レーザーテック株式会社

証券コード: 6920 / 対象年度: 2017 / 提出日: 2017-09-28
業種 電気機器

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

半導体およびフラットパネルディスプレイ(FPD)分野における高度な光技術を核とした検査・測定装置の設計、製造、販売を行う企業です。精密機械、エレクトロニクス、ソフトウェアの先進複合技術を駆使し、最先端の半導体・FPD市場へ向けたソリューションを提供しています。

主な事業領域

半導体関連装置およびその他の装置の設計、製造、販売、ならびに付随するサービスの提供。

主な製品・サービス

  • 半導体用フォトマスク欠陥検査装置
  • 半導目マスクブランクス欠陥検査装置
  • FPD用大型フォトマスク欠陥検査装置
  • SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置
  • その他の半導体ウェハ関連の検査・測定装置

ビジネスモデル

検査・測定装置の設計、製造、販売およびサービス提供による収益。特に高度な光技術と先端分野向けのソリューション提供に強み。

セグメント・事業構成

単一のセグメント(検査・測定装置の設計、製造、販売)

戦略・方向性

コアビジネス(フォトマスク欠陥検査装置等)の強化と新規事業(SiCウェハ関連、EUVリソグラフィ関連など)の基盤確立。営業利益率20%以上を目標とする。

強みとして読み取れる点

  • 高度な光技術
  • 精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術
  • 高いマーケットシェア(SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置)

課題として読み取れる点

  • 海外でのサポート力、営業力の強化
  • 新規事業を見出すための市場の新たなニーズの発掘
  • 次世代露光技術(EUVリソグラフィ)関連の新製品への対応

確認ポイント

  • EUVリソグラフィ関連の新製品の業績貢献度
  • SiCウェ100%シェア獲得に向けたさらなる推進
  • 新規事業の開拓状況

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、主要な製品、経営戦略、および課題が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報が含まれているため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

研究開発における新製品の導入タイミングや開発スケジュールが業績に影響するリスク。高度な専門性を有する人材の確保・育成、および重要な人材の流出による影響。半導体市場の需給バランスや技術革新に伴う急激な変化による事業規模の変動。未成熟な新技術の導入に伴う予期せぬ品質問題の発生。複雑化する知的財産権の侵害回避や紛争への巻き込まれによる影響。高額製品のため、検収時期のわずかな変動が業績に与える大きな影響。代替困難な特殊部品(光源・光学部品)の供給停滞による生産への支障。海外事業における規制変更、経済的混乱、および一部外貨建取引における為替変動の影響。本社所在地域での大規模災害によるインフラ停止や生産活動の停滞。技術情報や顧客情報の流出による信用毀損のリスク。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

レーザーテックは半導体検査装置のトップシェアを誇る企業。高度な光学・精密機械技術を核に、EUVやSiCなどの次世代技術への対応を強化しており、強固な財務基盤と明確な成長戦略(コア事業強化+新規分野開拓)の両立により高い成長期待が見込まれる。

成長方針

コアビジネス(半導体用フォトマスク欠陥検査装置等)の強化、新規事業(SiCウェハ、EUV関連など)の推進、および次世代露光技術への対応による飛躍を目指す。

資本政策

営業利益率20%以上を目標とし、強固な財務基盤の構築と成長への投資の両立を目指す。

リスク対応方針

研究開発、人材確保、市場変動、品質管理、知的財産、供給網、海外展開、災害対策、情報セキュリティ等の多角的なリスク管理体制を構築。特に先端技術分野での知財保護とサプライチェーンの安定確保に注力。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 5 / 5

有報ナビによる整理

レーザーテックは、半導体製造における最先端リソグラフィ工程(EUV等)に不可欠な検査装置において圧倒的な技術的優位性を有する。研究開発への積極的な投資と独自技術の融合により、次世代半導体市場の成長を捉えるための強固なポートフォリオを構築している。

設備投資の方向性

設備投資は、主に生産能力の維持と高度な検査装置の開発・製造体制の強化に向けた投資が行われている。

研究開発・商品開発

光技術を核としたオプトメカトロニクス分野で、EUVリソグラフィ等の最先端半導体プロセスに対応するマスク欠陥検査装置やリソグラフィプロセス検査装置の開発に注力。AI技術による自動欠陥分類の導入など、高度な周辺技術との融合を進めている。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置
  • EUVリソグラフィ
  • マスク欠陥検査
  • AI技術応用
  • オプトメカトロニクス

関連キーワード

  • 光技術
  • 精密機械
  • エレクトロニクス
  • 画像処理
  • 共焦点光学系
  • DUV
  • EUV
  • 高精度高速ステージ
  • 自動欠陥分類

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2016-07-01 〜 2017-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2017-09-28

財務情報

業績

売上高

173.69億円
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経常利益

49.89億円
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親会社帰属利益

35.55億円
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財政状態・流動性

総資産

330.19億円
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244.79億円
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242.44億円
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97.37億円
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キャッシュフロー

3区分

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+35.49億円
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財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
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確認事項

開示上の確認事項

この表示に確認事項はありません。

文書情報を確認
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表示状況
表示可能
選定状況
表示可能
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raw selection status
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有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抽出本文 / 原文長 約522文字

3【事業の内容】 当社グループ(当社及び連結子会社、以下同じ)の事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントでありますが、当社グループが営んでいる主な事業内容は、半導体関連装置及びその他の装置等の設計、製造、販売並びにこれらに係るサービスに区分されます。 半導体関連装置及びその他の装置等の設計、製造は連結財務諸表提出会社(以下「当社」という)が行っております。 販売については、 北米地域及び欧州地域に対しては連結子会社のLasertec U.S.A., Inc.が行っており、国内及びアジア地域に対しては当社が行っております。 サービスについては、 北米地域並びに欧州地域に対しては連結子会社のLasertec U.S.A., Inc.、韓国に対しては連結子会社のLasertec Korea Corporation、台湾に対しては連結子会社のLasertec Taiwan, Inc.、中国に対しては連結子会社のLasertec China Co., Ltd.が行っております。国内及びその他のアジア地域に対しては当社が行っております。 なお、当社及び各関係会社等の事業を事業系統図によって示すと以下のとおりとなります。

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1259文字

3【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、創業以来「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念に、半導体・FPDをはじめとする先端分野の市場に、各種検査・計測システムを提供してまいりました。今後もこの経営理念を堅持し、「世界中のお客様から何か困ったことが有れば、真っ先に声をかけて頂ける」会社を目指します。そのために、当社グループのコア技術である光技術を軸として、精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術で、どこよりも早くソリューションを顧客に提供し貢献していくことを会社のミッションとしています。 (2)経営環境及び目標とする経営指標 当社グループは、企業の価値を高め続けることが、本来あるべき企業の成長の姿と考えており、この成長により、株主をはじめとするすべてのステークホルダー(利害関係者)の満足度向上を目指します。 当社グループの主たる事業領域である半導体業界は、技術革新のスピードが速く、常に最先端に向けた開発投資を継続的に行う必要があります。成長への投資を継続しつつ確固たる財務基盤を築くために、営業利益率20%以上を目標としております。 (3)対処すべき課題 当社 グループは、 新たにフェーズⅢの3ヵ年を加え、合計12ヵ年とした新中期経営計画 (注) を推進しています。 平成 30年6月期は、フェーズⅡの最終年度になります。フェーズⅡでは、コアビジネスの更なる強化と、新規事業の基盤を確立することを方針に掲げ、成長戦略を進めてまいりました。平成30年6月期は、下記のような課題に取り組みます。 ① コアビジネスの強化 半導体用フォトマスク欠陥検査装置は、装置性能を向上させ、特に中国をはじめ海外でのサポート力、営業力を強化することで競争力を高め、シェア増大を図ります。半導体用マスクブランクス欠陥検査装置は、当期発表した新モデルM8651の主要マスクブランクスメーカー及びマスクショップへの拡販を推進します。FPD(フラットパネルディスプレイ)用大型フォトマスク欠陥検査装置は、LCD(液晶ディスプレイ)、OLED(有機ELディスプレイ)業界の設備投資拡大の好機を逃さず売上の増加を図ります。 ② 新規事業の基盤を確立 SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置は、高いマーケットシェアの獲得に成功しましたが、更なるシェア向上を推し進めます。その他の半導体ウェハ関連の検査・計測装置も、顧客先での認知度を高め、販売台数の増加を目指します 。 また当連結会計年度に発表したEUVマスクブランクス欠陥検査装置の継続的な受注を図ると共に、新しい柱となる新規事業を見出すべく、積極的に市場の新たなニーズを発掘していきます。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1259文字

3【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、創業以来「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念に、半導体・FPDをはじめとする先端分野の市場に、各種検査・計測システムを提供してまいりました。今後もこの経営理念を堅持し、「世界中のお客様から何か困ったことが有れば、真っ先に声をかけて頂ける」会社を目指します。そのために、当社グループのコア技術である光技術を軸として、精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術で、どこよりも早くソリューションを顧客に提供し貢献していくことを会社のミッションとしています。 (2)経営環境及び目標とする経営指標 当社グループは、企業の価値を高め続けることが、本来あるべき企業の成長の姿と考えており、この成長により、株主をはじめとするすべてのステークホルダー(利害関係者)の満足度向上を目指します。 当社グループの主たる事業領域である半導体業界は、技術革新のスピードが速く、常に最先端に向けた開発投資を継続的に行う必要があります。成長への投資を継続しつつ確固たる財務基盤を築くために、営業利益率20%以上を目標としております。 (3)対処すべき課題 当社 グループは、 新たにフェーズⅢの3ヵ年を加え、合計12ヵ年とした新中期経営計画 (注) を推進しています。 平成 30年6月期は、フェーズⅡの最終年度になります。フェーズⅡでは、コアビジネスの更なる強化と、新規事業の基盤を確立することを方針に掲げ、成長戦略を進めてまいりました。平成30年6月期は、下記のような課題に取り組みます。 ① コアビジネスの強化 半導体用フォトマスク欠陥検査装置は、装置性能を向上させ、特に中国をはじめ海外でのサポート力、営業力を強化することで競争力を高め、シェア増大を図ります。半導体用マスクブランクス欠陥検査装置は、当期発表した新モデルM8651の主要マスクブランクスメーカー及びマスクショップへの拡販を推進します。FPD(フラットパネルディスプレイ)用大型フォトマスク欠陥検査装置は、LCD(液晶ディスプレイ)、OLED(有機ELディスプレイ)業界の設備投資拡大の好機を逃さず売上の増加を図ります。 ② 新規事業の基盤を確立 SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置は、高いマーケットシェアの獲得に成功しましたが、更なるシェア向上を推し進めます。その他の半導体ウェハ関連の検査・計測装置も、顧客先での認知度を高め、販売台数の増加を目指します 。 また当連結会計年度に発表したEUVマスクブランクス欠陥検査装置の継続的な受注を図ると共に、新しい柱となる新規事業を見出すべく、積極的に市場の新たなニーズを発掘していきます。…

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約66文字

【セグメント情報】 当社グループの事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、記載を省略しております。

リスクに関する有報本文

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事業等のリスクの原文を表示

事業等のリスク

抜粋表示 / 原文長 約2612文字

4【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。 なお、文中における将来に関する事項は、有価証券報告書提出日(平成29年9月28日)現在において当社グループが判断したものであります。 (1)研究開発による影響 当社グループは、光、精密機械、エレクトロニクスを中心とした最先端技術の研究開発活動を継続的かつ積極的に実施しております。また、これらの技術を搭載した新製品を早期に市場投入することによって、当社グループが参入する各製品分野において上位の市場シェアと高い利益率の獲得に努めております。市場動向等には十分留意しておりますが、開発スケジュールや新製品投入タイミング等によっては、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (2)重要な人材の確保に関する影響 当社グループは、研究開発型企業であり将来への成長と成功のためには、開発技術部門の有能な人材の確保と育成が欠かせないものと考えております。そのため、貢献度を反映した評価制度や給与体系、有能な人材の積極的な採用と育成を心がけております。しかしながら、人材の確保と育成の状況や重要な人材の喪失が当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (3)市場変動による影響 当社グループの主要販売先は半導体関連企業であり、この市場の影響を受ける傾向にあります。当該市場は、技術革新が激しく、技術の変化により大きく成長する反面、需給バランスが崩れることによって市場規模が一時的に縮小することもあります。当社グループはこのような局面においても利益を生み出せるよう構造改革に積極的に取り組んでおります。しかしながら、予期せぬ市場規模の大幅な縮小や、技術の変化が、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (4)品質に関する影響 当社グループは、ISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、製品の完成度に万全の注意を払うとともに、高いレベルのサービス体制の確立に努めております。しかしながら、最先端技術を積極的に開発し、これを新製品に導入して早期に市場投入するよう努めていることから、未だ市場に浸透していない新しい技術も存在し、予期せぬ品質問題が生じた場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (5)知的財産権に関する影響 当社グループは、独自技術の専有化、製品の差別化及び競争力強化のために、知的財産戦略を推進することにより、各製品分野における高い市場シェアと利益率の確保に努めております。しかしながら、当社グループの製品は多くの最先端技術が融合されていることもあり、第三者の技術や知的財産権の侵害を回避するための諸施策の実施が当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

抜粋表示 / 原文長 約2711文字

6【研究開発活動】 当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体フォトマスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査装置、レーザー顕微鏡、及びFPD用大型マスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。 新しい製品の開発にあたっては、顕微鏡の営業活動などを通じて幅広い業界、市場を調査し、新しいマーケットやアプリケーションを探し出し、それぞれ固有のニーズに合致した新製品を生み出すことを心がけております。 また既に製品を納入している多くのお客様や各種研究開発機関へのサービス・サポートを通じて、お客様の顕在化した要望のみならず、潜在的なニーズを正確につかみ、独創的な視点と技術でどこよりも早く問題解決の方法をご提供することが最重要であると考えております。 当社は、光学技術を追求する過程で、独自のコア技術を確立してまいりました。共焦点光学系、DUV (注) 光学系、EUV (注) 光学系、及び光干渉計技術などの光学技術を進化させ、高度な周辺技術との融合によって特徴ある製品を生み出しています。また、高精度高速ステージ開発のための精密機構技術、あるいは欠陥検出の画像処理技術などを継続的に深化させ、近年ではAI(人工知能)技術を応用した自動欠陥分類の開発を進めるなど、お客様のニーズに対してタイムリーにソリューションを提供できる研究・製品開発を進めております。 (注) DUV:Deep Ultraviolet、遠紫外線 EUV:Extreme Ultraviolet、極端紫外線 当連結会計年度における研究開発の成果として発売された新製品は次のとおりであります。 (1) リソグラフィプロセス検査装置 LX530 リソグラフィプロセス検査装置LX530は、半導体のパターニング工程において、ウェハ面内におけるCD (注) 異常、CDばらつきを高速かつ高感度で検出する装置です。 今日、最先端デバイスの製造において、さらなる微細化に向けたSAQP (注) やEUV露光、3D NANDデバイス向け高アスペクトエッチングといった今までにないプロセスが登場し、CD管理が一層厳格に要求されております。こうした課題に対して、従来使用されているCD-SEM (注) やOCD (注) による測定は測定速度が低いため、測定箇所が面内数十ポイントに制限され、局所的に発生するCDのばらつきを検出する事が困難でした。 このような背景から、CD-SEMと同等の感度で、ウェハ全面のCDばらつきを捕らえる事ができ、且つ高スループットを有するLX530を開発しました。…

設備投資等の概要

抽出本文 / 原文長 約635文字

2【主要な設備の状況】 当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。 (1) 提出会社 平成29年6月30日現在 事業所名 (所在地) 設備の内容 帳簿価額(千円) 従業員数 (人) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 工具、器具及び備品 土地 (面積㎡) その他 合計 本社 (神奈川県横浜市 港北区) 開発・製造設備 統括業務設備 1,883,495 104,482 411,122 4,254,773 (4,872) 8,678 6,662,554 208 (注)1.帳簿価額の「その他」は、リース資産、及び建設仮勘定であります。 2.金額には消費税等は含まれておりません。 (2) 在外子会社 平成29年6月30日現在 会社名 事業所名 (所在地) 設備の内容 帳簿価額(千円) 従業員数 (人) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 工具、器具及び備品 その他 合計 Lasertec U.S.A., Inc. 本社 (米国・カリフォルニア州) サービス設備 6,303 6,303 24 Lasertec Korea Corporation 本社 (韓国・京畿道) サービス設備 482 483 26 Lasertec Taiwan, Inc. 本社 (台湾・新竹県) サービス設備 5,889 359 998 7,248 28 (注) Lasertec China Co., Ltd.の設備は、重要性が乏しいため、記載を省略しております。

その他の有報本文

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配当政策

抽出本文 / 原文長 約681文字

3【配当政策】 当社は、従来から安定的な利益還元を行うとともに、業績に応じた弾力的な配当政策を行い、連結での配当性向35%を目安とすることを利益配分に関する基本方針としております。 内部留保につきましては、新技術・新製品の研究開発投資、業容の拡大に伴う設備投資、優秀な人材の獲得などに有効に活用し、企業体質の一層の強化と長期安定的な経営基盤の確立に役立てていく方針であります。 当社は、株主の皆様への利益還元の機会を充実させるため、剰余金の配当を、期末配当として年1回実施する方針 から、中間配当と期末配当の年2回実施する方針に変更し、翌事業年度(平成30年6月期)より中間配当を実施することといたしました。 当社は、「取締役会の決議により、毎年12月31日の最終の株主名簿に記載または記録された株主または登録株式質権者に対し、中間配当を行うことができる。」旨を定款に定めており、中間配当については取締役会、期末配当については株主総会が配当の決定機関となっております。 当事業年度の配当につきましては、1株当たり28円の配当を実施することに決定いたしました。 当事業年度に係る剰余金の配当は以下のとおりであります。 決議年月日 配当金の総額 (千円) 1株当たり配当額 (円) 平成29年9月27日 定時株主総会決議 1,262,498 28 (注)当社は平成29年2月27日開催の取締役会決議に基づき、平成29年4月1日付で普通株式1株につき2株の割合で株式分割を行っております。そのため、当事業年度の配当金については、当該株式分割後の数値を記載しております。

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約426文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 平成29年6月30日現在 従業員数(人) 288 (注)1.従業員数は就業人数であります。 2.当社グループの事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 (2)提出会社の状況 平成29年6月30日現在 従業員数(人) 平均年令(才) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 208 44.0 12.4 10,486,225 (注)1.従業員数は就業人員であります。従業員数には、子会社への出向者(1名)は含まれておりません。 2.平均年間給与は、賞与及び時間外手当等の基準外賃金を含んでおります。 3.当社の事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 (3)労働組合の状況 労働組合はありません。 有価証券報告書(通常方式)_20170922171425

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約8416文字

(1)【コーポレート・ガバナンスの状況】 (コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方) 当社は、「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」ことを創業の基本理念としております。お客様のさらなる強い信頼を獲得し企業力を向上させていくため株式公開を果たした後においても、この創業理念に変わりはありません。社会の変化に貢献できる顧客満足度の高い製品開発を継続し企業価値を高めていくこと、また、公開企業としての透明性を高め、経営の健全性を確保するための諸施策を積極的に取り入れ、株主、投資家の皆様から信頼される経営体制を確立し維持改善に努めていくことが、株主をはじめとするすべてのステークホルダーのご期待にこたえるものと認識しております。 ①企業統治の体制 (イ)次の(ロ)に記載する企業統治の体制を採用する理由 当社は、当社の人員及び事業の規模、また実際の監査が機能していることに鑑み、監査役会設置会社の制度を維持しております。また、上記のコーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方を背景に社外監査役に加えて社外取締役を選任するなど、企業の透明性、経営の健全性を高める施策を講ずるとともに、「内部統制基本方針」に即して、以下に記載する企業統治の体制を整備しております。 (ロ)企業統治の体制 (コーポレート・ガバナンス体制概念図) (取締役及び取締役会その他執行機関等) 当社の取締役会は取締役8名(定款では10名以内)で構成され、うち3名を社外取締役とし、法令・定款に定められた事項のほか、事業計画の決定その他重要な業務に関する事項を決議し、取締役の職務執行を監督しております。取締役の任期は1年であります。 取締役会は毎月1回(定例)開催するほか、必要に応じて臨時に開催し、会社の重要事項などの報告・決定を行うこととしております。 業務執行に係る重要案件については社長の諮問機関として経営会議を設置しており、月1回開催しております。このことにより、案件の決定の適正化を支援するとともに業務執行における意思統一を図っております。また、経営会議規定により監査役及び社外取締役の経営会議への出席権と意見陳述権を保障し、経営判断に対する監視・監督機能に漏れのない体制としております。 取締役の報酬については、決定プロセスの透明性と客観性を確保するため、社長の諮問機関として社外取締役、常勤監査役及び社長により構成される報酬委員会を設置しております。 (監査役及び監査役会) 監査役会は監査役4名(定款では4名以内)で構成され、うち2名を社外監査役とし、法令・定款で定められた事項のほか、監査の方針、監査計画、監査の方法等を定め、各監査役の監査状況の報告、監査意見の形成などを行っております。監査役会は毎月1回(定例)開催するほか、必要に応じて臨時開催しております。…

重要な契約等

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5【経営上の重要な契約等】 該当事項はありません。

大株主の状況

抜粋表示 / 原文長 約1450文字

(7)【大株主の状況】 平成29年6月30日現在 氏名または名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式総数に対する所有株式数の割合(%) 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 東京都中央区晴海1-8-11 2,506 5.31 レーザーテック株式会社 神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1 2,053 4.35 内山 靖子 東京都港区 2,003 4.24 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 東京都中央区日本橋3-11-1 1,943 4.12 内山 洋 東京都渋谷区 1,741 3.69 株式会社三菱東京UFJ銀行 東京都千代田区丸の内2-7-1 1,504 3.19 日本マスタートラスト信託銀行株式会社 (信託口) 東京都港区浜松町2-11-3 1,446 3.06 内山 秀 東京都港区 1,394 2.95 前田 せつ子 東京都渋谷区 1,293 2.74 BBH FOR MATTHEWS JAPAN FUND 東京都千代田区丸の内2-7-1 1,259 2.67 17,145 36.36 (注)1.平成28年9月5日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書において、Invesco Asset Management Limitedが平成28年8月31日現在で以下の株式を保有している旨が記載されているものの、当社としては当事業年度末現在における実質所有株式の確認ができませんでしたので、上記大株主の状況には含めておりません。 なお、大量保有報告書の内容は次の通りであります。 大量保有者 Invesco Asset Management Limited 住所 Perpetual Park, Perpetual Park Drive, Henley-on-Thames, Oxfordshire, RG9 1HH, United Kingdom 保有株券等の数 23,571,600 株券等保有割合 3.89% 2.平成29年 4 月21日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書において、みずほ証券株式会社およびその共 同保有者であるアセットマネジメントOne株式会社が平成29年4月14日現在で以下の株式を保有している旨が記載されているものの、当社としては当事業年度末現在における実質所有株式の確認ができませんでしたので、上記大株主の状況には含めておりません。 なお、大量保有報告書の内容は次の通りであります。 氏名または名称 住所 保有株券等の数 (株) 株券等保有割合 (%) みずほ証券株式会社 東京都千代田区大手町一丁目5番1号 株式 43,600 0.09 アセットマネジメント One株式会社 東京都千代田区丸の内一丁目8番2号 株式 2,552,000 5.41 3.…

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2017
使用モデル
gemma4:12b

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