東洋合成工業株式会社

証券コード: 4970.T / 対象年度: 2025 / 提出日: 2025-06-23

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

β版のため、一部の表現に機械的な要約や不自然な記述が含まれる場合があります。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

詳細整理

以下は、有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示注意度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示注意度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針具体度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化姿勢
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。
財務スコア(計算)
スコアが高いほど、有価証券報告書XBRLから取得できた主要財務指標に基づく 参考上の安定性・収益性などが相対的に良好に見えることを表します。 XBRLからの機械抽出値をもとに計算しており、 企業の財務力を完全に評価するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示注意度: 2 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体およびFPD向け感光性材料、高純度溶剤などの化学製品を主力としており、特に生成AIの普及に伴う先端半導体市場の追い風を背景に成長基調にある。中期経営計画「Beyond 500」に基づき設備投資と技術開発を積極的に進めており、売上・利益ともに伸長している。リスク要因としては、原材料価格の高騰や為替変動、高い有利子負債比率が挙げられるが、事業の安定性と成長性は高く評価できる。

経営方針・課題の整理

方針具体度: 5 / 5

有報ナビによる整理

同社は『Beyond 500』という野心的な中期経営計画のもと、先端半導体材料分野での技術的優位性を確立しつつ、生産性向上やDX推進を通じて成長を目指す。強固なR&D体制とリスク管理体制を背景に、安定した事業基盤の上で高付加価値領域へのシフトを鮮明にしている。

成長方針

中期経営計画『Beyond 500』に基づき、半導体・FPD向け高純度合成技術の高度化、DXによる生産性向上、および先端材料(EUV用等)や新規分野(ナノテクノロジー、ライフサイエンス)への研究開発投資を加速し、売上高500億円以上を目指す。

資本政策

財務体質の強化に向けた借入金比率の低減、および成長分野への積極的な設備投資と資金の安定確保を基本方針とする。為替予約等によるリスクヘッジを行い、外貨変動の影響を最小化する。

リスク対応方針

BCP(事業継続計画)の策定とISO 22301取得によるレジリエンス強化、為替予約等による外貨リスクヘッジ、環境・安全管理体制の高度化、および厳格な品質管理と知的財産権の保護により多角的なリスク対応を行う。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化姿勢: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は半導体および電子材料分野における高度な化学技術を核とした成長戦略を展開。特にEUVレジスト関連や先端半導体向けの高純度素材に注力しており、DXによる生産性向上と大規模な設備投資を通じた供給体制の強化を進めている。中期経営計画に基づき、高純度合成・精製技術を武器に世界的な競争力を高める方針である。

設備投資の方向性

感光材開発分析棟の完成や、先端分野向け材料の大規模な新規生産設備への投資を積極的に実施。半導体需要拡大に向けた生産能力増強と、高度な品質管理体制の構築に重点を置いている。

研究開発・商品開発

EUVレジスト用材料を含む感光性材料の開発、高純度溶剤の製造・リサイクル技術の研究、およびナノテクノロジーやライフサイエンスといった新規分野への展開を推進。産学連携による共同研究も積極的に実施している。

投資・変化テーマ

  • 半導体向け感光性材料(EUVレジスト等)
  • 高純度合成・精製技術の高度化
  • 製造工程のDXによるリアルタイム可視化
  • ナノテクノロジーおよびライフサイエンスへの展開
  • サプライチェーンの強靭化と自動化

関連キーワード

  • 高純度合成
  • フォトレジスト
  • EUVレジスト
  • 高度な品質管理
  • ナノテクノロジー
  • 生産性向上
  • 自動化

財務指標の簡易整理

金額項目は有価証券報告書XBRLから機械抽出した値です。 比率・スコアには抽出値をもとに計算した参考値が含まれます。 計算値は「計算」と明記しています。

財務スコア(計算): 5 / 5

抽出・計算条件

スコア信頼性: 標準 利益率信頼性: 高 対象: 単体 会計基準: 不明

損益

項目 区分
売上高 386.6 億円 抽出
営業利益 41.0 億円 抽出
経常利益 40.0 億円 抽出
税引前利益 38.6 億円 抽出
当期純利益 32.8 億円 抽出

財政状態

項目 区分
総資産 658.6 億円 抽出
純資産 248.3 億円 抽出
自己資本 246.0 億円 抽出
現金等 36.0 億円 抽出

キャッシュフロー

項目 区分
営業CF 68.0 億円 抽出
投資CF -119.7 億円 抽出
財務CF 51.9 億円 抽出

主な比率

項目 区分
自己資本比率 37.70% 抽出(有報掲載値) / 有報掲載値を優先
純資産比率 37.70% 計算 / 純資産 / 総資産
営業利益率 10.61% 計算 / 営業利益 / 売上高
純利益率 8.48% 計算 / 当期純利益 / 売上高
ROE 13.33% 計算 / 当期純利益 / 自己資本
ROA 4.98% 計算 / 当期純利益 / 総資産
営業CFマージン 17.57% 計算 / 営業CF / 売上高
現金等比率 5.46% 計算 / 現金等 / 総資産

参考比率

項目 区分
自己資本比率(有報掲載) 37.70% 抽出(有報掲載値)
自己資本比率(計算参考) 37.34% 計算
純資産比率(計算参考) 37.70% 計算

この企業の分析履歴

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年度 提出日 docID 表示
2026 2026-06-23 S100YGHH この年度を見る
2025 表示中 2025-06-23 S100W2KH この年度を見る
最新年度と比較

※ 過去年度の分析は、当時提出された有価証券報告書をもとにした履歴情報です。 現在の企業状況とは異なる場合があります。

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100W2KH 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2025
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

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