レーザーテック株式会社

証券コード: 6920.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-09-25
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 2 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体検査装置の分野で独自の光技術を武器に高いシェアと利益率を誇る企業です。財務基盤は非常に強固であり、AI関連の需要拡大を背景に業績も好調です。主なリスク要因として、半導体市場の景気変動や高度な技術競争による開発遅延、特定の重要部品の供給制約などが挙げられますが、これらに対してはR&D体制の強化やサプライチェーンの管理、ファブライト戦略等で対応する体制を整えています。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

光技術を核とした高度なソリューション提供により、半導体分野のニッチ市場で圧倒的なシェアを獲得する戦略。強固な財務基盤と積極的なR&D投資、人材確保への注力により持続的成長を目指す。

成長方針

「マルチニッチトップ」を目指す戦略。リードタイム短縮、サービスビジネス拡大、人材採用強化、新ソリューションによる事業領域拡大を柱とする中期経営計画の推進。

資本政策

営業利益率20%以上を維持し、成長投資の継続が可能となる強固な財務基盤の構築。効率的な運転資金調達のため取引銀行と契約締結。

リスク対応方針

市場変動へのファブライト戦略、R&D体制強化、人材確保のための給与・評価制度整備、知的財産戦略の推進、BCP策定、情報セキュリティ体制の構築等。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 5 / 5

有報ナビによる整理

レーザーテックは半導体検査装置における「マルチニッチトップ」企業として、独自の光応用技術と精密機構を融合させた「オプトメカトロニクス」で高い競争力を有する。EUVやSiCといった最先端分野への積極的な研究開発投資を行い、AI技術の統合等を通じて次世代半導体市場での優位性を確立している。強固な財務基盤を背景に、高度な技術革新と人材確保に向けた戦略的な成長投資を継続する方針である。

設備投資の方向性

研究開発拠点の強化、生産体制の整備、および高度な技術競争力を維持するための基盤構築に向けた投資を継続。強固な財務基盤を背景に、成長分野への対応を見据えた設備投資を行う。

研究開発・商品開発

光応用技術を核とした「オプトメカトロニクス」の深化。EUVやSiCなど次世代半導体需要に対応する新製品開発、AI/ディープラーニングを用いた自動欠陥分類の高度化、および専門性の高い人材の確保と育成に重点を置く。

投資・変化テーマ

  • 半導体検査・測定装置
  • EUV露光関連技術
  • SiCパワー半導体向け検査
  • AIによる自動欠陥分類
  • オプトメカトロニクス(光学・精密機構・電子の融合)

関連キーワード

  • 光応用技術
  • 精密機構
  • エレクトロニクス
  • EUV
  • SiC
  • ディープラーニング
  • コンフォーカル光学系

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 2,514.8 億円 抽出
営業利益 1,228.4 億円 抽出
経常利益 1,194.4 億円 抽出
税引前利益 1,194.4 億円 抽出
当期純利益 846.5 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 3,296.0 億円 抽出
純資産 2,099.0 億円 抽出
自己資本 2,079.4 億円 抽出
現金等 860.9 億円 抽出

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 778.7 億円 抽出
投資CF -24.2 億円 抽出
財務CF -245.7 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 63.70% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 63.68% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 48.85% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 33.66% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 40.71% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 25.68% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 30.97% 計算 / 営業CF / 売上高
現金等比率 26.12% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 63.70% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 63.09% 計算
純資産比率(計算参考) 63.68% 計算

この企業の分析履歴

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年度 提出日 docID 表示
2025 表示中 2025-09-25 S100WQ7F この年度を見る

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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