提出日
2025-06-25
2025-06-25
同じ企業の2つの年度について、有価証券報告書に記載された内容の整理結果を並べて確認できます。
| 項目 | 2025年度 | 2025年度 |
|---|---|---|
| 提出日 | 2025-06-25 | 2025-06-25 |
| docID | S100W5W0 | S100W5W0 |
| リスク開示の整理 | 同社は研磨技術を核とした製品事業および受託事業を展開しており、特に半導体やデータセンター関連のハイテク分野で強みを持っています。直近の決算では、受託事業が赤字であるものの、製品事業の好調により大幅な増収増益(黒字転換)を達成しています。地政学的リスクや技術革新による代替リスクは存在するものの、次世代半導体材料への対応など戦略的な投資を行っており、財務基盤も安定しています。 | 同社は研磨技術を核とした製品事業および受託事業を展開しており、特に半導体やデータセンター関連のハイテク分野で強みを持っています。直近の決算では、受託事業が赤字であるものの、製品事業の好調により大幅な増収増益(黒字転換)を達成しています。地政学的リスクや技術革新による代替リスクは存在するものの、次世代半導体材料への対応など戦略的な投資を行っており、財務基盤も安定しています。 |
| 投資・研究開発・成長施策の整理 | 同社は「研磨」のコア技術を基盤に、次世代半導体(SiC/GaN)やAIインフラ関連など成長性の高い領域へ戦略的に投資を行っています。単なる受託からエンジニアリングサービスへの転換を目指しており、DXによるスマートファクトリー化や高度な研究開発を通じて競争優位性を確立しようとする意欲的な姿勢が見られます。 | 同社は「研磨」のコア技術を基盤に、次世代半導体(SiC/GaN)やAIインフラ関連など成長性の高い領域へ戦略的に投資を行っています。単なる受託からエンジニアリングサービスへの転換を目指しており、DXによるスマートファクトリー化や高度な研究開発を通じて競争優位性を確立しようとする意欲的な姿勢が見られます。 |
| 経営方針・課題の整理 | 高度な研磨技術を核に、単なる製造から「エンジニアリングサービス」への変革を推進。AIや次世代半導体といった成長分野での強固なR&D体制と、DXによる生産基盤の強化を組み合わせることで、中長期的な競争優位性の確立を目指す戦略が明確である。 | 高度な研磨技術を核に、単なる製造から「エンジニアリングサービス」への変革を推進。AIや次世代半導体といった成長分野での強固なR&D体制と、DXによる生産基盤の強化を組み合わせることで、中長期的な競争優位性の確立を目指す戦略が明確である。 |
2025-06-25
2025-06-25
S100W5W0
S100W5W0
同社は研磨技術を核とした製品事業および受託事業を展開しており、特に半導体やデータセンター関連のハイテク分野で強みを持っています。直近の決算では、受託事業が赤字であるものの、製品事業の好調により大幅な増収増益(黒字転換)を達成しています。地政学的リスクや技術革新による代替リスクは存在するものの、次世代半導体材料への対応など戦略的な投資を行っており、財務基盤も安定しています。
同社は研磨技術を核とした製品事業および受託事業を展開しており、特に半導体やデータセンター関連のハイテク分野で強みを持っています。直近の決算では、受託事業が赤字であるものの、製品事業の好調により大幅な増収増益(黒字転換)を達成しています。地政学的リスクや技術革新による代替リスクは存在するものの、次世代半導体材料への対応など戦略的な投資を行っており、財務基盤も安定しています。
同社は「研磨」のコア技術を基盤に、次世代半導体(SiC/GaN)やAIインフラ関連など成長性の高い領域へ戦略的に投資を行っています。単なる受託からエンジニアリングサービスへの転換を目指しており、DXによるスマートファクトリー化や高度な研究開発を通じて競争優位性を確立しようとする意欲的な姿勢が見られます。
同社は「研磨」のコア技術を基盤に、次世代半導体(SiC/GaN)やAIインフラ関連など成長性の高い領域へ戦略的に投資を行っています。単なる受託からエンジニアリングサービスへの転換を目指しており、DXによるスマートファクトリー化や高度な研究開発を通じて競争優位性を確立しようとする意欲的な姿勢が見られます。
高度な研磨技術を核に、単なる製造から「エンジニアリングサービス」への変革を推進。AIや次世代半導体といった成長分野での強固なR&D体制と、DXによる生産基盤の強化を組み合わせることで、中長期的な競争優位性の確立を目指す戦略が明確である。
高度な研磨技術を核に、単なる製造から「エンジニアリングサービス」への変革を推進。AIや次世代半導体といった成長分野での強固なR&D体制と、DXによる生産基盤の強化を組み合わせることで、中長期的な競争優位性の確立を目指す戦略が明確である。
※ この比較は、各年度の有価証券報告書分析を横並びで表示するものです。 企業評価・投資判断・将来予測を行うものではありません。
金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。
| 項目 | 2025年度 | 2025年度 |
|---|---|---|
| 財務スコア |
5 / 5
計算
|
5 / 5
計算
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| スコア信頼性 |
標準
抽出条件
|
標準
抽出条件
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| 対象区分 |
通常企業
抽出条件
|
通常企業
抽出条件
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| 会計基準 |
IFRS系
抽出条件
|
IFRS系
抽出条件
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| 連結/単体 |
連結
抽出条件
|
連結
抽出条件
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| 売上高 |
111.7億円
抽出
|
111.7億円
抽出
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| 営業利益 |
9.4億円
抽出
|
9.4億円
抽出
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| 経常利益 |
8.6億円
抽出
|
8.6億円
抽出
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| 当期純利益 |
9.1億円
抽出
|
9.1億円
抽出
|
| 営業CF |
16.0億円
抽出
|
16.0億円
抽出
|
| 投資CF |
-7.0億円
抽出
|
-7.0億円
抽出
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| 財務CF |
-10.6億円
抽出
|
-10.6億円
抽出
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| 総資産 |
159.3億円
抽出
|
159.3億円
抽出
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| 純資産 |
84.6億円
抽出
|
84.6億円
抽出
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| 自己資本 |
81.0億円
抽出
|
81.0億円
抽出
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| 現金等 |
23.1億円
抽出
|
23.1億円
抽出
|
| 有利子負債 |
52.2億円
計算
|
52.2億円
計算
|
| 自己資本比率 |
53.1%
抽出(有報掲載値優先)
|
53.1%
抽出(有報掲載値優先)
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| 純資産比率 |
53.1%
計算
|
53.1%
計算
|
| 営業利益率 |
8.4%
計算
|
8.4%
計算
|
| 純利益率 |
8.2%
計算
|
8.2%
計算
|
| ROE |
11.3%
計算
|
11.3%
計算
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| ROA |
5.7%
計算
|
5.7%
計算
|
| 営業CFマージン |
14.3%
計算
|
14.3%
計算
|
| 有利子負債比率 |
32.8%
計算
|
32.8%
計算
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| 現金等比率 |
14.5%
計算
|
14.5%
計算
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| 利益率信頼性 |
高
抽出条件
|
高
抽出条件
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