株式会社 アルバック

証券コード: 6728 / 対象年度: 2017 / 提出日: 2017-09-28
業種 電気機器

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このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

真空技術を基盤とした真空総合メーカー。真空装置・機器を提供する「真空機器事業」と、材料や表面分析装置などを提供する「真空応用事業」を展開。半導体、電子部品、太陽電池などの製造プロセスに不可欠な装置を提供しており、エレクトロニクス分野の高度化・高機能化を支える技術力を有する。

主な事業領域

真空技術を基盤とした製品提供。真空機器事業(FPD/PV製造装置、半導体/電子部品製造装置、コンポーネント、一般産業用装置)と真空応用事業(材料、その他分析装置等)。

主な製品・サービス

  • スパッタリング装置
  • CVD装置
  • エッチング装置
  • 真空蒸着装置
  • 真空熱処理炉
  • スパッタリングターゲット材料
  • 表面分析装置

ビジネスモデル

真空技術を基盤とした高度な装置および材料の提供による収益。エレクトロニクス分野における設備投資需要に応える。

セグメント・事業構成

1. 真空機器事業(FPD/PV、半導体/電子部品、コンポーネント、一般産業用) 2. 真空応用事業(材料、その他分析装置等)

戦略・方向性

顧客満足の増進、生産技術の革新(標準化・モジュール化)、独創的な商品開発、自由闊達な組織の形成による企業価値向上。

強みとして読み取れる点

  • 真空技術における高度な専門性
  • 幅広い製品ラインナップ(装置から材料まで)
  • エレクトロニクス分野での強固な基盤

課題として読み取れる点

  • スマートフォン販売台数伸びの鈍化への対応(ただし高機能化・薄型化による需要は継続)

確認ポイント

  • 半導体や電子部品の高度化に伴う設備投資動向
  • 有機EL製造装置などの先端技術分野でのシェア

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、セグメント構成、主要製品、経営方針が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

FPD、半導体、電子部品市場の変動による影響(売上高の5割超)、研究開発における進捗遅延や困難、FPD業界での価格競争と原材料高騰、円高時における海外競合との価格競争力低下、中国等の海外拠点における法規制や政情不安、品質管理上の不備、知的財産権侵害訴訟、および財務制限条項への抵触による資金調達の支障。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を基盤とした高度な製造装置および関連材料の提供。FPDや半導体分野での強固な地位を確立しており、研究開発への多額の投資とグローバル展開による競争力の強化を目指す。

成長方針

FPD、半導体、電子部品分野における技術革新と製品の高度化。特に有機ELや次世代メモリ向け装置の開発、グローバルな調達・生産体制の強化によるコスト競争力の向上。

資本政策

自己資本比率の改善を含む財務体質の強化、および研究開発への積極的な投資(3年間で500億円規模)を通じた成長投資力の確保。

リスク対応方針

為替リスクへの対応(円建取引の原則)、海外拠点の管理体制構築、知的財産権の確保、および品質保証体制の確立。また、主要顧客の投資動向や競合他社の台頭に対する技術的優位性の維持。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

アルバックは、真空技術を核とした高度な製造装置(半導体・FPD)を提供。次世代メモリや有機ELなど成長分野への積極的なR&D投資を行い、強固な技術的優位性を構築している。特に半導体向けエッチングやスパッタリングにおいて高い競争力を有する。

設備投資の方向性

真空機器事業における半導体、FPD、PV分野の評価・研究開発用機械への積極的な投資。また、次世代技術に向けた設備拡充。

研究開発・商品開発

高度情報化、省エネ・創エネを重点領域とし、独自の真空技術を用いた新製品(有機EL向け大型基板対応装置、次世代不揮発性メモリ用モジュール、PLP向けエッチング装置等)の開発。年間約60億円超の投資。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置
  • 真空技術
  • 有機ELディスプレイ
  • 次世代メモリ
  • 高度情報化
  • 省エネ・創エネ

関連キーワード

  • スパッタリング
  • CVD
  • エッチング
  • プラズマ
  • クリーンルーム
  • 高精度加工
  • 分析機器
  • ナノテクノロジー

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2016-07-01 〜 2017-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2017-09-28

財務情報

業績

売上高

2,318.31億円
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売上高
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営業利益

294.68億円
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経常利益

297.16億円
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税引前利益

287.68億円
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親会社帰属利益

244.69億円
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財政状態・流動性

総資産

2,453.06億円
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純資産

1,049.17億円
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983.15億円
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現金及び現金同等物

475.55億円
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キャッシュフロー

3区分

営業CF

+378.18億円
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-137.13億円
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-225.8億円
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財務項目の関係

資本項目の関係

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確認事項

開示上の確認事項

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2016-07-01 〜 2017-06-30
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表示可能
選定状況
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有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約1443文字

3【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社43社、関連会社5社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、真空蒸着装置、エッチング装置、太陽電池製造装置、巻取式蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、レジストストリッピング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置、他 コンポーネント 真空ポンプ(ドライポンプ、油回転ポンプ、メカニカルブースタポンプ、油拡散ポンプ、スパッタイオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ)、各種真空計、ヘリウムリークディテクタ、各種ガス分析計、分光エリプソメータ、各種電源、成膜コントローラ、各種真空バルブ、各種真空部品(導入端子、真空覗き窓、真空用マニュピレータ他)、真空搬送ロボット・真空搬送プラットフォーム他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、真空蒸留装置、ヘリウムリークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、表面処理、超微粒子(ナノメタルインク)他 その他 オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、各種産業機械駆動用制御装置、半導体用ハードマスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 CVD装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抽出本文 / 原文長 約694文字

3【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、スマートフォン販売台数の伸びの低下は見られるものの、モバイル機器などの高機能化・薄型化に向けた動きは継続し、半導体や電子部品の需要は概ね堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ(FPD)製造装置の設備投資も、モバイル端末向け有機EL製造装置やテレビ向け大型液晶ディスプレイ製造装置が、引き続き活発な動きを示しております。また、スマート社会化などエレクトロニクス分野を中心とした技術革新の動きが加速してきており、半導体や電子部品メーカー等の旺盛な設備投資が予想されます。

対処すべき課題

抽出本文 / 原文長 約694文字

3【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1) 会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2) 経営環境 当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、スマートフォン販売台数の伸びの低下は見られるものの、モバイル機器などの高機能化・薄型化に向けた動きは継続し、半導体や電子部品の需要は概ね堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ(FPD)製造装置の設備投資も、モバイル端末向け有機EL製造装置やテレビ向け大型液晶ディスプレイ製造装置が、引き続き活発な動きを示しております。また、スマート社会化などエレクトロニクス分野を中心とした技術革新の動きが加速してきており、半導体や電子部品メーカー等の旺盛な設備投資が予想されます。

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約1094文字

3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報 前連結会計年度(自 平成27年7月1日 至 平成28年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 160,437 32,000 192,437 192,437 セグメント間の内部売上高又は 振替高 1,800 750 2,551 △ 2,551 162,237 32,750 194,987 △ 2,551 192,437 セグメント利益 14,955 2,897 17,852 11 17,864 セグメント資産 184,676 33,248 217,924 1,637 219,561 その他の項目 減価償却費 5,654 1,278 6,932 △ 1 6,931 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 5,885 1,162 7,046 7,046 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 当連結会計年度(自 平成28年7月1日 至 平成29年6月30日) (単位:百万円) 報告セグメント 調整額 (注)1 連結財務諸表 計上額 (注)2 真空機器事業 真空応用事業 売上高 外部顧客への売上高 200,601 31,230 231,831 231,831 セグメント間の内部売上高又は 振替高 2,457 1,315 3,772 △ 3,772 203,057 32,545 235,603 △ 3,772 231,831 セグメント利益 26,846 2,600 29,446 22 29,468 セグメント資産 209,943 33,549 243,492 1,815 245,306 その他の項目 減価償却費 5,133 1,286 6,419 △ 1 6,418 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 6,618 1,737 8,354 8,354 (注)1.調整額は、以下のとおりであります。 (1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。 (2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。 2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。

主要な顧客・販売先

抽出本文 / 原文長 約237文字

2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称 品目 当連結会計年度 販売高 (百万円) 割合 (%) 真空機器事業 FPD及びPV製造装置 110,882 55.3 半導体及び電子部品製造装置 36,422 18.1 コンポーネント 31,814 15.9 一般産業用装置 21,483 10.7 200,601 100.0 真空応用事業 材料 14,560 46.6 その他 16,670 53.4 31,230 100.0

リスクに関する有報本文

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事業等のリスク

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4【事業等のリスク】 当社グループの業績、財務状況等に影響を及ぼす可能性のある主なリスク要因は、以下のとおりです。 ①FPD、半導体及び電子部品の市場変動による影響 当社グループは、特にFPD、半導体及び電子部品などの製造工程で使われる真空装置の分野において、独自技術の開発を行って市場投入することにより、同分野におけるシェアを獲得して成長してまいりました。今や、同分野の売上は、連結売上高の5割を超えており、当社グループの主力分野となっております。その反面、当社グループの取引先であるFPDメーカー、半導体及び電子部品メーカーの設備投資の大幅な縮小が発生した場合や取引先である顧客の財務状況が悪化した場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ②研究開発による影響 当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてきました。しかしながら、新技術を製品化する上では不可避の、想定計画との比較において開発が著しく困難な局面に直面したり、または開発の著しい遅延が余儀なくされるといった事象が発生した場合などに、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ③価格競争による影響 当社グループの主要取引先であるFPD業界においては、依然としてデジタル家電の需要が高いものの、当該取引先からの強い販売価格の引き下げ要求が恒常化していることに加え、韓国、台湾、中国の新規競合メーカーの台頭による一層の競争の激化や材料・購入品の価格高騰による原価上昇によって、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ④海外売上高増加による影響 当社グループの海外売上高比率は高く、特に韓国、台湾及び中国などの対アジア地域売上高比率が高率となっております。そこで、為替リスクを回避するため、原則として円建取引をしております。しかしながら、当該円建取引では、円高時において価格競争力の面で海外メーカーと比較して不利となることがあります。また、例外的に外貨建取引を行った場合においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 ⑤グローバル事業展開に関する影響 当社グループは、中国市場におけるシェア確保のため、積極的に同国に進出して現地法人による事業展開をしております。これらの現地法人においては、個々の経営を把握して適宜対応できる体制を構築しておりますが、予期しえない法制度の変化による各種規制や税制・相場制度の変更、政情不安、景気変動、人材の流出などにより、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

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6【研究開発活動】 当社グループは、真空技術を応用した次世代・最先端の分野における研究開発活動を経営の重要な柱に位置付けており、当連結会計年度における研究開発活動は、当社を中心として以下のとおり実施いたしております。 国内外の各開発拠点において競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。 今後成長が見込まれる「情報の高度化」分野、「省エネ・創エネ」分野においては、重要領域を定め重点的な開発投資を行うことで、スピードを重視した開発を進めております。 当連結会計年度における研究開発費の総額は68億91百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。 (真空機器事業) 当社の事業の柱であるフラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体、高機能電子デバイス用装置などの電子デバイスの各分野に開発投資を行い、新製品や新技術を創出、受注にも貢献しております。 また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行っております。 当セグメントに係る研究開発費は64億85百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。 (1)FPD製造装置 液晶ディスプレイ及び有機ELディスプレイ、フレキシブルディスプレイなどの分野における次世代技術への開発投資を行っております。 モバイル端末用高精細ディスプレイを生産する有機EL製造装置では、量産に向けた大型基板(G6ハーフ)に対応した真空蒸着装置を開発し、市場に投入しております。 高精細大型TV用液晶ディスプレイ製造装置分野では、世界最大のG10.5基板に対応した新型スパッタリング装置及びターゲットを開発し、顧客工場への納入を開始いたしました。 (2)半導体及び電子部品製造装置 3次元NANDフラッシュメモリに続く次世代不揮発性メモリ用製造装置では、成膜性能の向上や新プロセスを実現させるモジュールを開発し、市場に投入しております。 高密度実装分野では、処理面積を拡大し、生産性を大幅に改善するPLP(Panel Level Packaging)向け「エッチング装置NA-1500」を開発、販売を開始いたしました。 また、パワーデバイス向けには、IGBT向け低加速・高濃度対応イオン注入装置「SOPHI-30」と高加速対応イオン注入装置「SOPHI-400」の2機種を開発、販売を開始し、既存の機種と合わせてパワーデバイス向けイオン注入装置のラインナップを大幅に充実させました。 (3)コンポーネント 真空ポンプなど、各種真空関連機器の開発を行っております。真空装置に使用する各種電源の開発も進めており、DC電源やRF電源、EB電源等のラインナップを充実させております。 また、有機EL製造装置用の防振型クライオポンプを開発し、市場に投入しております。…

設備投資等の概要

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2【主要な設備の状況】 (1)提出会社 (平成29年6月30日現在) 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 土地 (面積千㎡) リース資産 その他 合計 本社・茅ヶ崎工場 (神奈川県茅ヶ崎市) 真空機器 事業 全社管理業務 研究開発業務 FPD及びPV製造装置 電子部品製造装置 一般産業用装置 コンポーネント 上記に関わる設備 8,941 4,767 603 (51) 106 258 14,675 909 富士裾野工場 (静岡県裾野市) 半導体製造装置に関わる設備 研究開発に関わる設備 1,459 4,100 3,028 (106) 67 8,659 148 千葉富里工場 (千葉県富里市) 研究開発に関わる設備 1,631 144 363 (25) 67 2,205 21 未来技術研究所 (茨城県つくば市) 176 30 81 (3) 11 299 14 千葉富里工場 (千葉県富里市) 真空応用 事業 ターゲット製造 設備 726 106 258 (18) 1,100 34 千葉山武工場 (千葉県山武市) 383 157 86 (31) 13 642 20 (2)国内子会社 (平成29年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機械装置及び運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 アルバック東北株式会社 本社工場 (青森県八戸市) 真空機器事業 建物及び付帯設備他 781 28 ( - ) 56 34 900 258 アルバックテクノ株式会社 本社工場他 (神奈川県茅ヶ崎市他) 真空機器事業 メンテナンス等サービス設備 1,965 59 1,168 (23) 197 36 3,425 336 アルバック九州株式会社 本社工場 (鹿児島県霧島市) 真空機器事業 工場棟及び配管・動力等生産設備 770 58 (0) 222 16 1,069 264 アルバック機工株式会社 本社工場 (宮崎県西都市) 真空機器事業 小型真空ポンプ等生産設備 616 127 51 (50) 83 33 910 130 アルバック成膜株式会社 本社工場 (埼玉県秩父市) 真空応用事業 真空薄膜製品の生産設備 1,412 793 844 (56) 128 56 3,233 168 (3)在外子会社 (平成29年6月30日現在) 会社名 事業所名 (所在地) セグメントの名称 設備の内容 帳簿価額(百万円) 従業員数(名) 建物 及び 構築物 機械装 置及び 運搬具 土地 (面積 千㎡) リース 資産 その他 合計 ULVAC KOREA,Ltd.…

その他の有報本文

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配当政策

抽出本文 / 原文長 約384文字

3【配当政策】 当社は、株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。 設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、当社はさらなる研究開発投資や財務基盤の強化に必要な内部留保の充実を図っていく所存です。株主の皆様への利益配当については、こうした財務基盤の状況や各年度の連結業績及び配当性向等を総合的に勘案し、実施してまいります。 当社は、期末配当による年1回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。 当期の配当につきましては上記の方針に基づき、1株につき50円と決定いたしました。 (注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。 決議年月日 株式の種類 配当金の総額(百万円) 1株当たり配当額(円) 平成29年9月28日定時株主総会 普通株式 2,468 50

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約585文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 (平成29年6月30日現在) セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 4,670 真空応用事業 742 全社(共通) 660 合計 6,072 (注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。 2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 (平成29年6月30日現在) 従業員数(名) 平均年齢(歳) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 1,225 42.7 15.9 8,576,584 セグメントの名称 従業員数(名) 真空機器事業 1,067 真空応用事業 60 全社(共通) 98 合計 1,225 (注)1.従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。 2.平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 3.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況 当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 有価証券報告書(通常方式)_20170928115659

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約6924文字

(1)【コーポレート・ガバナンスの状況】 ①企業統治の体制 (企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由) 当社は、「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学に貢献することを目指す」との経営基本理念のもと、企業価値を中長期的に向上させるため、コーポレート・ガバナンスの充実に努めております。このような観点から、当社は、株主のみならず、取引関係者、地域社会、従業員その他当社事業活動に関連する様々なステークホルダーの利益を尊重するとともに、企業倫理及び法令順守を徹底させつつ競争力のある効率的な経営を行うことを重視しております。 当社は、経営体制として、監査役会設置会社を採用しており、特に重要な機関として、取締役会、常勤役員会、監査役会、指名報酬等委員会等を設置しております。 まず、経営上重要な事項についての意思決定を行う機関として、取締役会を設置し、毎月1回の定時開催に加え、機動性確保の観点から必要に応じて臨時開催を行っております。取締役会は8名で構成されており、うち3名を社外取締役としています。社外取締役のうち2名を独立社外取締役として指定しております。このような体制により、経営上重要な事項についての迅速で効率的な判断とともに、公正中立で透明性の高い審議の実現及び業務執行の監督を実現しております。 次に、執行役員制度を導入し、各執行役員が取締役会からの委任に基づき、各担当業務について一定の責任と権限を付与される形で業務執行に従事しております。また、社内取締役及び執行役員の計18名より構成される常勤役員会を設置しています。常勤役員会は、毎月2回の定時開催を行うとともに必要に応じて臨時開催を行っております。このような体制により、各業務執行役員の責任と権限の明確化のもと、変化の激しい事業環境に適応したより柔軟で迅速な業務執行を実現しております。 更に、経営判断及び業務執行の監査・監督機関として監査役会を設置しております。監査役会は、4名から構成されており、うち2名を社外監査役とし、2名とも独立社外監査役として指定しております。また、監査役と独立性を保障された監査室や会計監査人との緊密な連携、取締役会や常勤役員会をはじめとする重要な会議への監査役の出席と意見陳述、代表取締役との定例会議等により、監査・監督機能の実効性を確保しています。このような体制により、各監査役が十分な情報を取得しつつ、厳正かつ公正中立で透明性が確保された監査・監督機能の発揮を実現しております。 加えて、取締役及び執行役員の指名、報酬等、特に客観的な判断が要求される重要事項についての議論を行う指名報酬等委員会を設置しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約47文字

5【経営上の重要な契約等】 当連結会計年度において、経営上の重要な契約等は行われておりません。

大株主の状況

抽出本文 / 原文長 約1047文字

(7)【大株主の状況】 (平成29年6月30日現在) 氏名又は名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式総数に対する所有株式数の割合(%) 日本生命保険相互会社 大阪府大阪市中央区今橋3-5-12 3,242 6.57 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 東京都中央区晴海1-8-11 3,193 6.47 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 東京都港区浜松町2-11-3 1,983 4.02 株式会社みずほ銀行 東京都千代田区大手町1-5-5 1,916 3.88 株式会社三井住友銀行 東京都千代田区丸の内1-1-2 1,864 3.78 THE BANK OF NEW YORK, NON-TREATY JASDEC ACCOUNT (常任代理人 株式会社三菱東京UFJ銀行) 225 LIBERTY STREET, NEW YORK, NEW YORK 10286, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 1,098 2.23 株式会社三菱東京UFJ銀行 東京都千代田区丸の内2-7-1 910 1.84 TAIYO HANEI FUND, L. P. (常任代理人 株式会社三菱東京UFJ銀行) 5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA (東京都千代田区丸の内2-7-1 決済事業部) 884 1.79 THE BANK OF NEW YORK MELLON 140044 (常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部) 225 LIBERTY STREET, NEW YORK, NEW YORK, USA (東京都港区港南2-15-1 品川インターシティA棟) 878 1.78 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505019 (常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部) AIB INTERNATIONAL CENTRE P.O.BOX 518 IFSC DUBLIN,IRELAND (東京都中央区日本橋3-11-1) 772 1.56 16,740 33.92 (注) 1.平成28年9月7日付でタイヨウ・ファンド・マネッジメント・カンパニー・エルエルシー及びその共同保有者が関東財務局長に提出した大量保有に関する変更報告書により、主要株主の異動を確認したため、平成28年9月9日付で臨時報告書(主要株主の異動)を提出しております。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2017
使用モデル
gemma4:12b

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