株式会社SCREENホールディングス

証券コード: 7735.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-06-19

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置を中心に強固な技術基盤を持ち、特に洗浄装置において高いシェアを誇る。財務面では自己資本比率が高く格付けも向上しており、非常に安定した経営基盤を有している。一部の子会社における不適切な収益認識に関する事案が発生したが、調査と再発防止策の公表が行われており、現在のところ重大な懸念事項とは見なされない。地政学的リスクや特定顧客への集中といった業界特有の課題はあるものの、強固な事業基盤と成長戦略により安定した経営が期待できる。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 5 / 5

有報ナビによる整理

同社は「Value Up Further 2026」のもと、半導体製造装置の深化と新規事業(水素等)の拡大を推進。ROIC経営による収益性向上と積極的な株主還元を両立する方針が極めて明確であり、強固な財務基盤と高度な技術力を背景に持続的な成長を目指す体制が整っている。

成長方針

「ソリューションクリエーター」として社会課題解決を目指す。半導体製造装置におけるシェア拡大、M&Aによるポートフォリオ強化、水素や先端パッケージ等の新規事業への積極投資、および海外拠点を活用したR&D体制の強化により成長を牽引する。

資本政策

ROIC経営の推進による収益性の向上と、自己資本比率(62.7%)の維持・向上を両立。配当性向30%以上を目標としつつ、成長投資に向けた機動的な設備投資と株主還元のバランスを重視する方針。

リスク対応方針

3つのディフェンスラインに基づくリスク管理体制を構築。地政学リスク(米中関係等)、為替変動、サプライチェーンの強靭化、サイバーセキュリティ対策、および環境規制への対応について多層的な防御策を講じている。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体製造装置の強固な技術基盤を核としつつ、アドバンスドパッケージや水素エネルギーといった次世代成長分野へ戦略的に投資を展開。DXによる生産性向上と、国内外での研究開発拠点の拡充を通じて、中長期的な競争優位性の確立を目指す意欲的な姿勢が見られる。

設備投資の方向性

半導体製造装置の生産能力拡大に向けた彦根事業所での新棟建設や、水素関連事業の拠点拡充、および国内外の研究開発拠点の整備など、成長分野への先行投資を積極的に推進。

研究開発・商品開発

30億円を超える多額の研究開発費を投入。半導体先端プロセス、有機EL用塗布装置、高精度プリント基板向け直接描画技術の高度化に加え、水素やライフサイエンスといった新規領域での産学連携を含む研究開発を加速。

投資・変化テーマ

  • 半導体先端パッケージ
  • 水素関連事業
  • ライフサイエンス
  • DX推進
  • 次世代パワーデバイス
  • 高度な表面処理技術

関連キーワード

  • スピン洗浄装置
  • 塗布・乾燥・熱処理
  • 直接描画技術
  • 有機EL(OLED)
  • 水管理システム
  • 水素関連設備

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 6,252.7 億円 抽出
営業利益 1,356.8 億円 抽出
経常利益 1,382.7 億円 抽出
税引前利益 1,390.1 億円 抽出
当期純利益 994.7 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 6,712.9 億円 抽出
純資産 4,206.9 億円 抽出
自己資本 3,944.7 億円 抽出
現金等 1,984.8 億円 抽出
有利子負債 14.5 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 712.3 億円 抽出
投資CF -217.7 億円 抽出
財務CF -464.7 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 62.70% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 62.67% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 21.70% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 15.91% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 25.22% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 14.82% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 11.39% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 0.22% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 29.57% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 62.70% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 58.76% 計算
純資産比率(計算参考) 62.67% 計算

この企業の分析履歴

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この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

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年度 提出日 docID 表示
2026 2026-06-25 S100YK9N この年度を見る
2025 表示中 2025-06-19 S100VZW3 この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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