株式会社ジェイテックコーポレーション

証券コード: 3446.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-09-26
年度切替

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 2 / 5

有報ナビによる整理

同社は高度なナノ加工技術を基盤としたオプティカル事業、ライフサイエンス事業を展開するニッチトップ企業です。当期は売上高がほぼ横ばいである一方で、人件費の増加や研究開発投資の拡大により営業利益・純利益が大幅に減少しており、コスト構造の変化に対する注視が必要です。しかし、独自の技術的優位性は高く、キャッシュフローも安定しており、中長期的な成長に向けた投資を継続しています。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

独自のナノ加工・計測技術を核に、放射光施設向け光学機器、ライフサイエンス、分析装置の3分野で強固な地位を築く。成長戦略「Innovation2030」に基づき、人的資本やDXへの投資を通じて経営基盤を強化しつつ、半導体や宇宙といった高成長市場への展開を加速させる方針である。

成長方針

「Innovation2030」を掲げ、人的資本の向上(新人事制度)、DX推進(クラウドERP導入)、IR強化による企業価値向上を推進。事業面では、オプティカル事業の半導体・宇宙分野への展開加速、ライフサイエンスにおける自動化技術の普及、その他事業での海外販路拡大と研究開発のシナジー創出を図る。

資本政策

資本・資産効率の向上と、バランスの取れた成長投資による持続的成長を目指す。中長期的に資本コストや市場評価を意識した健全な財務基盤の構築と、信用力の向上を図る方針。

リスク対応方針

外注先の多角化による特定企業への依存低減、DX推進による業務効率化、知的財産権の保護と情報セキュリティ体制の強化(認証取得等)、および高度専門人材の確保に向けた教育・人事制度の整備によりリスクに対応する。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社はナノメートルレベルの超高精度加工技術を核とした技術集約型企業。主力のオプティカル事業では世界的な放射光施設向けミラーを提供し、ライフサイエンス・機器開発事業では半導体材料(SiC, GaN等)向けの高度な研磨装置や自動細胞培養システムを展開。産学連携による強固な研究基盤と「Innovation2030」戦略を通じたDX推進、人的資本への投資により、先端技術の競争優位性を維持しながら成長を目指す体制を構築している。

設備投資の方向性

オプティカル事業におけるX線ナノ集光ミラー製造用の加工装置および測定器の更新・導入に重点を置いた投資を実施。生産効率の向上と、高度な技術要求への対応に向けた設備強化を進めている。

研究開発・商品開発

産学連携を軸とした強固な研究基盤を持ち、X線光学の次世代製品開発に加え、半導体材料(SiC, GaN, ダイヤモンド等)の表面研磨技術やライフサイエンス分野の自動化装置の開発に積極的に投資。特に高度なナノ加工・計測技術の高度化と実用化に向けた共同研究を推進している。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置・材料加工
  • 次世代パワーデバイス(SiC, GaN)向け研磨技術
  • 放射光・X線光学システム
  • ライフサイエンス自動化装置

関連キーワード

  • ナノメートル精度
  • OsakaMirror
  • プラズマ援用研磨法(PAP)
  • 触媒基準エッチング法(CARE)
  • 電気化学機械研磨法(ECMP)
  • 自動細胞培養装置

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 19.3 億円 抽出
営業利益 1.1 億円 抽出
経常利益 1.0 億円 抽出
税引前利益 1.0 億円 抽出
当期純利益 6,035 万円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 36.9 億円 抽出
純資産 27.8 億円 抽出
自己資本 27.8 億円 抽出
現金等 7.1 億円 抽出
有利子負債 4.5 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 2.9 億円 抽出
投資CF -1.0 億円 抽出
財務CF -7,991 万円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 75.30% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 75.26% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 5.91% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 3.13% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 2.17% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 1.64% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 14.88% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 12.11% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 19.32% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 75.30% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 75.26% 計算
純資産比率(計算参考) 75.26% 計算

この企業の分析履歴

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年度 提出日 docID 表示
2025 表示中 2025-09-26 S100WRL1 この年度を見る

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
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技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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