サステナビリティ
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(1) サステナビリティ 当社グループは、サステナビリティを実現するため、2015年9月の国連サミットで加盟国の全会一致で採択された「持続可能な開発のための2030アジェンダ」で定める2030年までに持続可能でよりよい世界を目指す国際目標であるSDGsの達成に、LGDの供給を通じて貢献しており、加えて企業行動規範の1つとして、地球環境の保全に貢献する活動に積極的に取り組み、持続可能な社会の実現に向けて貢献することを定めております。 ①ガバナンス 当社では、サステナビリティの実現のため、関係各部門がそれぞれの業務分掌に基づき、責任をもって推進しておりますが、原則として四半期に1度の頻度で開催しているリスク管理委員会において、組織横断的に、関係各部門の活動に伴うサステナビリティに関するリスク及び機会を識別し、目標設定を行い、その進捗を管理しております。また、結果については、取締役会に報告しております。 また、後述する人的資本に関する項目以外に、気候変動に関するリスクもテーマとして取り組んでおります。具体的には、当社は、製品の製造過程で多くの電力を消費しており、CO2排出量を削減することは、重要な課題となっております。本社及び横江工場においては再生可能エネルギーで発電した電力を使用しておりますが、島工場と開発部においては再生可能エネルギーを使用した電力の使用を行っておりません。今後可能な限り早期に、島工場と開発部においても、再生可能エネルギーを使用した電力に切り替える計画です。 また、島工場のCO2排出量削減のため、2025年3月期において同工場に太陽電池を設置し、昼間に消費する電力の一部を太陽電池で賄うことを開始いたしました。これにより、同工場の昼間の電力使用量の約6%の電力を、この太陽電池によって賄っておりますが、引き続きCO2排出量削減に取り組んでまいります。 ②リスク管理 当社では、サステナビリティに関するリスクを含むリスク全般について、リスク管理の全社的推進とリスク管理に必要な情報の共有化を図ることを目的とし、原則として四半期に1度の頻度で開催しているリスク管理委員会において、発生したリスク及び予想されるリスクの評価や対応等に関する審議をしております。当該リスク管理委員会において、サステナビリティに関するリスク及び機会を識別、評価し、発生可能性と影響度合により、優先順位付けを行って、回避、軽減するか受容するか等の対策の決定を行うとともに、対策の進捗を管理しております。また、結果については、取締役会に報告しております。 ③SMETA (Sedex Members Ethical Trade Audit)を受審する計画 当社は宝石の供給を行う上でSMETAの監査に合格することが必要と考え、所定の手続きを開始しています。…
研究開発活動
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(2) 新製品に関する研究開発 当社グループが想定している新製品は、応用分野によって分かれており、以下のとおりであります。 ①ダイヤモンド半導体デバイス開発等に必要な素材の開発 a.ウエハの開発 ダイヤモンド半導体デバイス等の製作において必須の素材であり、2インチウエハの実用化を目指しています。当社グループは2024年11月に大型ウエハ開発のロードマップを開示しました。そこには以下のような順序で開発を行うことを表明しました。 ①25x25mm以上の単結晶開発 ②1インチウエハの開発 ③4個の25x25mm単結晶の接続によって、2インチモザイクウエハの開発 ④50x50mm単結晶の開発 ⑤5個の50x50mm単結晶の接続によって、4インチウエハの開発 このロードマップの①は2025年2月に到達する計画としましたが、2025年2月13日に30x30mm単結晶の実用化を開示することができ、この期限を守ることに成功しました。この大型単結晶の開発は、地道な単結晶の大型化を進めてきた成果であり、世界最大の単結晶を開発した成果として各方面から注目を浴びました。 1インチウエハは、この大型単結晶を切断することで製作できますが、表面状態やエッジの処理等の付帯的な加工技術が必要で、当連結決算年度には実用化できませんでした。 b.各種エピタキシャル基板の開発 現在開発が進められているダイヤモンドデバイスは、パワーデバイス、耐放射線デバイスから量子デバイスまで多岐に渡っています。各開発においては特性の異なったダイヤモンドが要求されます。特に、ダイヤモンド単結晶基板上に不純物原子をドーピングしたり、高純度の薄い膜を形成した、エピタキシャル基板が必要な場合が多くあります。開発するデバイスによって異なる要求に応えるため、当社グループは以前からB(ボロン)をドーピングするエピタキシャル成長技術を開発し、低濃度及び高濃度のエピ成長基板を販売してきました。 近年、デバイスの構成上、層間の絶縁特性を従前以上に要求される場合があり、N(窒素)をドーピングしたエピタキシャル層を新たに製品に加えました。このNドーピング層と、何も不純物が無いノンドープ層を、低抵抗Bドーピング基板上に形成することについても依頼が多数あり、このような構造のエピ基板も出荷しております。 この様に多様なユーザーからの要求に対応するには、当社グループのエピ成長装置が不足していることが判明しましたので、装置を増強すべく、生産部においてこのための装置改造に着手しました。2025年8月にはこの設備が整い、生産能力が従来の2倍に増強できる見込みです。 c.当社グループが出荷できる各種の基板 既に発売して来た各種の基板、エピ成長基板をまとめると、当社グループは以下の表のようなラインナップを持っております。…
設備投資等の概要
抽出本文
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2【主要な設備の状況】 当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。 (1)提出会社 2025年3月31日現在 事業所名 (所在地) 設備の内容 帳簿価額(千円) 従業員数 建物及び 構築物 機械及び装置 土地 その他 合計 (名) (面積㎡) 本社 (大阪府豊中市) 事務所 6,076 [655] 1,873 7,950 17(1) 横江工場 (大阪府茨木市) 生産関連設備等 47,937 194,251 [1,859] 1,838 244,027 24(3) 開発部の拠点 (大阪府茨木市) 研究開発機械装置等 46,307 67,127 [855] 956 114,392 5(-) 島工場 (大阪府茨木市) 生産関連設備等 603,214 492,067 [2,213] 4,706 1,099,989 21(7) (注)1.現在休止中の主要な設備はありません。 2.従業員は就業人員であり、また、( )は、嘱託社員及びパート並びに派遣社員の人員数を外書しております。 3.建物の帳簿価額には、資産除去債務に相当する金額を含めておりません。 4.帳簿価額のうち、「その他」は工具、器具及び備品であります。 5.建物及び土地の一部を賃借しております。年間賃借料は本社が9,600千円、横江工場が17,400千円、開発部が7,800千円、島工場が24,000千円の合計58,800千円であります。なお、賃借している土地面積は[ ]で外書きしております。 6.当社グループはダイヤモンド単結晶の製造、販売、開発事業の単一セグメントであるため、セグメント別の記載をしておりません。 7.上記表に建設仮勘定は含まれておりません。 (2)国内子会社 記載すべき重要な設備はありません。 (3)在外子会社 記載すべき重要な設備はありません。