株式会社昭和真空

証券コード: 6384.T / 対象年度: 2026 / 提出日: 2026-06-25
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

同社は真空技術を用いた薄膜形成装置の製造販売を行っており、アルバックグループの一員として安定した事業基盤を有しています。AIやデータセンター関連の需要拡大を追い風に、売上高および利益ともに成長傾向にあり、財務体質も健全です。主なリスクはデバイスメーカーの設備投資動向や為替変動ですが、これらは業界特有の要因であり、強固な技術力とグループの連携により管理可能な範囲内と判断されます。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を核とした高度な電子部品・光学デバイス向け装置の開発において、AIやEV等の成長分野への適応に向けた戦略が明確。資本効率(ROE10%以上)を意識した経営姿勢と、強固な研究開発体制によるニッチトップの確立を目指す方針が示されている。

成長方針

AI、データセンター、航空宇宙、5G、EV/SDV等の成長分野における高精度電子部品需要への対応。市場別戦略の明確化、受注体制の高度化、品質基軸の設計生産体制の強化、次世代人材育成によるニッチトップの確立を目指す。

資本政策

ROE10%以上を目標とし、資本コストや株価を意識した経営の実現。収益基盤の強化による業績向上と安定的な株主還元の継続を目指す。

リスク対応方針

需要変動に対する機動的な生産調整、積極的なコストダウンの推進、重要資材の在庫確保と仕入先の分散、知的財産権の保護、為替リスクを円建取引で抑制、情報セキュリティ対策の強化等、多角的なリスク管理体制を構築。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は真空技術を核とした高度な薄膜形成装置のニッチトップを目指す企業。AIや航空宇宙といった成長分野へのシフトを見据えた積極的なR&D投資を行っており、特に高周波対応や光学部品など、次世代インフラに不可欠な技術領域での競争力を強化している。強固なグループ基盤と独自の技術開発体制により、市場の高度化・複雑化に対応する姿勢が明確である。

設備投資の方向性

基礎研究分野の充実および生産効率の向上を主眼とした投資。特に開発部門への重点的な投資を行い、高度な技術要求への対応とコストダウンの両立を目指している。

研究開発・商品開発

水晶デバイスの高周波化・ウエハプロセス化、光学部品(DOE等)の量産に向けた技術確立、粉体材料向けスパッタリング装置の拡充など、成長分野に向けた先端技術開発に注力。受託実験体制の強化による顧客支援も推進。

投資・変化テーマ

  • AI・データセンター関連需要への対応
  • 航空宇宙ビジネスの進展
  • 5G/次世代通信技術への対応
  • EV(電気自動車)およびSDV化への対応
  • 高度な光学部品(DOE等)の成膜技術

関連キーワード

  • 真空技術
  • 薄膜形成装置
  • スパッタリング
  • エッチング
  • 水晶デバイス
  • 光学デバイス
  • 粉体材料向け装置

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 93.2 億円 抽出
営業利益 11.1 億円 抽出
経常利益 11.7 億円 抽出
税引前利益 11.7 億円 抽出
当期純利益 8.7 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 151.7 億円 抽出
純資産 121.7 億円 抽出
自己資本 114.6 億円 抽出
現金等 60.4 億円 抽出
有利子負債 5.5 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 20.5 億円 抽出
投資CF -4.7 億円 抽出
財務CF -4.4 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 80.20% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 80.23% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 11.93% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 9.30% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 7.57% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 5.72% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 22.01% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 3.62% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 39.79% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 80.20% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 75.53% 計算
純資産比率(計算参考) 80.23% 計算

この企業の分析履歴

分析タイムラインを見る

この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

年度 提出日 docID 表示
2026 表示中 2026-06-25 S100YKGJ この年度を見る
2025 2025-06-25 S100W5GW この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2026Q2
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

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