株式会社シキノハイテック 分析タイムライン

証券コード: 6614.T / 登録年度数: 2

各年度の有価証券報告書に記載された内容の整理結果を時系列で確認できます。 企業評価・投資判断・将来予測ではなく、年度ごとの開示内容を確認するためのページです。

2026年度
提出日: 2026-06-23 / docID: S100YHLM

リスク開示の整理リスク開示注意度: 4 / 5

半導体検査装置およびLSI設計において強固な技術基盤を有しているものの、当期は市場環境の変動により営業損失に転落。特に電子システム事業における赤字拡大と、運転資金確保のための借入金への依存、および特定顧客への高い依存度が主なリスク要因である。

投資・研究開発・成長施策の整理投資・変化姿勢: 4 / 5

半導体検査装置およびLSI設計・開発を中核とし、高度な画像処理技術を強みとする企業。中期経営計画において「新技術の早期事業化」と「デジタルインフラ活用」を掲げており、特にIPコアや防衛関連など成長性の高い分野へのシフトとDX推進による競争力強化を図る方針である。

経営方針・課題の整理方針具体度: 4 / 5

同社は半導体関連の高度な技術力を背景に、電子システム、マイクロエレクトロニクス、製品開発の3軸で展開。2027年度に向けた具体的な数値目標を掲げ、新技術の早期商用化とグローバル展開を成長の柱とする。直近では市場環境の影響を受けつつも、強固な技術基盤と人材育成への注力により持続的な成長を目指す方針である。

2025年度
提出日: 2025-06-25 / docID: S100W4H8

リスク開示の整理リスク開示注意度: 3 / 5

半導体検査装置、LSI設計、画像処理システムなど多角的な事業を展開。当期は減損損失の計上により純損失を計上しており、営業利益も前年比で大幅に減少している。ビジネス面では、特定顧客への高い依存度や、半導体業界特有の景気サイクル(シリコンサイクル)、為替変動などの外部要因による影響を受けやすい構造がリスクとして挙げられる。

投資・研究開発・成長施策の整理投資・変化姿勢: 4 / 5

同社は半導体検査、LSI設計、画像処理の3軸で強固な技術基盤を持つ。近年の市場環境変化を受け、AI関連や次世代車載向けなど高成長分野へのシフトを鮮明にしており、R&Dおよび設備投資を通じて競争力の強化を図っている。特定顧客への依存や景気変動リスクはあるものの、高度な専門技術と独自のIPコア資産が強み。

経営方針・課題の整理方針具体度: 4 / 5

半導体関連の3事業を展開し、2025-2027年度の中期経営計画において「競争力強化」「新技術・製品の創出」「グローバル展開」「人材育成」を柱に掲げている。AIや次世代車載向けなど成長分野へのシフトを明確にしており、特定顧客への依存や市場変動リスクに対しては、多角的な事業展開と高度な技術開発、人的資本への投資で対応する方針である。

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