東京エレクトロン株式会社

証券コード: 8035.T / 対象年度: 2026 / 提出日: 2026-06-22
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

半導体製造装置の世界的リーダーとして、AI需要の拡大を背景に高い成長性を有する。財務基盤は極めて強固(自己資本比率71.5%)で、潤沢なキャッシュフローを背景とした積極的な株主還元と研究開発投資を両立している。主なリスク要因は、地政学的緊張によるサプライチェーンへの影響や、台湾での特定事案に関する法的対応など外部環境に起因するものであり、これらに対しては強固な管理体制を構築している。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 5 / 5

有報ナビによる整理

半導体製造装置のリーディングカンパニーとして、AI需要を追い風に強固な成長基盤を持つ。明確な数値目標(売上3兆円、利益率35%等)と巨額のR&D投資計画が示されており、資本効率と株主還元の両立を図る戦略が非常に明快である。

成長方針

AI・先端パッケージング領域への注力、5年間で1.5兆円超のR&D投資、7,000億円以上の設備投資。2027年3月期に向けた売上高3兆円以上、営業利益率35%以上、ROE 30%以上の野心的な目標設定。

資本政策

配当性向50%を目安とした業績連動型。積極的な自己株式の取得(2026年3月期は1,499億円)を含む、高い資本効率とROE向上を重視するバランスシート管理。

リスク対応方針

BCP策定によるサプライチェーンの強靭化、CSIRT/PSIRTによるサイバーセキュリティ強化、コンプライアンス体制の徹底、2040年までのネットゼロに向けた環境対応など多角的なリスク管理体制を構築。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 5 / 5

有報ナビによる整理

半導体製造装置のリーディングカンパニーとして、AIや次世代デバイス需要を見据えた極めて野心的な成長投資を推進。1.5兆円規模の研究開発と7,000億円超の設備投資を通じて技術的優位性を確立しつつ、DXによる生産性向上と脱炭素への対応を統合した強固な競争力を構築する戦略。

設備投資の方向性

2025年3月期から5年間の成長投資計画として、7,000億円以上の設備投資を計画。国内の主要拠点(宮城、九州等)における生産・物流拠点の拡張や、先端技術に対応するための研究開発用機械装置への積極的な投資を実施。

研究開発・商品開発

5年間で1.5兆円以上の大規模な研究開発投資を計画。EUV露光による超高解像パターニングや3次元積層メモリなど、次世代デバイスの製造に不可欠な高度なプロセス技術および基礎・要素技術の開発に重点を置いている。

投資・変化テーマ

  • 次世代半導体技術(微細化・高度パッケージング)
  • AI・高性能計算用チップ向け装置開発
  • DXによる生産性向上(Epsira™)
  • 脱炭素・環境対応技術(E-COMPASS)
  • グローバルな人材確保と育成

関連キーワード

  • EUV露光
  • 3次元積層メモリ
  • プラズマプロセス
  • シミュレーション技術
  • マルチパターニング
  • 高度パッケージング
  • DXソリューション

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 24,435.3 億円 抽出
営業利益 6,249.4 億円 抽出
経常利益 6,303.4 億円 抽出
税引前利益 7,481.8 億円 抽出
当期純利益 5,744.5 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 28,610.0 億円 抽出
純資産 20,700.0 億円 抽出
自己資本 17,956.8 億円 抽出
現金等 5,054.1 億円 抽出

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 5,397.3 億円 抽出
投資CF -964.9 億円 抽出
財務CF -4,253.6 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 71.50% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 72.35% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 25.58% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 23.51% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 31.99% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 20.08% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 22.09% 計算 / 営業CF / 売上高
現金等比率 17.67% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 71.50% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 62.76% 計算
純資産比率(計算参考) 72.35% 計算

この企業の分析履歴

分析タイムラインを見る

この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

年度 提出日 docID 表示
2026 表示中 2026-06-22 S100YEOO この年度を見る
2025 2025-06-16 S100VX9R この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2026Q2
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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