事業の内容
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/ 原文長 約1976文字
３【事業の内容】 当社は、半導体等電子部品製造装置メーカーで、薄膜形成・加工装置の製造及び販売を事業としております。 当社の製品は、薄膜を形成するＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition＝化学的気相成長）装置、薄膜を微細加工するエッチング装置、基板表面などをクリーニングする洗浄装置、その他装置等に区分されます。 （１）各々の装置分類毎の概要は次のとおりであります。 装置区分 概 要 ＣＶＤ装置 反応性の気体を基板上に供給し、化学反応によって薄膜を形成する装置で、一般に半導体、電子部品製造のための半導体膜、絶縁膜、金属膜などを形成するために使われます。当社が開発したＬＳ（Liquid Source）－ＣＶＤ装置では、引火爆発性のあるガスを使用せず安全性に優れた液体原料を用いて、低温で均一性に優れた薄膜を高速で形成することが可能であります。 平成27年12月から販売を開始した原子層堆積装置（ＡＬＤ＝ Atomic L ayer Deposition ）はＣＶＤ装置に分類しております。ＡＬＤ装置は、反応室に有機金属原料と酸化剤を交互に供給し、表面反応のみを利用して成膜を行う装置であり、高い膜厚制御性と良好な段差被覆性を実現することが可能であります。 エッチング装置 各種半導体基板上の半導体薄膜、絶縁膜をはじめ微細加工が必要な材料をドライ加工する装置で、反応性の気体をプラズマ分解し、目的物と反応させて蝕刻いたします。当社独自のトルネードＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma＝高密度プラズマ）を利用するエッチング装置では、高密度プラズマを安定して生成し、高速で高精度の微細加工が可能であります。 洗浄装置 実装基板や各種半導体基板などを溶液を用いずドライ洗浄する装置で、減圧下で反応性の気体をプラズマ放電させて処理する装置や紫外線と高濃度オゾンの併用で処理する装置などがあります。当社のドライ洗浄装置は、ウエット洗浄では難しい超精密洗浄を高効率で行うことが可能であります。 平成28年９月より販売を開始した水蒸気（H2O）を用いたプラズマ処理装置である Aqua Plasma（ アクアプラズマ）洗浄装置 は、 金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、樹脂接合、超親水化などの表面処理を、安全で環境に優しく行うことが可能であります。 その他装置 上記装置には含まれない特別な装置であります。 その他 部品、保守メンテナンスなどであります。 （２）当社事業の用途別区分は次のとおりであります。…
経営方針・経営戦略・対処すべき課題
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/ 原文長 約2340文字
１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1）会社の経営の基本方針 当社は「 企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と共に成 長する企業を目指して、 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 。 」ことを経営理念とし、 ①社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。 ②直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。 ③事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。 を経営方針に掲げ、事業を展開しております。 (2）目標とする経営指標 当社は中期的にも収益力の高い企業であり続けようと考えております。売上高総利益率50％を確保しながら売上高を拡大していくことにより売上高経常利益率20％台への向上を目指します。売上高の拡大のため、研究開発機市場と生産機市場のそれぞれに対応した製品の拡販に努めるとともに、中期的には海外売上高比率を50％以上に引き上げる方針であります。 (3）経営環境及び対処すべき課題等 当社は、化合物半導体及び電子部品製造用の製造装置を主力製品とし、研究開発機市場と生産機市場それぞれで事業を展開しております。当社は、「 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 」という経営理念のもと、研究開発型企業として成長してきた高度な技術力を維持すると同時に、蓄積した技術を生産機市場で活かすことで、事業規模の拡大を図っております。加えて、当社のコアテクノロジーである「薄膜技術」は医療、バイオ、環境といったライフサイエンス及びエネルギー分野に活かすことが可能であり、中期的には当社の新規事業、新分野として成長させることを目指しております。 当社の主たる事業領域である化合物半導体及び電子部品製造装置のマーケットでは、世の中に存在する様々なモノがネットワークと繋がるＩｏＴ（モノのインターネット）、自動運転、ロボット、ＡＩ（人工知能）等の技術革新の時代が本格的な幕開けを迎えつつあり、関連企業は設備投資に対して前向きな姿勢を示しております。令和元年８月よりスタートさせた中期経営計画において、当社の新たな成長に向けた中長期ビジョンを作成し、以下の課題に取り組んでおります。 ① 海外販売の拡大 当社の事業を成長軌道に乗せるため、海外販売の拡大を最大の目標に掲げ、将来の成長期待の高い海外への事業展開を積極的に行っております。海外拠点、販売・サービス体制の整備と充実を図り、引き続き海外市場の開拓を図っていく方針であります。…
対処すべき課題
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/ 原文長 約2340文字
１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1）会社の経営の基本方針 当社は「 企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と共に成 長する企業を目指して、 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 。 」ことを経営理念とし、 ①社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。 ②直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。 ③事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。 を経営方針に掲げ、事業を展開しております。 (2）目標とする経営指標 当社は中期的にも収益力の高い企業であり続けようと考えております。売上高総利益率50％を確保しながら売上高を拡大していくことにより売上高経常利益率20％台への向上を目指します。売上高の拡大のため、研究開発機市場と生産機市場のそれぞれに対応した製品の拡販に努めるとともに、中期的には海外売上高比率を50％以上に引き上げる方針であります。 (3）経営環境及び対処すべき課題等 当社は、化合物半導体及び電子部品製造用の製造装置を主力製品とし、研究開発機市場と生産機市場それぞれで事業を展開しております。当社は、「 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 」という経営理念のもと、研究開発型企業として成長してきた高度な技術力を維持すると同時に、蓄積した技術を生産機市場で活かすことで、事業規模の拡大を図っております。加えて、当社のコアテクノロジーである「薄膜技術」は医療、バイオ、環境といったライフサイエンス及びエネルギー分野に活かすことが可能であり、中期的には当社の新規事業、新分野として成長させることを目指しております。 当社の主たる事業領域である化合物半導体及び電子部品製造装置のマーケットでは、世の中に存在する様々なモノがネットワークと繋がるＩｏＴ（モノのインターネット）、自動運転、ロボット、ＡＩ（人工知能）等の技術革新の時代が本格的な幕開けを迎えつつあり、関連企業は設備投資に対して前向きな姿勢を示しております。令和元年８月よりスタートさせた中期経営計画において、当社の新たな成長に向けた中長期ビジョンを作成し、以下の課題に取り組んでおります。 ① 海外販売の拡大 当社の事業を成長軌道に乗せるため、海外販売の拡大を最大の目標に掲げ、将来の成長期待の高い海外への事業展開を積極的に行っております。海外拠点、販売・サービス体制の整備と充実を図り、引き続き海外市場の開拓を図っていく方針であります。…
経営成績・財政状態の概況
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/ 原文長 約5903文字
３【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1）経営成績等の状況の概要 ①経営成績の状況 当事業年度におけるわが国経済は、企業収益や雇用・所得環境の改善を背景に緩やかに拡大いたしました。一方、世界経済は米中間の貿易摩擦問題や、英国のＥＵ離脱など経済政策を巡る不確実性が高まっていることも影響し、中国や欧州を中心に減速の動きが見られ、先行き不透明感が強まる状況で推移いたしました。 当社を取り巻く半導体等電子部品業界におきましては、 当社の関わる化合物半導体及び電子部品製造装置の販売マーケットにおいて、新たなモバイル機器や車載センサーなどの電子部品分野、あるいはＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems＝微小電気機械素子）といった先端分野での研究開発投資が幅広い企業で進み、その中から本格生産への移行も進んでおります。 このような状況の下、 前事業年度に引き続き、オプトエレクトロニクス分野の通信用レーザーや、電子部品分野の高周波デバイス、パワーデバイス、ＭＥＭＳ、各種センサー等向け製造装置の受注活動、新製品の拡販に注力してまいりました。しかしながら、スマートフォン市場の需要低迷及び米中貿易摩擦の影響による中国経済の減速が、当社の主要取引先である電子部品メーカーの設備投資判断に影響していることにより、受注高は伸び悩みの傾向が続きました。その結果、国内売上高は3,161百万円（前期比1.9％減）、海外売上高は1,774百万円（前期比20.9％減）となりました。 以上の結果、当事業年度における業績は、売上高が4,936百万円（前期比9.7％減）、営業利益は327百万円（前期比48.6％減）、経常利益は305百万円（前期比52.5％減）、当期純利益は215百万円（前期比47.1％減）となりました。 主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。 （ＣＶＤ装置） オプトエレクトロニクス分野の半導体レーザー、電子部品分野のパワーデバイスにおける各種絶縁膜、保護膜形成用途での販売があったものの、生産機の販売が減少し、 売上高は 429百万円（前期比52.5％減）となりました。 （エッチング装置） オプトエレクトロニクス分野での半導体レーザーや面発光レーザー（VCSEL）、電子部品分野の車載用パワーデバイスや各種センサー、シリコン分野での欠陥解析向けでの販売がありましたが、生産機の販売がやや減少したため、 売上高は 2,801百万円（前期比15.9％減）となりました。…
セグメント関連
抽出本文
/ 原文長 約176文字
【セグメント情報】 前事業年度（自 平成29年８月１日 至 平成30年７月31日） 当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるため、記載を省略しております。 当事業年度（自 平成30年８月１日 至 令和元年７月31日） 当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるため、記載を省略しております。