円
根拠・定義
正式ラベル
財務活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
financing_cf
meaning_id
cash_flow.financing
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E01589-000_2025-06-30_01_2025-09-26.xbrl#833
source concept
NetCashProvidedByUsedInFinancingActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-5c9c11ac2cf4f174
reporting slice
reporting-slice-ae075b42518889ab

財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
relation state
different_value
source relation key
different_value

確認事項

開示上の確認事項

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doc_id
S100WQX1
framework
日本基準 / jgaap
scope
連結 / consolidated
period
2024-07-01 〜 2025-06-30
表示状況
表示可能
選定状況
表示可能
raw presentation state
ready
raw selection status
ready

有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約1356文字

3【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社37社、関連会社8社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置他 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 コンポーネント 真空ポンプ(ドライポンプ、メカニカルブースタポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、油拡散ポンプ)、真空計、リークテスト装置、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、蒸着用蒸発源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、極低温機器、各種真空部品他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、超微粒子(ナノメタルインク)、表面処理他 その他 X線光電子分光分析装置、走査型オージェ電子分光分析装置、飛行時間型二次イオン質量分析装置、四重極型二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等(1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 CVD装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約3571文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2)経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、金融資本市場の変動や通商政策動向等の影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、生成AI活用の浸透等により中長期的な半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学的リスクに対応して世界各地で半導体工場の新増設計画が進められています。エレクトロニクス業界では、パワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により短期的には設備投資が調整されていますが、社会のデジタル化に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産投資、中国における国産化投資は継続しています。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界では、タブレットやパソコン等のIT用パネルにおいて、液晶から有機ELへ切り替えが進む中、大型基板の有機ELへの投資が続いています。また、産業電池業界では、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が検討されています。 (3)優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題 当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約3571文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2)経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、金融資本市場の変動や通商政策動向等の影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、生成AI活用の浸透等により中長期的な半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学的リスクに対応して世界各地で半導体工場の新増設計画が進められています。エレクトロニクス業界では、パワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により短期的には設備投資が調整されていますが、社会のデジタル化に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産投資、中国における国産化投資は継続しています。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界では、タブレットやパソコン等のIT用パネルにおいて、液晶から有機ELへ切り替えが進む中、大型基板の有機ELへの投資が続いています。また、産業電池業界では、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が検討されています。 (3)優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題 当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。…

経営成績・財政状態の概況

抜粋表示 / 原文長 約3509文字

4【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1)経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、金融資本市場の変動や通商政策動向等の影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、生成AI活用の浸透等により中長期的な半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学的リスクに対応して世界各地で半導体工場の新増設計画が進められています。エレクトロニクス業界では、パワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により短期的には設備投資が調整されていますが、社会のデジタル化に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産投資、中国における国産化投資は継続しています。フラットパネルディスプレイ(FPD)業界では、タブレットやパソコン等のIT用パネルにおいて、液晶から有機ELへ切り替えが進む中、大型基板の有機ELへの投資が続いています。また、産業電池業界では、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が検討されています。 このような状況において、当連結会計年度につきましては、受注高はパワーデバイスやバッテリー投資の減速を反映して前年同期を下回りましたが、売上高は高水準の受注残高の寄与等により、高い水準で着地しました。営業利益は売上高の減少及び研究開発費等の増加により前年同期を下回りましたが、売上総利益率は31.8%で着地し、収益性は確実に改善しています。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,255億67百万円(前年同期比326億14百万円(12.6%)減)、売上高は2,511億84百万円(同99億31百万円(3.8%)減)となりました。また、損益面では、営業利益は265億23百万円(同32億47百万円(10.9%)減)、経常利益は286億5百万円(同11億81百万円(4.0%)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は166億87百万円(同35億46百万円(17.5%)減)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」 真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 (半導体及び電子部品製造装置) 半導体及び電子部品製造装置では、先端ロジック・メモリ分野の投資が堅調に推移したことに加え、先端パッケージング分野も好調に推移しましたが、日本及び中国のパワーデバイス投資の反動減により、受注高・売上高は前年同期を下回りました。…

セグメント関連

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3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報並びに収益の分解情報 前連結会計年度(自 2023年7月1日 至 2024年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 一時点で移転される財又はサービス 83,956 40,899 124,855 124,855 一定の期間にわたり移転される財又はサービス 128,358 7,902 136,260 136,260 顧客との契約から生じる収益 212,314 48,801 261,115 261,115 外部顧客への売上高 212,314 48,801 261,115 261,115 セグメント間の内部売上高又は 振替高 645 3,719 4,364 △ 4,364 212,959 52,520 265,480 △ 4,364 261,115 セグメント利益 26,146 3,563 29,708 62 29,771 セグメント資産 319,209 66,640 385,848 3,035 388,883 その他の項目 減価償却費 7,235 1,948 9,183 △ 2 9,181 有形固定資産及び無形固定資産の 増加額 19,580 1,958 21,539 21,539 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 3.顧客との契約から生じる収益以外の収益の額については重要性がないことから、顧客との契約から生じる収益と区分して表示しておりません 。…

主要な顧客・販売先

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2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 (百万円) 割合 (%) 真空機器事業 半導体及び電子部品製造装置 89,298 44.9 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 53,148 26.7 コンポーネント 43,150 21.7 一般産業用装置 13,455 6.7 199,050 100.0 真空応用事業 材料 26,601 51.0 その他 25,533 49.0 52,134 100.0 (2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容 当連結会計年度における当社グループの経営成績は、売上高は2,511億84百万円(前年同期比3.8%減)となりました。半導体及び電子部品製造装置において、先端ロジック・メモリ分野の投資が堅調に推移したことに加え、先端パッケージング分野も好調に推移しましたが、日本・中国のパワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により調整されていることや、産業電池業界におけるEVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が、車載採用に時間を要し、投資が遅延していることなどが主な要因となります。 営業利益率は10.6%(前年同期比0.8ポイント減)となりました。これは売上高の減少に加え、今後の成長に向けた研究開発費の増加を主として、販売費及び一般管理費が増加したことが要因となります。 研究開発費の総額は139億91百万円となり、前年同期から6億78百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は前年同期から0.5ポイント増加し5.6%となりましたが、将来のさらなる成長に向けて、半導体電子を中心に研究開発力強化のための投資を継続してまいります。 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等(3)優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは持続的な成長の実現を目指し、2026年6月期を初年度とする6年間の新中長期経営計画「バリューアッププラン」を策定いたしました。本計画では、経営資源の最適化を断行し、半導体電子を中心とした事業ポートフォリオへの見直しを加速させることで、高成長・高収益性の実現を図り、企業価値の向上を目指してまいります。…

リスクに関する有報本文

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事業等のリスクの原文を表示

事業等のリスク

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3【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①市場変動による影響 当社グループは、特に半導体及び電子部品、FPD等の製造工程で使用される真空装置分野において独自技術を開発し、市場シェアを拡大してきました。しかしながら、半導体や電子部品、FPD分野等における市況変動に伴う顧客の設備投資の大幅縮小や財政状態の悪化が生じた場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 さらに、当社は新中長期経営計画「バリューアッププラン」に基づき、事業ポートフォリオを半導体電子分野へ集中させる方針を掲げておりますが、半導体市場は技術革新のスピードが速く、また地政学的リスクや景気変動の影響を受けやすい特性があります。今後、半導体需要の急激な変動や競争環境の変化が当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、半導体電子分野への集中と並行して、真空関連事業を幅広く展開しております。また、半導体電子分野の急激な市場環境の変動に対しては、技術革新への対応力を高めるための研究開発投資を行い、製品ラインアップの拡充と差別化を図っていきます。加えて、事業間シナジーを活用した新規ビジネスの創出により、収益基盤の多様化を推進し、市場環境の変動に対する耐性の強化に努めてまいります。 ②研究開発による影響 当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてまいりました。しかしながら、開発の著しい遅延を余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 成長のために必要な開発について、投資の選択と集中によりスピードアップを図るとともに、定期的なモニタリングを実施して著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 ③グローバルな競争環境の影響 当社グループは海外売上高比率が高く、世界各国・各地域の顧客に向けて製品を提供しております。しかし、グローバルに事業を展開している既存の競合他社も数多く、新規参入も増えている中で、製品の性能のみならず価格面での競争も激化しております。このような競争環境により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、顧客ニーズを的確に把握し、それを確実に反映した製品を適時投入することで、競争力を維持し、競争環境に対応してまいります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

サステナビリティ

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2【サステナビリティに関する考え方及び取組】 当社グループは、サステナビリティをめぐる課題への対応が、中長期的な企業価値の向上と持続的な成長のために重要であると認識し、経営基本理念に基づきサステナビリティ方針を定め、真空技術及びその周辺技術の総合利用による経済価値、社会価値、環境価値の創造を目指しております。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 (1)ガバナンス 当社グループは、社長直轄のサステナブル経営推進室を設置し、グループ全体でサステナビリティの取組みを推進しています。年2回開催されるサステナビリティ推進委員会では、社内取締役、社内監査役、関連部門の執行役員及び委員長が指名する部署長が参加し、サステナビリティに関する目標設定・進捗管理、方針の検討、重要テーマへの取組みなどについて討議を行っています。重要案件については、取締役会の決定した経営方針に基づいて重要な業務執行に関する事項について審議を行う機関である経営会議等で適宜報告や決議を実施しています。また、サステナブル経営推進室長は、サステナビリティ推進委員会の内容及びグループ全体のサステナビリティの取組みについて取締役会に報告し、取締役会は業務執行状況を的確に把握し、適切に監督しています。 (2)戦略 当社グループでは、2050年にありたい姿「真空技術で世の中のためになる価値をパートナーとともに生み出し、人と地球の未来に貢献し続けている企業」及び“Vision2032”「未来につながる可能性の場であり続ける」の実現に向けた当社グループ固有の経営課題を「マテリアリティ」と定義し、「ステークホルダーにとっての重要度」と「事業への影響度」の2軸で評価し以下の4項目を特定しています。特定したマテリアリティに取組み、経営基盤を強化するとともに、真空技術で社会的価値を創造し人と地球の未来に貢献し続けている企業を目指します。 ①真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進 当社グループの中核にある「真空技術及びその周辺技術の総合利用」を基盤に、新中長期経営計画「バリューアッププラン」に掲げる半導体電子分野を中心とした事業ポートフォリオの変革を推進し、AIやデジタル技術を活用した新たな価値創造に挑戦します。具体的には、事業間シナジーを最大限に活用し、半導体電子関連ビジネスの成長加速と新規事業の創出を目指します。また、M&Aを積極的に活用し、事業基盤の強化と高収益体質の実現に取り組みます。さらに、先端技術の研究開発や顧客・パートナーとの共創を深化させるとともに、人財育成、知的財産戦略の強化を通じて、持続的成長の基盤を確立してまいります。…

研究開発活動

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6【研究開発活動】 当社グループは、真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進を経営の重要な柱に位置付けるとともに、持続可能な社会の実現に向けた技術開発を進めております。気候変動や環境問題などといった社会課題に対応するためには、半導体や高機能な電子デバイスが貢献すると認識しており、当社グループの持つ真空薄膜形成技術がこれらのデバイスを製造するための核心技術となっております。 当連結会計年度においては、先端デバイス及び材料、エネルギー・環境、ヘルスケア領域に注力した研究開発活動を以下のとおり実施しております。 当社グループの開発体制は、グローバルに展開する各開発拠点において顧客密着型の開発を実施し、競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。真空技術をコアとした製品のうち、主力である半導体、電子部品などの真空薄膜製造用スパッタリング装置に加え、装置を支えるソリューションやソフトの基盤技術、スパッタリングターゲット材料の開発などシナジー効果を生かした開発を重点的に行っております。 さらに、顧客の近くで製品・技術開発を加速し、コラボレーションと技術サポートを強化するため、韓国平澤市に設立したTechnology Center PYEONGTAEKの開所式を開催し、パートナー企業・地元自治体の方々をお招きしました。 「真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進」として、大阪大学においては産業科学研究所と大学院工学研究科が開催する第6回産・工定例記者発表にて、大学院工学研究科と共にアルバック未来技術協働研究所を開設している当社から、医工学分野の未来技術や、なぜ産学共創、博士人材育成に取り組むのか等、企業視点での産学共創について発表しました。東京科学大学においては、当社と共同で開発を行っているチップレット集積技術に関して、世界最大規模の半導体実装国際学会「The 2025 IEEE 75th Electronic Components and Technology Conference」にて最新のプラズマエッチング技術を複数発表しました。 また、当社が1990年代に製作した「パルスレーザーデポジション(PLD)酸化物薄膜作製装置」が、独立行政法人国立科学博物館の「重要科学技術史資料(未来技術遺産)」(*)に登録されました。 (*)日本の科学技術史資料のうち、「科学技術の発達上重要な成果を示し、次世代に継承していく上で重要な意義を持つもの」や「国民生活、経済、社会、文化の在り方に顕著な影響を与えたもの」に該当する資料を選定し登録するものです。2008年より実施されております。 当連結会計年度における研究開発費の総額は 13,991 百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。…

設備投資等の概要

抜粋表示 / 原文長 約2287文字

2【主要な設備の状況】 (1)提出会社 (2025年6月30日現在) 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員 数(名) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 土地 (面積千㎡) リース資産 その他 合計 本社工場 (神奈川県茅ヶ崎市) 真空機器 事業 全社管理業務 研究開発業務 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 電子部品製造装置 一般産業用装置 コンポーネント 上記に関わる設備 6,247 7,364 1,210 (53) 162 346 15,329 903 富士裾野工場 (静岡県裾野市) 半導体製造装置 研究開発業務 上記に関わる設備 861 9,325 3,028 (106) 153 13,366 212 千葉富里工場 (千葉県富里市) 研究開発業務に関わる設備 712 601 363 (25) 51 1,728 19 東北工場 (青森県八戸市) ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 電子部品製造装置 上記に関わる設備 934 39 414 (83) 41 1,435 184 九州工場 (鹿児島県霧島市) ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 半導体製造装置 電子部品製造装置 上記に関わる設備 1,544 12 213 (96) 25 1,800 157 千葉富里工場 (千葉県富里市) 真空応用 事業 ターゲット製造 設備 413 25 258 (18) 695 18 東北工場 (青森県八戸市) 477 538 190 (38) 17 1,222 61 九州工場 (鹿児島県霧島市) 940 764 102 (46) 20 1,825 64 (2)国内子会社 (2025年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員 数(名) 建物 及び 構築物 機械装置及び運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 アルバックテクノ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 メンテナンス等サービス設備 1,215 213 1,090 (24) 73 122 2,713 350 アルバック機工株式会社 本社工場他 (宮崎県西都市他) 真空機器事業 小型真空ポンプ等生産設備 428 316 51 (50) 205 177 1,177 177 アルバック・ファイ株式会社 本社工場 (神奈川県茅ヶ崎市) 真空応用事業 表面分析装置に関わる設備 90 (-) 468 560 133 アルバック成膜株式会社 本社工場 (埼玉県秩父市) 真空応用事業 真空薄膜製品生産設備 950 298 844 (56) 554 70 2,715 187 (3)在外子会社 (2025年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿…

その他の有報本文

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配当政策

抽出本文 / 原文長 約398文字

3【配当政策】 当社は株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。一方で、当社は設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、成長領域への十分な研究開発投資資金を確保し安定的財務基盤を構築することも勘案した結果、株主の皆様への利益還元につきましては、連結配当性向35%以上を目途とした業績連動型配当を実施する方針としております。 当社は、期末配当による年1回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。 当期(2025年6月期)の配当につきましては、上記の方針に基づき、1株につき164円と決定いたしました。 (注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。 決議年月日 株式の種類 配当金の総額(百万円) 1株当たり配当額(円) 2025年9月26日 定時株主総会 普通株式 8,094 164

従業員の状況

抜粋表示 / 原文長 約1940文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 (2025年6月30日現在) セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 4,505 真空応用事業 936 全社(共通) 691 合計 6,132 (注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。 2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 (2025年6月30日現在) 従業員数(名) 平均年齢(歳) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 1,648 44.6 17.5 8,881,993 セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 1,329 真空応用事業 156 全社(共通) 163 合計 1,648 (注)1.従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。 2.平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 3.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況 当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 (4)管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休暇取得率及び労働者の男女の賃金の差異 ①提出会社 当事業年度 管理職に占める女性労働者の割合(%) (注)1 男性労働者の育児休業取得率(%) (注)2 労働者の男女の賃金の差異(%) (注)3 全労働者 正規雇用労働者 パート・有期労働者 5.5 69.6 63.1 83.0 56.2 (注)1.「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(2015年法律第64号)の規定に基づき2025年6月30日を基準に算出したものであります。 2.「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(1991年法律第76号)の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」(1991年労働省令第25号)第71条の6第1号における育児休業等と育児目的休暇の取得割合を2024年7月1日から2025年6月30日の期間で算出したものであります。 3.「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(2015年法律第64号)の規定に基づき算出したものであります。なお、制度上の賃金格差は無く、主に上位職層における女性比率が低いことによるものであります。…

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約10062文字

(1)【コーポレート・ガバナンスの概要】 ①コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方 当社は、「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」との経営基本理念のもと、企業価値を中長期的に向上させるため、コーポレート・ガバナンスの充実に努めております。このような観点から、当社は、株主のみならず、取引関係者、地域社会、従業員その他当社事業活動に関連する様々なステークホルダーの利益を尊重するとともに、企業倫理及び法令遵守を徹底させつつ競争力のある効率的な経営を行うことを重視しております。 ②企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由 当社は、経営体制として、監査役会設置会社を採用しており、特に重要な機関として、取締役会、経営会議、監査役会、指名報酬等委員会などを設置しております。 まず、経営上重要な事項についての意思決定を行う機関として、取締役会を設置し、毎月1回の定時開催に加え、機動性確保の観点から必要に応じて臨時開催を行っております。取締役会は7名で構成されており、うち4名を社外取締役とし、4名とも独立社外取締役として指定しております。このような体制により、経営上重要な事項についての迅速で効率的な判断とともに、公正中立で透明性の高い審議の実現及び業務執行の監督を実現しております。 次に、執行役員制度を導入し、各執行役員が取締役会からの委任に基づき、各担当業務について一定の責任と権限を付与される形で業務執行に従事しております。また、社内取締役及び執行役員の計16名より構成される経営会議を設置しています。経営会議は、毎月1回の定時開催を行うとともに必要に応じて臨時開催を行っております。このような体制により、各業務執行役員の責任と権限の明確化のもと、変化の激しい事業環境に適応したより柔軟で迅速な業務執行を実現しております。 更に、経営判断及び業務執行の監査・監督機関として監査役会を設置しております。監査役会は、4名から構成されており、うち2名を社外監査役とし、2名とも独立社外監査役として指定しております。また、監査役と独立性を保障された監査室や会計監査人との緊密な連携、取締役会や経営会議をはじめとする重要な会議への監査役の出席と意見陳述、代表取締役との定例会議などにより、監査・監督機能の実効性を確保しています。このような体制により、各監査役が十分な情報を取得しつつ、厳正かつ公正中立で透明性が確保された監査・監督機能の発揮を実現しております。 加えて、取締役及び執行役員の指名、報酬等、特に客観的な判断が要求される重要事項についての議論を行う指名報酬等委員会を設置しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約39文字

5【重要な契約等】 当連結会計年度において、重要な契約等は行われておりません。

大株主の状況

抜粋表示 / 原文長 約1514文字

(6)【大株主の状況】 (2025年6月30日現在) 氏名又は名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 東京都港区赤坂1丁目8番1号 赤坂インターシティAIR 6,424 13.02 日本生命保険相互会社 東京都千代田区丸の内1丁目6番6号 日本生命証券管理部内 3,242 6.57 日本カストディ銀行(信託口、信託口4、年金特金口、信託E口、信託B口、信託A口、年金信託口) 東京都中央区晴海1丁目8-12 3,144 6.37 BBH (LUX) FOR FIDELITY FUNDS-GLOBAL TECHNOLOGY POOL (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 2A RUE ALBERT BORSCHETTE LUXEMBOURG L-1246 (東京都千代田区丸の内1丁目4番5号 決済事業部) 2,980 6.04 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505227 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) P.O.BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02101 U.S.A. (東京都港区港南2丁目15-1 品川インターシティA棟) 1,811 3.67 JPモルガン証券株式会社 東京都千代田区丸の内2丁目7-3 東京ビルディング 1,744 3.53 BNYM AS AGT/CLTS NON TREATY JASDEC (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 240 GREENWICH STREET, NEW YORK, NEW YORK 10286 U.S.A. (東京都千代田区丸の内1丁目4番5号 決済事業部) 1,535 3.11 BNYM SA/NV FOR BNYM FOR BNYM GCM CLIENT ACCTS M ILM FE (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 2 KING EDWARD STREET, LONDON EC1A 1HQ UNITED KINGDOM (東京都千代田区丸の内1丁目4番5号 決済事業部) 1,128 2.29 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505038 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) HAMGATAN 12, S-10371 STOCKHOLM SWEDEN (東京都港区港南2丁目15-1 品川インターシティA棟) 971 1.97 BNYM AS AGT/CLTS 10 PERCENT (常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行) 240 GREENWICH STREET, NEW YORK, NEW YORK 10286 U.S.A.…

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100WQX1 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

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