東京応化工業株式会社 年度比較

2017年度

主要なリスク：半導体・ディスプレイ市場の循環的な景気変動、技術革新に伴う需要の変化。影響対象：経営成績。対応策：研究開発への投資、複数仕入先の確保、製品責任保険への加入。その他リスク：為替相場の変動、研究開発における成果の不確実性、知的財産権を巡る紛争、原材料調達の遅延・中断および価格高騰、自然災害や火災による生産停止、化学物質流出等の環境リスク、海外事業における法規制遵守、情報漏洩。

2025年度

エレクトロニクス市場（半導体・ディスプレイ）の景気変動および技術革新に伴う需要動向の変化、為替相場の変動による業績への影響、研究開発における成果の不確実性、知的財産権を巡る紛争リスクが挙げられています。また、原材料調達の遅延や価格高騰、製造物責任、自然災害や火災等の事故、化学物質の漏洩等による環境リスク、海外事業における法規制遵守、情報漏洩およびサイバーセキュリティへの対応、気候変動に伴う異常気象や炭素税の影響がリスク要因として特定されています。

2017年度

高度な微細加工技術を核とした材料・装置の二本柱で、特に最先端半導体向け高付加価値製品に強み。中期計画に基づき研究開発への積極投資とグローバル展開を推進しており、安定した財務基盤のもとで成長を目指す。

2025年度

同社はエレクトロニクス材料のトップメーカーとして、生成AI需要を背景とした追い風を受け、非常に明確な成長戦略を描いている。特に先端レジスト分野での強みと、それを支える高度な技術力・生産体制への投資が評価できる。中期経営計画において目標数値を上方修正しており、攻めの姿勢が見られる。

2017年度

半導体およびディスプレイ向けの高機能材料（特に次世代プロセス向けのフォトレジスト）において強固な技術的優位性を有する。EUVや三次元メモリといった最先端分野への積極的な投資と、研究開発棟の新設を含む設備投資により競争力を維持。事業ポートフォリオの変革とグローバル体制の強化を推進中。

2025年度

同社は半導体・ディスプレイ向け高機能材料のトップメーカーとして、特に生成AI需要を背景とした先端レジストや高純度化学薬品に重点投資を行っている。国内外での生産拠点拡大と、高度な微細加工技術・高純度化技術への継続的なR&D投資により、次世代エレクトロニクス市場における競争優位性を確立する戦略をとる。