東京応化工業株式会社

証券コード: 4186.T / 対象年度: 2024 / 提出日: 2025-03-28

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 1 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体・ディスプレイ向け高機能材料において強固な技術的地位を確立しており、特に先端レジスト分野での競争力が非常に高い。財務面では自己資本比率が70%を超え極めて健全であり、積極的な設備投資を行いながらも過去最高益を更新する成長性を維持している。事業リスクとして半導体市場のサイクルや為替変動があるものの、強固な経営基盤と技術的優位性によりコントロール可能な範囲内にある。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 5 / 5

有報ナビによる整理

同社は「TOK Vision 2030」および「tok中期計画2027」に基づき、極めて明確な成長戦略を描いている。特に先端半導体材料における技術的優位性を強みとし、具体的な数値目標を掲げながら、R&D、サプライチェーン、デジタル化の3軸で競争力を強化する方針。財務基盤も強固であり、リスク管理体制も体系的に構築されている。

成長方針

「TOK Vision 2030」に基づき、先端レジストのグローバルシェアNo.1獲得を目指す。微細加工技術と高純度化技術を核とした新領域の創出、サプライチェーンの最適化、デジタル基盤の整備、および高度なR&D体制による次世代半導体・5G関連市場への対応。

資本政策

資本効率(ROE)の向上と、研究開発および安定生産に向けた強固な財務基盤の構築を重視。資金調達力の強化・多様化を進め、適切なリスクテイクの下で積極的な投資を行う方針。

リスク対応方針

為替変動、原材料調達、知的財産、環境規制、情報漏洩など多岐にわたるリスクに対し、独自の管理委員会や規程を整備。特に化学物質の管理やサプライチェーンの強靭化、海外事業における法規制への対応体制を構築。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は先端半導体材料における強固な技術的優位性を背景に、積極的な設備投資と研究開発を行う成長型企業。特にEUVレジスト等の最先端分野でのシェア拡大に向けた生産体制の強化と、DXによる業務効率化・品質向上を統合した戦略を展開しており、次世代半導体市場の成長を捉えるための強固な基盤を有している。

設備投資の方向性

先端半導体需要の拡大を見据え、国内(阿蘇くまもと、郡山)および海外(韓国)において新工場や検査棟の建設など、生産能力の拡充と安定供給体制の構築に向けた積極的な設備投資を実施。

研究開発・商品開発

EUVレジストや高純度化学薬品など、次世代半導体プロセスに不可欠な材料の研究開発に注力。外部機関との連携を含む中長期的な基礎研究と、顧客ニーズを先取りした製品の早期開発・量産体制の確立を両立する戦略をとる。

投資・変化テーマ

  • 先端半導体材料
  • EUVレジスト
  • 高純度化学薬品
  • 生産拠点拡大
  • DX推進

関連キーワード

  • 微細加工技術
  • 極端紫外線用フォトレジスト
  • エキシマレーザー用フォトレジスト
  • 高純度化技術
  • デジタル基盤

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 2,009.7 億円 抽出
営業利益 330.9 億円 抽出
経常利益 345.5 億円 抽出
税引前利益 351.6 億円 抽出
当期純利益 226.8 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 2,819.3 億円 抽出
純資産 2,134.7 億円 抽出
自己資本 1,737.7 億円 抽出
現金等 563.6 億円 抽出
有利子負債 105.4 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 301.5 億円 抽出
投資CF -27.3 億円 抽出
財務CF -154.2 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 71.10% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 75.72% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 16.47% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 11.29% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 13.05% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 8.05% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 15.00% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 3.74% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 19.99% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 71.10% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 61.64% 計算
純資産比率(計算参考) 75.72% 計算

この企業の分析履歴

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この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

最新年度を見る
年度 提出日 docID 表示
2025 2026-03-24 S100XT0N この年度を見る
2024 表示中 2025-03-28 S100VIMD この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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