株式会社KOKUSAI ELECTRIC

証券コード: 6525.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-06-26

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置の特定工程(成膜、熱処理)において世界トップクラスのシェアを誇り、技術的優位性が極めて高い。事業構造として、設備投資サイクルに左右されにくいサービスビジネスが安定的な収益基盤となっており、財務面でも良好な利益率とキャッシュフローを維持している。地政学的リスクや半導体市況の変動といったマクロ要因はあるものの、独自の技術力による参入障壁と高いシェアにより、強固な競争優位性を有する。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置における高度な成膜・トリートメント技術を核とした強固な競争優位性を有する。先端半導体の複雑化に対応する高付加価値製品へのシフト、DXによる効率化、サービスビジネスの強化を通じて成長を目指す。財務面ではLBO後の負債管理を計画的に進めつつ、資本効率の向上を図る方針である。

成長方針

先端半導体(AI、3D構造等)向けの高付加価値製品(バッチALD、トリートメント技術)の開発加速。DX推進による生産・管理体制の高度化。リカーリングな収益が見込めるサービスビジネスの拡大とシェア拡大。

資本政策

資本コストを意識した中長期的な視点での資本効率(ROE、ROIC)の向上。LBOスキームに伴う借入金の計画的なリファイナンスによる金利負担の軽減と財務健全性の維持。

リスク対応方針

サプライチェーンのマルチベンダー化と早期情報提供による安定調達。地政学的リスクに対する地域別・製品別の売上構成の最適化。強固な情報セキュリティ体制およびコンプライアンス体制の構築。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 5 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置の成膜および熱処理工程において世界トップクラスのシェアを誇る技術的優位性を有する。特にバッチALD技術における強みと、次世代デバイス(3D構造等)への対応に向けた積極的なR&D投資が特徴。DXによる生産効率向上やグローバルなデモ拠点の拡充、サービスビジネスの拡大を通じて、成長性と安定性の両立を図る戦略を推進している。

設備投資の方向性

新工場の建設、韓国・米国におけるデモセンターの拡張・新設、および次世代技術に対応するための生産・開発体制の拡充に向けた設備投資を推進。

研究開発・商品開発

3次元構造化に伴う高度な成膜ニーズに応えるためのバッチALD技術や熱処理技術に重点を置き、高難易度と高生産性の両立を目指す。また、製品ライフサイクル全体をカバーするサービス事業の強化にも投資を割いている。

投資・変化テーマ

  • バッチALD技術の高度化
  • 3次元構造向け成膜・熱処理技術
  • サービスビジネスの拡大とリカーリング収益の確保
  • グローバルなデモセンター展開
  • DXによる生産管理・顧客管理の最適化

関連キーワード

  • ALD (原子層堆積)
  • CVD
  • 熱処理装置
  • プラズマゲート修飾
  • AdvancedAce
  • TSURUGI
  • 高生産性成膜

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 4 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 単体 会計基準: 不明

損益

項目 区分
売上高 1,886.9 億円 抽出
営業利益 299.0 億円 抽出
経常利益 419.7 億円 抽出
税引前利益 399.5 億円 抽出
当期純利益 304.1 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 2,741.7 億円 抽出
純資産 1,470.6 億円 抽出
自己資本 1,464.3 億円 抽出
現金等 239.3 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 53.40% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 53.64% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 15.85% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 16.11% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 20.77% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 11.09% 計算 / 当期純利益 / 総資産
現金等比率 8.73% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 53.40% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 53.41% 計算
純資産比率(計算参考) 53.64% 計算

注意フラグ

  • 営業CFが未取得

未取得項目

  • 財務CFが未取得
  • 投資CFが未取得
  • 営業CFが未取得

この企業の分析履歴

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年度 提出日 docID 表示
2026 2026-06-25 S100YJUA この年度を見る
2025 表示中 2025-06-26 S100W60T この年度を見る
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※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100W60T 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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