株式会社SCREENホールディングス

証券コード: 7735.T / 対象年度: 2026 / 提出日: 2026-06-25
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 2 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置を主軸に、グラフィックアーツやディスプレイ関連など多角的な事業を展開する企業です。財務面では高い自己資本比率と安定したキャッシュフローを有しており、非常に強固な経営基盤を持っています。リスク要因としては、地政学的緊張による中国市場への影響や特定顧客への売上集中といった半導体業界特有の課題がありますが、これらに対しては組織的なリスク管理体制や積極的なR&D投資によって対応する姿勢が示されています。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は、高度な技術力を背景とした半導体製造装置を中心の成長戦略を展開。強固な財務基盤と明確な中長期目標(Value Up Further 2026)を持ち、先端パッケージやDX推進を通じて競争優位性を確立しようとする意欲的な経営姿勢が見られる。

成長方針

「Value Up Further 2026」に基づき、半導体製造装置(SPE)を核とした成長を推進。米国でのR&D拠点設立による技術競争力の強化、先端パッケージ分野への注力、DXの推進、および各事業セグメントにおけるシェア拡大と収益性向上を目指す。

資本政策

ROICの向上と自己資本比率(現在67.4%)の維持を両立する財務戦略。配当性向は30%以上を目標とし、安定的な経営基盤のもとで株主還元を行う。

リスク対応方針

「3つのディフェンスライン」に基づくリスク管理体制を構築。地政学リスク(米中関係)、為替変動、サプライチェーンの寸断、サイバーセキュリティ、人材確保など多角的なリスクに対する具体的な対策を実施。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

半導体・ディスプレイ製造装置における強固な技術基盤を背景に、AI関連や先端パッケージといった成長分野へ積極的に投資。海外拠点の設立やM&Aを通じた技術獲得、およびDX推進による経営基盤の強化により、中長期的な競争力の向上を図る戦略的な姿勢が鮮明。

設備投資の方向性

半導体製造装置の生産能力拡大、海外R&D拠点(ATCA)の整備、および滋賀県での用地取得を含む戦略的な設備投資。また、基幹システムの刷新を通じたDX推進への投資も含まれる。

研究開発・商品開発

370億円以上の研究開発費を投入し、AI半導体向け先端パッケージやウエハー接合技術(ニコンからの事業譲受含む)に注力。米国拠点を活用したグローバルな共同開発体制の構築と、既存事業の高度化・新領域への展開を推進。

投資・変化テーマ

  • 半導体先端パッケージ
  • DX推進
  • 海外R&D拠点の構築
  • 生産能力の拡大
  • 高度な洗浄・成膜技術

関連キーワード

  • 直接描画露光装置
  • 界面制御技術
  • 画像技術
  • システム化技術
  • ウエハー接合技術
  • 自動化
  • 高度な洗浄プロセス

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 6,057.5 億円 抽出
営業利益 1,225.2 億円 抽出
経常利益 1,243.2 億円 抽出
税引前利益 1,267.4 億円 抽出
当期純利益 920.0 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 7,224.2 億円 抽出
純資産 4,866.8 億円 抽出
自己資本 4,466.8 億円 抽出
現金等 2,257.3 億円 抽出
有利子負債 32.5 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 927.1 億円 抽出
投資CF -297.1 億円 抽出
財務CF -402.0 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 67.40% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 67.37% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 20.23% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 15.19% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 20.60% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 12.74% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 15.30% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 0.45% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 31.25% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 67.40% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 61.83% 計算
純資産比率(計算参考) 67.37% 計算

この企業の分析履歴

分析タイムラインを見る

この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

年度 提出日 docID 表示
2026 表示中 2026-06-25 S100YK9N この年度を見る
2025 2025-06-19 S100VZW3 この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2026Q2
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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