事業の内容
抽出本文
/ 原文長 約1011文字
３【事業の内容】 当社グループは、当社（株式会社ニューフレアテクノロジー）及び子会社２社により構成されており、電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の３製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売、保守サービスを主たる事業として行っております。 各製品の特徴は、次のとおりであります。 (1）電子ビームマスク描画装置 電子ビームマスク描画装置は、ＬＳＩ（大規模集積回路）製造工程において、電子ビームを用いてナノ・オーダーの微細な電子回路パターンを回路原板（フォトマスク）となる感光剤を塗布した石英ガラス基板上に描画する装置です。電子ビーム描画制御技術をコアの技術として、精密機械制御技術、大規模データ処理技術、高速・高精度アナログ回路技術等、多様で、かつ、高度に専門化された先端要素技術を結集した装置です。ＬＳＩの高機能化、省電力化のためにはＬＳＩ単位面積当たりに搭載できる電子回路の密度を上げることが重要課題となっています。電子ビームを高度に制御する電子ビームマスク描画装置は、先端半導体デバイスの開発において性能向上とコストダウンに大きく貢献しています。 (2）マスク検査装置 マスク検査装置は、フォトマスクと呼ばれるＬＳＩの原版に形成された電子回路パターンを検査する装置で、紫外線の中でもより短波長である深紫外レーザを光源とした光学技術をコアとして、画像処理、欠陥検出処理、機械制御、ソフトウエア等の先端技術を融合して構成されております。当社のマスク検査装置は上記電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原板（フォトマスク）を高速で検査し、微細化が進むＬＳＩの歩留まり向上に貢献しております。 (3）エピタキシャル成長装置 エピタキシャル成長装置は、半導体製造の基板材料であるシリコンウェハ上に、下地の基板の結晶面にそろえてシリコン単結晶を成長させる装置です。パソコンやワークステーションに搭載される高性能ＭＰＵには表面に結晶欠陥のほとんどないエピタキシャルウェハが用いられています。地球環境への関心の高まりから近年は電力制御用のパワー半導体の需要が伸びていますが、これにはエピタキシャルウェハが欠かせません。当社のエピタキシャル成長装置は、独自の加熱機構とウェハの高速回転によるガス流れの制御により、高品質なエピタキシャルウェハの高い生産性を特徴としております。 (事業系統図)
経営方針・経営戦略・対処すべき課題
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/ 原文長 約1857文字
１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1）経営方針 当社グループは、人間尊重を基本として、豊かな価値の創造により、産業の基盤づくりに寄与し、世界の人々の生活・文化の向上に貢献することを経営理念としています。その下に当社グループが実際に事業活動を展開していくにあたって、法令を遵守し社会規範・企業倫理に従って行動するという観点から、経営理念を補完する企業の具体的「行動基準」を定め、周知徹底を図っております。 また、地球環境保全、社会貢献、人権尊重などについて企業としての社会的責任を果たすと共に、ＣＳ（顧客満足）を基盤として企業価値の最大化を図り、株主、顧客、取引先、従業員、地域社会などの全てのステークホルダーの期待に応えていきます。 (2）経営戦略等 当社グループは、「NuFlare, Beyond The Leading Edge」（最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献するとの意）を経営ビジョンとして掲げ、技術及び品質に優れた製品及びサービスの提供による顧客満足度の向上、事業の持続的成長と高い収益力を備え、将来に向けた新たな成長を切り開くため、下記 (5） における「事業上及び財務上の対処すべき課題」に取り組むことにより、企業価値の向上に努めてまいります。 (3）経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等 当社グループは、次期（平成31年３月期）の連結売上高50,000百万円、同経常利益12,100百万円（売上高経常利益率24.2%）を目指し、中期的には、持続的成長に向けた資源投入と財務体質の改善の両立を図ります。 (4）経営環境 次期の経済見通しにつきましては、依然として不透明な状況が続いておりますが、全体としては、緩やかな回復が見込まれます。 半導体業界につきましては、スマートフォン及びストレージ等の需要を背景に、半導体微細化投資を進める動きは継続すると予想されます。 また、マスク製造装置市場におきましても、先端半導体メーカーの旺盛な需要により、マスク描画装置の市場は堅調に推移すると予想されます。 このような情勢下、当社グループといたしましては、主力の電子ビームマスク描画装置における次世代機の開発を完了させるとともに、現世代機への需要に応えることに加え、マスク検査装置・エピタキシャル成長装置の拡販及び次世代装置開発に注力するとともに、経営全般における効率化・合理化に努めてまいります。 また、中長期的視点に立ち、将来の新事業領域等の開拓のため、ウェハ検査装置の要素技術開発等の研究開発投資を加速いたします。 (5）事業上及び財務上の対処すべき課題 １．…
対処すべき課題
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/ 原文長 約1857文字
１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1）経営方針 当社グループは、人間尊重を基本として、豊かな価値の創造により、産業の基盤づくりに寄与し、世界の人々の生活・文化の向上に貢献することを経営理念としています。その下に当社グループが実際に事業活動を展開していくにあたって、法令を遵守し社会規範・企業倫理に従って行動するという観点から、経営理念を補完する企業の具体的「行動基準」を定め、周知徹底を図っております。 また、地球環境保全、社会貢献、人権尊重などについて企業としての社会的責任を果たすと共に、ＣＳ（顧客満足）を基盤として企業価値の最大化を図り、株主、顧客、取引先、従業員、地域社会などの全てのステークホルダーの期待に応えていきます。 (2）経営戦略等 当社グループは、「NuFlare, Beyond The Leading Edge」（最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献するとの意）を経営ビジョンとして掲げ、技術及び品質に優れた製品及びサービスの提供による顧客満足度の向上、事業の持続的成長と高い収益力を備え、将来に向けた新たな成長を切り開くため、下記 (5） における「事業上及び財務上の対処すべき課題」に取り組むことにより、企業価値の向上に努めてまいります。 (3）経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等 当社グループは、次期（平成31年３月期）の連結売上高50,000百万円、同経常利益12,100百万円（売上高経常利益率24.2%）を目指し、中期的には、持続的成長に向けた資源投入と財務体質の改善の両立を図ります。 (4）経営環境 次期の経済見通しにつきましては、依然として不透明な状況が続いておりますが、全体としては、緩やかな回復が見込まれます。 半導体業界につきましては、スマートフォン及びストレージ等の需要を背景に、半導体微細化投資を進める動きは継続すると予想されます。 また、マスク製造装置市場におきましても、先端半導体メーカーの旺盛な需要により、マスク描画装置の市場は堅調に推移すると予想されます。 このような情勢下、当社グループといたしましては、主力の電子ビームマスク描画装置における次世代機の開発を完了させるとともに、現世代機への需要に応えることに加え、マスク検査装置・エピタキシャル成長装置の拡販及び次世代装置開発に注力するとともに、経営全般における効率化・合理化に努めてまいります。 また、中長期的視点に立ち、将来の新事業領域等の開拓のため、ウェハ検査装置の要素技術開発等の研究開発投資を加速いたします。 (5）事業上及び財務上の対処すべき課題 １．…
経営成績・財政状態の概況
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３【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1) 経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下「経営成績等」という。）の状況の概要は次のとおりであります。 ① 財政状態及び経営成績の状況 当連結会計年度における経済環境は、年度の初めから、個人消費や設備投資に持ち直しの動きがみられ、企業収益や雇用情勢にも改善傾向がみられました。また、年度の後半におきましても、企業収益や雇用情勢に改善がみられ、設備投資に緩やかな増加の動きもみられる等、総じて、景気は緩やかな回復基調が続きました。 半導体業界においては、タブレット型端末やパソコン需要は低迷したものの、スマートフォン市場及びストレージ市場が堅調に推移したことで、フラッシュメモリやロジック半導体等の増産向け設備投資が高水準を維持し、アジア地域を中心に半導体需要は好調に推移し、半導体関連の設備投資も好調に推移しました。 また、パワー半導体市場では、次世代パワー半導体として期待される、SiCパワー半導体関連の設備投資を開始する動きもみられました。 一方、マスク製造装置市場は、ロジック半導体メーカー、ファウンドリーメーカーを中心に、7ナノメートル以降の微細化投資が引き続き堅調に推移したことで、マスク関連全体の設備投資は総じて堅調に推移しました。また、中国におけるマスク製造においても微細化を加速する動きがみられました。 このような環境のもとで、当社グループは、主力の電子ビームマスク描画装置及びSiCエピタキシャル成長装置等の拡販に努めてまいりました。 a.財政状態 当連結会計年度末の資産合計は、前連結会計年度末に比べ12,314,423千円増加し、95,233,949千円となりました。 当連結会計年度末の負債合計は、前連結会計年度末に比べ6,629,836千円増加し、28,716,978百万円となりました。 当連結会計年度末の純資産合計は、前連結会計年度末に比べ5,684,587千円増加し、66,516,970千円となりました。 b.経営成績 当連結会計年度の経営成績は、売上高41,555,301千円(前年同期比12.9%減)、営業利益9,303,800千円（前年同期比29.2%減)、経常利益9,522,391千円（前年同期比29.3%減）、親会社株主に帰属する当期純利益7,063,285千円(前年同期比27.6%減)となりました。 セグメントごとの経営成績につきましては、当社グループは半導体製造装置及び同部品の製造販売事業の単一セグメントであるため記載を省略いたします。 ② キャッシュ・フローの状況 当連結会計年度における現金及び現金同等物（以下「資金」という。…
セグメント関連
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/ 原文長 約231文字
【セグメント情報】 Ⅰ 前連結会計年度（自 平成28年４月１日 至 平成29年３月31日） 当社グループは、同一セグメントに属する半導体製造装置及び同部品の製造販売を行っており、当該事業 以外に事業の種類がないため、記載を省略しております。 Ⅱ 当連結会計年度（自 平成29年４月１日 至 平成30年３月31日） 当社グループは、同一セグメントに属する半導体製造装置及び同部品の製造販売を行っており、当該事業 以外に事業の種類がないため、記載を省略しております。
主要な顧客・販売先
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/ 原文長 約2568文字
２．販売実績の総販売実績に対する割合が10％以上の相手先は次のとおりであります。 （アルファベット順） Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. Intel Corporation Samsung Electronics Co., Ltd. SK Hynix Inc. Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. ３．販売先との各種契約において秘密保持条項が規定されているため、社名は欄外表示とさせていただきます。 ２．上記の金額には消費税等は含まれておりません。 (2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。 ① 重要な会計方針及び見積り 当社グループの連結財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づき作成されております。 この連結財務諸表の作成にあたり、決算日における資産・負債の報告数値、報告期間における収益・費用の報告数値に影響を与える見積及び仮定設定を行わなければなりません。当社は、主に引当金、退職給付債務及び費用、繰延税金資産等に対して継続して評価を行っております。これらの見積りについては過去の実績等を勘案し、当連結会計年度末時点において合理的に判断しておりますが、見積特有の不確実性があるため、実際の結果と異なる可能性があります。 ② 当連結会計年度の経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容 a.経営成績等 １）財政状態 （資産合計） 当連結会計年度末における総資産の残高は、前連結会計年度末から 12,314,423千円増加し、95,233,949千円となりました。 主な内容は、グループ預け金の増加40,000,000千円、仕掛品の増加2,195,539千円、投資有価証券の増加1,230,978千円等に対し、現金及び預金の減少30,144,024千円、受取手形及び売掛金の減少1,897,893千円等が相殺されたことによるものであります。 （負債合計） 当連結会計年度末における負債の合計は、前連結会計年度末から6,629,835千円増加し、28,716,978千円となりました。主な内容は、 前受金の増加 5,605,632千円 等 によるものであります。 （純資産合計） 当連結会計年度末における純資産は、前連結会計年度末から5,684,587千円増加し、66,516,970千円となりました。…