株式会社ブイ・テクノロジー

証券コード: 7717.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-06-26

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 2 / 5

有報ナビによる整理

半導体およびFPD装置の主力事業において、売上・利益ともに前年比で大幅な成長を遂げており、受注残高も良好です。監査等委員会への移行によるガバナンス体制の強化や、農業・IT分野への多角化によりリスク分散を図る姿勢が見られます。地政学的リスクやサプライチェーンの課題は存在するものの、強固な技術基盤と経営体制により安定した運営が期待されます。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体およびFPD装置を主軸とし、高度な技術力と「パッケージ戦略」により成長を目指す。R&Dへの投資やM&Aを通じた多角化を進める一方で、地政学的リスクや生産委託の課題に対し、現地生産や内製化などの具体的対策を講じており、強固な経営基盤の構築に努めている。

成長方針

「パッケージ戦略」に基づき、半導体・FPD分野の成長領域で高付加価値製品を展開。アドバンスドパッケージやフォトマスク関連での技術革新、M&Aによる事業基盤獲得、およびR&D拠点の集約(YRPイノベーションセンター)を通じた競争力の強化と多角的な製品展開を推進。

資本政策

安定的な低コストでの資金調達を基本方針とし、運転資金および投資(設備投資やM&A)に向けた資金確保に努める。流動性確保のため当座貸越契約を活用し、事業拡大に必要な資金を計画的に調達する体制を構築。

リスク対応方針

生産委託への対応としてパートナーとの連携強化や重要部材の内製化を進め、供給体制の安定化を図る。地政学的リスクに対しては中国現地生産の活用等で対応し、知的財産権の保護や多角的な事業展開により市場変動に対する耐性を高める。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社はFPDおよび半導体製造装置の主要メーカーとして、特に成長性の高い半導体分野での「パッケージ戦略」を推進。YRPイノベーションセンターを通じた研究開発への集中投資と、DX推進に向けた組織再編により、次世代技術(露光、検査等)における競争優位性の確立を目指している。

設備投資の方向性

サーバーおよびPCの購入を中心としたIT基盤への投資に加え、研究開発拠点の集約による技術革新と生産効率の向上に向けた設備投資を推進。

研究開発・商品開発

半導体・フォトマスク分野における高度な技術(露光、検査、レーザー等)に注力。YRPイノベーションセンターを設立し、分散していた開発機器を集約することで、現場での知見獲得と新製品への迅速な展開を目指す。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置
  • アドバンスドパッケージ
  • FPD(フラットパネルディスプレイ)装置
  • DX推進
  • 次世代露光・検査技術

関連キーワード

  • 露光技術(Direct Imaging)
  • 電気検査技術
  • フェムト秒レーザ
  • フォトマスク
  • YRPイノベーションセンター
  • 高度な光学式パターン検査

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 連結 会計基準: IFRSまたはIFRS類似

損益

項目 区分
売上高 461.8 億円 抽出
営業利益 18.2 億円 抽出
経常利益 18.9 億円 抽出
税引前利益 13.8 億円 抽出
当期純利益 8.0 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 732.0 億円 抽出
純資産 335.8 億円 抽出
自己資本 323.8 億円 抽出
現金等 261.2 億円 抽出
有利子負債 212.4 億円 計算 / 複数XBRLタグの合算値

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 53.4 億円 抽出
投資CF -14.7 億円 抽出
財務CF -4.7 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 45.80% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 45.88% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 3.94% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 1.73% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 2.47% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 1.09% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 11.57% 計算 / 営業CF / 売上高
有利子負債比率 29.02% 計算 / 有利子負債 / 総資産
現金等比率 35.69% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 45.80% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 44.24% 計算
純資産比率(計算参考) 45.88% 計算

この企業の分析履歴

分析タイムラインを見る

この企業について、有報ナビで確認できる年度別の分析一覧です。 年度を選択すると、その年度の分析ページに切り替わります。

最新年度を見る
年度 提出日 docID 表示
2026 2026-06-24 S100YITH この年度を見る
2025 表示中 2025-06-26 S100W6ME この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100W6ME 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

ランダム