株式会社昭和真空

証券コード: 6384.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-06-25

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

同社は真空技術を核としたニッチ市場で強固な地位を確立しており、アルバックグループの一員として安定した経営基盤を有しています。直近の業績では大幅な増益を達成しており、高い技術力と積極的な研究開発投資が成長を牽引しています。財務面でも豊富な現預金を保有しており、非常に健全な状態です。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は真空技術を核としたニッチ市場で高い競争力を持ち、高度なカスタマイズ対応と積極的なR&D投資により成長を目指す。ROE10%以上の目標設定やJ-ESOPの導入など、資本効率と株主還元の意識が明確であり、強固な技術基盤と戦略的な事業展開が見込める。

成長方針

「成長するニッチ市場へのフォーカス」と「技術力による差別化」を軸に、5G、AI、AR/VR、次世代自動車(EV等)に関連する高精度な電子部品需要を取り込む。R&D投資を通じて新製品開発および受託実験体制の強化を図り、独自の強みを確立する。

資本政策

ROE10%以上を目標に掲げ、収益基盤の強化による業績向上と安定的な株主還元の継続を目指す。また、J-ESOP(株式給付信託)制度を導入し、従業員の意欲向上と企業価値の共有を図る方針である。

リスク対応方針

供給網の多様化や在庫確保による調達リスクへの対応、積極的なコストダウンによる価格競争への対抗、情報セキュリティ対策、環境規制(ISO14001)への準拠など、多角的なリスク管理体制を構築している。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

真空技術を核とした高度な薄膜形成技術により、5Gや次世代自動車といった成長分野へ対応する戦略を展開。R&Dへの継続的な投資と生産効率向上に向けた設備投資を通じて、ニッチ市場での競争優位性を確立している。

設備投資の方向性

研究開発部門を中心とした設備投資を行い、高度な技術力の維持と生産効率の向上を追求。特に新製品の開発やサービス拠点の強化に向けた投資を実施。

研究開発・商品開発

5G、AI、次世代自動車等の成長市場を見据え、高精度・多機能な薄膜形成装置の研究開発に注力。水晶デバイスの小型化対応や光学部品の量産化技術など、具体的かつ戦略的な製品開発を推進。

投資・変化テーマ

  • 5G/AI/AR/VR向け高度な電子部品
  • 次世代自動車(EV・SDV)関連技術
  • 真空技術の高度化と自動化
  • 生産効率向上に向けた設備投資
  • サービス事業の拡大による収益基盤強化

関連キーワード

  • 真空蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • 薄膜形成技術
  • 水晶デバイス
  • 光学デバイス
  • エッチング装置
  • DOE表面加工

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 84.8 億円 抽出
営業利益 7.9 億円 抽出
経常利益 8.4 億円 抽出
税引前利益 8.4 億円 抽出
当期純利益 5.6 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 154.5 億円 抽出
純資産 115.9 億円 抽出
自己資本 110.1 億円 抽出
現金等 48.1 億円 抽出
有利子負債 5.5 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 1.8 億円 抽出
投資CF -3.3 億円 抽出
財務CF -4.4 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 75.00% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 75.01% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 9.34% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 6.63% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 5.10% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 3.64% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 2.11% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 3.56% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 31.15% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 75.00% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 71.27% 計算
純資産比率(計算参考) 75.01% 計算

この企業の分析履歴

分析タイムラインを見る

この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

最新年度を見る
年度 提出日 docID 表示
2026 2026-06-25 S100YKGJ この年度を見る
2025 表示中 2025-06-25 S100W5GW この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100W5GW 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

ランダム